JP5010881B2 - 検査装置および検査方法 - Google Patents
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Description
103,並進ステージ104の制御に用いられる。
100上にある異物が前記照明スポットを横切る時間は、前記異物が前記半導体ウエハ
100の外周部にあるときは、内周部にあるときに比べ短く、そのため図1に示す光検出器110から増幅回路111を経て得られる散乱光信号の時間変化波形は、一般的に図3に示すように、外周部すなわち前記異物が副走査方向の半径位置が大きい場所にあるほど、信号ピークの半値幅が小さくなる。
100 半導体ウエハ
101 ターンテーブル
102 移動ステージ
103 回転ステージ
104 並進ステージ
105 Zステージ
106 照明光の光源
107 θ座標位置検出機構
108 高精度のθ座標位置検出機構
109 R座標位置検出機構
110 光検出器
111 増幅回路
112 A/D変換回路
113 異物・欠陥判定機構
114 粒径算出機構
115 異物・欠陥座標検出機構
116 位置制御機構
301 内周部の散乱光信号
302 外周部の散乱光信号
400 散乱光信号
401 A/D変換サンプリング信号
402 θ座標信号
413 信号強度
501 ウエハノッチ検出機構
502 θ原点パルス発生機構
503 ウエハノッチ位置信号
504 θパルス信号
505 θ原点パルス信号
Claims (13)
- 被検査体を載置し回転させる回転手段と、
前記回転手段の制御を行う制御機構と、
前記制御機構に利用する前記回転手段の座標を検出する第一の座標検出機構と、
前記被検査体の目印を検出する目印検出機構と、
前記被検査体に光を照射する光源と、
前記光源から前記被検査体に照射された光の散乱光または反射光を電気信号へ変換する変換器と、
前記電気信号を増幅する増幅器と、
前記増幅された信号をデジタル変換するA/D変換器と、
前記A/D変換器で変換されたデジタル信号を処理するデジタル信号処理機構と、
前記デジタル信号を処理するデジタル信号処理機構に利用する前記回転手段の座標を前記第一の座標検出機構とは独立して検出する第二の座標検出機構と、を備え、
前記第二の座標検出機構の精度は前記第一の座標検出機構の精度よりも高いことを特徴とする検査装置。 - 請求項1において、
前記第一の座標検出機構と前記第二の座標検出機構との同期をとるための同期手段を備えた検査装置。 - 請求項2において、
前記同期手段は、前記目印検出機構からの出力に基づいて同期をとることを特徴とする検査装置。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記被検査体は、半導体ウエハであり、前記目印は、半導体ウエハのオリフラであることを特徴とする検査装置。 - 半導体ウエハを載置し回転させるウエハ回転手段と、
前記回転手段の制御を行う制御機構と、
前記制御機構に利用する前記回転手段の座標を検出する回転手段制御用座標検出機構と、
前記ウエハのウエハノッチを検出するウエハノッチ検出機構と、前記ウエハに光を照射する光源と、
前記光源から前記ウエハに照射された光の散乱光を検出する光検出器と、
前記光検出器で検出した散乱光信号を増幅する増幅器と、
前記増幅器で増幅された信号をデジタル変換するA/D変換器と、
前記A/D変換器で変換されたデジタル信号を処理するデジタル信号処理機構と、
前記デジタル信号を処理する機構に利用する前記回転手段の座標を前記回転手段制御用座標検出機構とは独立して検出するデジタル信号処理機構用座標検出機構を備え、
前記デジタル信号処理機構用座標検出機構の精度は前記回転手段制御用座標検出機構の精度より高いことを特徴とする半導体検査装置。 - 請求項5において、
前記回転手段制御用座標検出機構と前記デジタル信号処理機構用座標検出機構の同期をとるための手段を備えた半導体検査装置。 - 請求項5において、
前記回転手段制御用座標検出機構と前記デジタル信号処理機構用座標検出機構に前記ウエハノッチ検出機構によってウエハノッチとの同期をとるための手段を備えた半導体検査装置。 - 被検査体を回転させ、
前記被検査体に光を照射し、
前記被検査体からの散乱光または反射光を電気信号へ変換し、
前記電気信号をデジタル変換して、
前記デジタル変換された電気信号をデジタル処理する検査方法であって、
前記デジタル処理に用いられる位置検出情報と前記回転を制御するための位置検出情報とを独立して得て、
前記デジタル処理に用いられる位置検出情報の精度は前記回転を制御するための位置検出情報の精度よりも高いことを特徴とすることを特徴とする検査方法。 - 請求項8において、
前記回転を制御するための位置検出処理と、前記デジタル処理とは、被検査体上の目印を検出することによって、同期処理されることを特徴とする検査方法。 - 被検査体を載置し回転させる回転部と、
前記回転手段による座標を検出する第一の座標検出部と、
前記第一の座標検出部の検出結果を使用して前記回転部を移動させる移動部と、
前記被検査体に光を照射する照明光学部と、
前記照明光学系から前記被検査体に照射された光の散乱光または反射光をデジタル信号として得る検出部と、
前記デジタル信号を処理するデジタル信号処理部と、
前記デジタル信号処理部が使用する前記回転部の座標を前記第一の座標検出部とは独立して検出する第二の座標検出部と、を備え、
前記第二の座標検出部の精度は前記第一の座標検出部の精度よりも高いことを特徴とする検査装置。 - 請求項10において、
前記第一の座標検出部と前記第二の座標検出部との同期をとるための同期部を有することを特徴とする検査装置。 - 請求項11において、
さらに、前記被検査体の目印を検出する目印検出部を有し、
前記同期部は、前記目印検出部からの出力に基づいて同期をとることを特徴とする検査装置。 - 請求項12において、
前記被検査体は、半導体ウエハであり、前記目印は、半導体ウエハのオリフラであることを特徴とする検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006244976A JP5010881B2 (ja) | 2006-09-11 | 2006-09-11 | 検査装置および検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006244976A JP5010881B2 (ja) | 2006-09-11 | 2006-09-11 | 検査装置および検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008066611A JP2008066611A (ja) | 2008-03-21 |
JP5010881B2 true JP5010881B2 (ja) | 2012-08-29 |
Family
ID=39289023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006244976A Expired - Fee Related JP5010881B2 (ja) | 2006-09-11 | 2006-09-11 | 検査装置および検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5010881B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5564807B2 (ja) * | 2009-03-12 | 2014-08-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
US8934091B2 (en) | 2012-09-09 | 2015-01-13 | Kla-Tencor Corp. | Monitoring incident beam position in a wafer inspection system |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0613962B2 (ja) * | 1985-08-14 | 1994-02-23 | 日立電子株式会社 | Icウエハの自動位置決め装置 |
JP3070745B2 (ja) * | 1989-05-22 | 2000-07-31 | 株式会社日立製作所 | 欠陥検査方法及びその装置並びにそれを用いた半導体の製造方法 |
JPH03102847A (ja) * | 1989-09-16 | 1991-04-30 | Hitachi Ltd | オリエンテーシヨンフラツトの検出方法及び検出装置並びに縮小投影露光装置 |
JPH04121662A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-22 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 超音波顕微鏡の走査方式 |
JPH04196337A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-16 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 異物検査システムにおける異物の位置合わせ方法 |
JPH0961600A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Hitachi Ltd | 走査型x線顕微鏡 |
JPH09321125A (ja) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Jeol Ltd | ウエハのアライメント方法 |
IL123575A (en) * | 1998-03-05 | 2001-08-26 | Nova Measuring Instr Ltd | Method and apparatus for alignment of a wafer |
JP2000124271A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Sony Corp | 欠陥検査装置 |
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JP3671822B2 (ja) * | 2000-07-26 | 2005-07-13 | 株式会社日立製作所 | 欠陥検査方法および欠陥検査システム |
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2006
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JP2008066611A (ja) | 2008-03-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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