JPH09321125A - ウエハのアライメント方法 - Google Patents

ウエハのアライメント方法

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JPH09321125A
JPH09321125A JP13526296A JP13526296A JPH09321125A JP H09321125 A JPH09321125 A JP H09321125A JP 13526296 A JP13526296 A JP 13526296A JP 13526296 A JP13526296 A JP 13526296A JP H09321125 A JPH09321125 A JP H09321125A
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peripheral
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center position
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JP13526296A
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English (en)
Inventor
Noriyuki Kamata
範幸 鎌田
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成で可動部分を少なくしてウエハの
アライメントを行うことができるウエハのアライメント
方法および装置を実現する。 【解決手段】 制御装置12はウエハ3の周囲位置の極
座標値からテーブル7の回転中心Pを原点とする直交座
標系を求める。その後、直交座標系の各位置から、ウエ
ハ3の複数の中心位置が求められる。制御装置12は複
数の中心位置を比較し、一致する2つの中心位置を真の
ウエハ3の中心位置として認識する。次に、ウエハ3の
半径rwと検出した36点の周囲位置における半径rn
とを比較し、2種の半径が異なる周囲位置を検知する。
2種の半径が異なる周囲位置はオリフラ9として直線状
に切り欠かれている部分であり、この周囲位置からオリ
フラ9の傾きθが求められ、オリフラの傾き分θだけウ
エハは回転させられ、オリフラ9の位置は正確にアライ
メントされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの観
察や処理を行う装置において、ウエハをアライメントす
る方法と装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体ウエハ上に形成されたデ
バイス等を走査電子顕微鏡で観察する場合、走査電子顕
微鏡の試料室に接続された予備室においてウエハの一次
アライメントを行い、一次アライメントを行ったウエハ
を試料室に導入して精密なアライメントを行った後、必
要な箇所の観察を行うようにしている。
【0003】図1は従来のこの種装置を示す平面概略
図、図2はその側面概略図であり、図中1は走査電子顕
微鏡の試料室である。試料室1の内部には、X方向とY
方向に移動が可能なステージ2が設けられており、ステ
ージ2上に観察すべきウエハ3が載置される。
【0004】試料室1には隣接して予備室4が取り付け
られており、試料室1と予備室4との間には、詳細には
図示していないが、仕切弁が設けられており、両室は独
立に真空排気されるように構成されている。すなわち、
最初に予備室4にウエハを導入し、予備室4において予
備排気を行い、その後、仕切弁を開けてウエハを試料室
1に導入するようにしている。このように構成すること
により、試料室1内を所定の真空度にするための時間を
短縮でき、また、試料室の汚染を防止することができ
る。
【0005】予備室4においては、アーム5によりウエ
ハ3が搬送され、ウエハ3は駆動軸6上のテーブル7の
上に移動させられる。その後、駆動軸6を上方に駆動
し、テーブル7上にウエハ3を保持してウエハ3を一対
のセンタリングドライブ8の間に移送する。
【0006】一対のセンタリングドライブ8は、その内
側の形状がウエハ3の外側の形状と一致されており、セ
ンタリングドライブ8をその中心に向けて移動し、ウエ
ハ3を挟みつけることにより、センタリングドライブ8
の中心とウエハ3の中心とを一致させる。この動作によ
りウエハ3の中心位置のアライメントが行われる。
【0007】このウエハ3の中心位置のアライメントを
行った後、ウエハ3のオリエンテーションフラット(以
下オリフラという)9のアライメントが行われる。この
場合、テーブル7が回転され、ウエハ3の周囲の位置が
アライメントセンサ10によって検出される。
【0008】アライメントセンサ10は発光部と受光部
とから構成されており、ウエハ3のオリフラ9以外の部
分では、発光部からの光がウエハによって遮断され、受
光部では光を検出しない。一方、オリフラ9部分では発
光部からの光が受光部で検出され、オリフラ9の存在を
認知することができる。
【0009】この結果、テーブル7の回転位置とアライ
メントセンサ10によるオリフラ9の検出により、オリ
フラ9の位置がほぼ正確に検出できる。その後、テーブ
ル7を回転してオリフラ9の位置を正規の位置にアライ
メントする。
【0010】上記動作が終了した後、テーブル7は下降
され、ウエハ3はアーム5上に載せられる。ウエハ3を
載置したアーム5は予備室4から試料室1に移動され、
ウエハ3はステージ2上に配置される。この状態でウエ
ハ3はステージ2上に位置の粗調整が行われた状態でセ
ットされる。なお、アーム5の移動に際しては、試料室
1と予備室4との間の仕切弁は開けられている。
【0011】ステージ2上のウエハ3は位置の微調整が
行われた後、ステージ2によって走査電子顕微鏡像を観
察すべきウエハ3内の領域が走査電子顕微鏡の光軸位置
に移動させられ、良く知られた走査電子顕微鏡像の観察
が実行される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記したウエハのアラ
イメントでは、予備室4においてウエハ3をセンタリン
グドライブ8によって挟みつけ、ウエハ3をテーブル7
上で摺動させることになる。このため、テーブル7に接
触しているウエハ3の裏面は傷が付き、また、発塵の原
因ともなって好ましくない。
【0013】また、ウエハ3の中心位置だしのためにセ
ンタリングドライブ8などの可動部分が含まれており、
それらの機構も発塵源となる。このような発塵源からの
塵は、ウエハ3の観察面上に付着し、試料室1内でのウ
エハ3の観察上支障を来すことになる。
【0014】更に、前記した従来のアライメント機構
は、複雑な構成要素が多数含まれているので、それらを
収納する予備室3の容量を大きくせざるを得ない。この
ため、予備室を真空排気するための時間が長くなると共
に、逆に予備室4を大気圧に戻す際の時間も掛かり、ま
た、大気に戻す際の窒素ガスの量も多くなる。
【0015】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、簡単な構成で可動部分を少なくし
てウエハのアライメントを行うことができるウエハのア
ライメント方法を実現するにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に基づく
ウエハのアライメント方法は、直線状の切り欠きを有し
たウエハをテーブルの上に載せ、テーブルを回転させて
所定角度ごとにウエハの周囲位置を検出し、検出した複
数の周囲位置を複数の組に分け、複数の組ごとにウエハ
の周囲位置に基づいてウエハの仮の中心位置を求め、複
数の組ごとに求められたウエハの仮の中心位置を比較
し、複数の仮の中心位置の中でより多い一致した中心位
置をウエハの真の中心位置とし、次に、真の中心位置を
求めるために用いたウエハの周囲位置からウエハの半径
を求め、検出した複数の周囲位置の中で求めた半径と相
違する半径を有した周囲位置から、直線状の切り欠きの
角度を求め、この角度に応じてウエハを回転させるよう
にしたことを特徴としている。
【0017】請求項1の発明に基づくウエハのアライメ
ント方法は、ウエハの周囲位置を複数箇所検出し、複数
箇所の周囲位置からウエハの仮の中心位置を求め、複数
の仮の中心位置の一致する中心位置を真の中心位置と
し、更に、真の中心位置を求めるために用いたウエハの
周囲位置からウエハの半径を求め、検出した複数の周囲
位置の中で求めた半径と相違する半径を有した周囲位置
から、直線状の切り欠きの角度を求め、この角度に応じ
てウエハを回転させる。
【0018】請求項2の発明に基づくウエハのアライメ
ント方法は、V字状の切り欠きを有したウエハをテーブ
ルの上に載せ、テーブルを回転させて所定角度ごとにウ
エハの周囲位置を検出し、検出した複数の周囲位置を複
数の組に分け、複数の組ごとにウエハの周囲位置に基づ
いてウエハの仮の中心位置を求め、複数の組ごとに求め
られたウエハの仮の中心位置を比較し、複数の仮の中心
位置の中でより多い一致した中心位置をウエハの真の中
心位置とし、次に、真の中心位置を求めるために用いた
ウエハの周囲位置からウエハの半径を求め、検出した複
数の周囲位置の中で求めた半径と相違する半径を有した
周囲位置を検知し、この検知した周囲位置を所定の位置
とするようにウエハを回転させるようにしたことを特徴
としている。
【0019】請求項2の発明に基づくウエハのアライメ
ント方法は、ウエハの周囲位置を複数箇所検出し、複数
箇所の周囲位置からウエハの仮の中心位置を求め、複数
の仮の中心位置の一致する中心位置を真の中心位置と
し、更に、真の中心位置を求めるために用いたウエハの
周囲位置からウエハの半径を求め、検出した複数の周囲
位置の中で求めた半径と相違する半径を有した周囲位置
を検知し、この検知した周囲位置を所定の位置とするよ
うにウエハを回転させる。
【0020】請求項3の発明に基づくウエハのアライメ
ント方法は、切り欠きを有したウエハを予備室内のテー
ブルの上に載せ、テーブルを回転させて所定角度ごとに
ウエハの周囲位置を検出し、検出した複数の周囲位置を
複数の組に分け、複数の組ごとにウエハの周囲位置に基
づいてウエハの仮の中心位置を求め、複数の組ごとに求
められたウエハの仮の中心位置を比較し、複数の仮の中
心位置の中でより多い一致した中心位置をウエハの真の
中心位置とし、テーブルの中心位置とウエハの真の中心
位置との間のずれ量を求め、次に、真の中心位置を求め
るために用いたウエハの周囲位置からウエハの半径を求
め、検出した複数の周囲位置の中で求めた半径と相違す
る半径を有した周囲位置を検知し、この検知した周囲位
置を所定の位置とするようにウエハを回転させ、その後
予備室内のウエハを試料室内の移動ステージ上に搬送す
る際、事前に移動ステージを該ずれ量に応じて移動させ
るようにしたことを特徴としている。
【0021】請求項3の発明に基づくウエハのアライメ
ント方法は、テーブル上に載せられたウエハの周囲位置
を複数箇所検出し、複数箇所の周囲位置からウエハの仮
の中心位置を求め、複数の仮の中心位置の一致する中心
位置を真の中心位置とし、テーブルの中心位置とウエハ
の真の中心位置との間のずれ量を求め、ウエハを試料室
内の移動ステージ上に搬送する際、事前に移動ステージ
を該ずれ量に応じて移動させる。
【0022】
【実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形
態を詳細に説明する。図3は、本発明に基づくウエハの
アライメント装置を示す平面概略図であり、図4はその
側面概略図である。これらの図において、図1,図2と
同一ないしは類似の構成要素には、同一番号を付しその
詳細な説明は省略する。
【0023】図において、試料室1内のテーブル2は、
駆動機構11によって2次元的に移動させられるが、駆
動機構11はコンピュータ等の制御装置12によって制
御される。
【0024】予備室4の内部に、アーム5によってウエ
ハ3が導入され、また、ウエハ3は駆動軸6の昇降によ
り、テーブル7上に載せられることは従来装置と同様で
あるが、駆動軸6は駆動回路13によって駆動されるエ
アシリンダ等の昇降機構14により昇降され、また、駆
動軸6は駆動回路15によって駆動されるモータ16に
よって回転させられる。
【0025】駆動回路13,15は制御装置12によっ
て制御され、また、モータ16による駆動軸6の回転角
(テーブル7の回転角)は、モータ16に接続されたエ
ンコーダ17によって検出される。エンコーダ17から
の信号は制御装置12に供給される。なお、モータ16
と昇降機構14との間にはカップリング18が設けられ
ている。
【0026】予備室4内には、ウエハ3が配置される
が、この配置されたウエハ3の周囲部分の位置を検出す
るために、ラインセンサ19が設けられている。ライン
センサ19は、直線状に並べられた多数の発光素子と受
光素子が備えられており、発光素子と受光素子との間に
ウエハ3が配置される。
【0027】ウエハ3を回転させると、ウエハ3によっ
て遮光される発光素子と受光素子の組み合わせと、ウエ
ハによって光が遮られない発光素子と受光素子の組み合
わせ位置により、ウエハ3の周囲部分(縁部分)の位置
の検出が可能となる。このラインセンサ19の信号は、
検出回路20に供給され、検出回路20によって得られ
た信号は制御装置12に供給される。このような構成の
動作を次に説明する。
【0028】まず、予備室4においては、アーム5によ
りウエハ3が搬送され、ウエハ3は駆動軸6上のテーブ
ル7の上に移動させられる。その後、制御装置12は駆
動回路13を制御し、駆動回路13によって昇降機構を
駆動し、駆動軸6を上方に移動させて、ウエハ3とアー
ム5との接触状態を解除する。
【0029】次に、制御装置12は駆動回路15を制御
し、駆動回路15によってモータ16を回転させる。こ
のときのモータ16の回転角(テーブル7,ウエハ3の
回転角)θnは、エンコーダ17によって検出され、こ
の角度信号は制御装置12に供給される。
【0030】このモータ16によるテーブル7の回転に
伴うウエハ3の周囲部分(縁部分)の位置、すなわち、
テーブル7の回転中心からウエハ3の周囲位置までの距
離r nは、ラインセンサ19によって検出される。この
ウエハ3の周囲位置の検出は、全ての角度で行うことな
く、例えば、ウエハ3が8インチの大きさであれば、1
0°間隔で36回行われる。
【0031】図5,図6は、ウエハ3に対して36か所
その周囲位置を測定する例であり、図5ではオリフラ9
部分を検出した際の周囲位置はPm,Pm+1,Pm+
2の3か所であり、また、図6では、オリフラ9部分を
検出した際の周囲位置はPm,Pm+1,Pm+2,P
m+3の4か所である。
【0032】ところで、ウエハ3の中心位置Oとテーブ
ル7の中心位置Pとは異なっており、ΔX,ΔYのずれ
が生じている。本実施の形態では、まずこのずれの量Δ
X,ΔYを検出する。
【0033】ここで、図5,図6の例では、モータ16
の回転角をエンコーダ17で読取り、10°間隔の各角
度で制御装置12はラインセンサ19の検出信号によ
り、ウエハ3の周囲位置の極座標値を検知するが、この
検知した極座標値の内、40°等分で9つの周囲位置を
選ぶ。
【0034】すなわち、図7に示すように、40°間隔
の各角度θn(n=1〜9)におけるウエハ3の周囲位
置の極座標値θn,rn(n=1〜9)を検知する。制御
装置12はこの極座標系からテーブル7の回転中心Pを
原点とする直交座標系Xn,Yn(n=1〜9)を求め
る。
【0035】その後、制御装置12は、直交座標系の各
9つの位置Xn,Yn(n=1〜9)から、3点づつの組
み合わせをピックアップする。例えば、次の周囲位置の
組み合わせが選択される。
【0036】 (X1,Y1),(X4,Y4),(X7,Y7) (X2,Y2),(X5,Y5),(X8,Y8) (X3,Y3),(X6,Y6),(X9,Y9) それぞれの組み合わせにおいては、各周囲位置の値によ
り、次の式を用いてウエハ3の中心位置Om(m=1〜
3)のX座標位置X0mとY座標位置Y0mとが求められ
る。なお、次の式でmは1〜3である。
【0037】
【数1】
【0038】上記ウエハ3の3つの中心位置O1,O2
3は、9つのウエハの周囲位置に基づいて求められる
が、9つの周囲位置の一つは、オリフラ9上の点であ
る。したがって、求められた3つの中心位置のうち、一
つは他の2つの中心位置とは異なることになる。制御装
置12は3つの中心位置を比較し、一致する2つの中心
位置を真のウエハ3の中心位置として認識する。このよ
うな一連の動作のフロー図を図8に示す。
【0039】この結果、テーブル7の回転中心とウエハ
3の中心との間のずれ量ΔX,ΔYが判明する。ここ
で、テーブル7の回転中心と試料室1内のステージ2の
中心とは、正確な位置合わせがなされており、アーム5
上にウエハ3を載せ、アーム5を試料室1内に導入して
ウエハ3をステージ2上に載せると、ウエハ3の中心と
ステージ2の中心とは、テーブル7の回転中心とウエハ
3の中心との間のずれ量ΔX,ΔYだれずれることにな
る。
【0040】したがって、制御装置12は、駆動機構1
1を制御し、事前にずれ量ΔX,ΔYだけステージ2を
移動させ、ウエハ3が搬送されたときに、ステージ2の
中心とウエハ3の中心とが一致するように動作する。こ
の結果、ウエハ3はステージ2上に正確に位置合わせが
行われることになり、その後の走査電子顕微鏡像の観察
においては、ウエハ3上の所望の表面部分を走査電子顕
微鏡の光軸上に位置させることができる。
【0041】次に、ウエハ3のオリフラ9のアライメン
トについて説明する。まず、ウエハ3の中心位置と円中
心位置とが一致した2つの組み合わせに含まれる6点の
ウエハの周囲位置から、ウエハ3の半径rwを求める。
次に求めた半径rwと検出した36点の周囲位置におけ
る半径rnとを比較し、2種の半径が異なる周囲位置を
検知する。
【0042】上記した2種の半径が異なる周囲位置はオ
リフラ9として直線状に切り欠かれている部分であり、
図5の例ではオリフラ部分の周囲位置Pm,Pm+1,
Pm+2の3か所での半径はrwと相違する。また、図
6の例では、オリフラ9部分の周囲位置Pm,Pm+
1,Pm+2,Pm+3の4か所での半径はrwと相違
する。
【0043】図5の例では、周囲位置PmとPm+2と
からオリフラ9の傾きθが求められ、また、図6の例で
は、周囲位置PmとPm+3とからオリフラ9の傾きθ
が求められる。このようにしてオリフラの傾きが求めら
れた後、テーブル7がオリフラの傾き分θだけ制御装置
12からの制御により回転させられ、オリフラ9の位置
は正確にアライメントされる。
【0044】なお、2点PmとPn(nはm+2あるい
はm+3)から傾きθを求めるためには、次の式を用い
ることができる。ただし、Pmの座標は(Xm,Ym)
であり、Pnの座標は(Yn,Yn)である。
【0045】 θ=ATAN{(Xn−Xm)/(Yn−Ym)} 次に、ウエハ3にオリフラ9ではなくてV字状の切り欠
き、すなわち、Vノッチが設けられている場合のVノッ
チ位置の検出について説明する。Vノッチ検出のために
は、ウエハ3の周囲位置の検出は、0.3125°間隔
で1152点行われる。この分割であれば、規格化され
ているVノッチをそのうちの1点もしくは2点が必ず検
出する。図9はVノッチ25を有したウエハ3を示して
おり、また、図10(a)は検出した1152点の内、
1点PvがVノッチ部分である例、図10(b)は2点
Pv1,Pv2がVノッチ部分である例を示している。
【0046】ウエハ3の中心位置の検出は、前記したオ
リフラを有したウエハの場合と同様に、1152点中の
検出位置から、40°間隔で9点を選び、3種類の組み
合わせで仮の中心位置3点を検出し、そのうちの一致す
る中心位置を真の中心位置とする。この場合には、3種
類の仮の中心位置は全て等しい場合もある。
【0047】その後、真の中心位置を求めるために用い
たウエハの周囲位置から、ウエハの半径を求める。そし
て、1152点の周囲位置に基づく半径rwと求めたウ
エハの半径rnとを比較し、相違する半径の周囲位置を
摘出する。この相違する半径の周囲位置がVノッチ25
の位置と判断できる。
【0048】このようにしてVノッチ位置を求めた後、
Vノッチ位置が正規の位置となるようにテープル7を回
転してウエハ3の位置合わせを行う。なお、Vノッチの
位置は、測定点を更に多くし、ウエハ半径と相違する周
囲位置のうち、最も半径から内側に離れている点をVノ
ッチ位置とすれば、よりいっそう精度良くVノッチの位
置合わせを行うことができる。
【0049】以上本発明の実施の形態例を説明したが、
本発明はこの実施の形態例に限定されない。例えば、8
インチの大きさのウエハに対して、40°間隔で9つの
周囲位置を検出し、3つの組み合わせをピックアップし
て求められた3つの中心位置のうち、等しい2つの中心
位置をウエハの中心位置としたが、ウエハの周囲位置の
検出は9つ以上であっても良い。
【0050】例えば、24°間隔で15点の周囲位置を
検出し、得られる5つの中心位置から、等しい3つの中
心位置をウエハの中心位置として選択しても良いし、更
に多数のウエハの周囲位置を検出することも可能であ
る。
【0051】また、8インチウエハを例にして説明した
が、3インチ,4インチ,5インチ,6インチ,12イ
ンチの大きさのウエハを用いた場合にも本発明を適用す
ることができる。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、ウエ
ハの中心位置合わせやオリフラ,Vノッチの位置合わせ
をセンタリングドライブ等の可動機構を用いずに行うこ
とができるので、ウエハの裏面が他の部分と摺動させる
必要がなく、ウエハの裏面に傷が付いたり、発塵が生じ
ることも極めて少なくすることができる。したがって、
ウエハ表面が汚染されることは少なくなり、ウエハの観
察を正確に行うことができる。
【0053】また、予備室内に余分な可動機構を設ける
必要がなくなるので、予備室の容量を小さくできる。そ
の結果、予備室の排気速度や大気圧に戻す速度を速くす
ることができると共に、大気圧に戻す際の窒素ガスの量
を減らすことができる。
【0054】更に、請求項3の発明に基づくウエハのア
ライメントでは、ステージへのウエハの搬送時にウエハ
の位置ずれ分を事前にステージの位置を移動させて補正
するので、ステージへのウエハの搬送後の精密なアライ
メント動作を短時間に行うことができ、ウエハ交換時間
を短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のウエハのアライメントを行う装置の平面
概略図である。
【図2】図1の装置の側面概略図である。
【図3】本発明に基づくウエハのアライメントを行う装
置の平面概略図である。
【図4】図3の装置の側面概略図である。
【図5】36か所のウエハの周囲位置の検出とオリフラ
との関係を示す図である。
【図6】36か所のウエハの周囲位置の検出とオリフラ
との関係を示す図である。
【図7】テーブルの回転中心とウエハの中心とのずれ量
を示す図である。
【図8】ウエハの中心位置を求める動作のフロー図であ
る。
【図9】Vノッチを有したウエハを示す図である。
【図10】Vノッチ部分の拡大図である。
【符号の説明】
1 試料室 2 ステージ 3 ウエハ 4 予備室 5 アーム 6 駆動軸 7 テーブル 9 オリフラ 11 駆動機構 12 制御装置 13,15 駆動回路 14 昇降機構 16 モータ 17 エンコーダ 19 ラインセンサ 20 検出回路

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直線状の切り欠きを有したウエハをテー
    ブルの上に載せ、テーブルを回転させて所定角度ごとに
    ウエハの周囲位置を検出し、検出した複数の周囲位置を
    複数の組に分け、複数の組ごとにウエハの周囲位置に基
    づいてウエハの仮の中心位置を求め、複数の組ごとに求
    められたウエハの仮の中心位置を比較し、複数の仮の中
    心位置の中でより多い一致した中心位置をウエハの真の
    中心位置とし、次に、真の中心位置を求めるために用い
    たウエハの周囲位置からウエハの半径を求め、検出した
    複数の周囲位置の中で求めた半径と相違する半径を有し
    た周囲位置から、直線状の切り欠きの角度を求め、この
    角度に応じてウエハを回転させるようにしたウエハのア
    ライメント方法。
  2. 【請求項2】 V字状の切り欠きを有したウエハをテー
    ブルの上に載せ、テーブルを回転させて所定角度ごとに
    ウエハの周囲位置を検出し、検出した複数の周囲位置を
    複数の組に分け、複数の組ごとにウエハの周囲位置に基
    づいてウエハの仮の中心位置を求め、複数の組ごとに求
    められたウエハの仮の中心位置を比較し、複数の仮の中
    心位置の中でより多い一致した中心位置をウエハの真の
    中心位置とし、次に、真の中心位置を求めるために用い
    たウエハの周囲位置からウエハの半径を求め、検出した
    複数の周囲位置の中で求めた半径と相違する半径を有し
    た周囲位置を検知し、この検知した周囲位置を所定の位
    置とするようにウエハを回転させるようにしたウエハの
    アライメント方法。
  3. 【請求項3】 切り欠きを有したウエハを予備室内のテ
    ーブルの上に載せ、テーブルを回転させて所定角度ごと
    にウエハの周囲位置を検出し、検出した複数の周囲位置
    を複数の組に分け、複数の組ごとにウエハの周囲位置に
    基づいてウエハの仮の中心位置を求め、複数の組ごとに
    求められたウエハの仮の中心位置を比較し、複数の仮の
    中心位置の中でより多い一致した中心位置をウエハの真
    の中心位置とし、テーブルの中心位置とウエハの真の中
    心位置との間のずれ量を求め、次に、真の中心位置を求
    めるために用いたウエハの周囲位置からウエハの半径を
    求め、検出した複数の周囲位置の中で求めた半径と相違
    する半径を有した周囲位置を検知し、この検知した周囲
    位置を所定の位置とするようにウエハを回転させ、その
    後予備室内のウエハを試料室内の移動ステージ上に搬送
    する際、事前に移動ステージを該ずれ量に応じて移動さ
    せるようにしたウエハのアライメント方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008066611A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Hitachi High-Technologies Corp 検査装置および検査方法
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WO2015178109A1 (ja) * 2014-05-23 2015-11-26 東京エレクトロン株式会社 ウエハの位置検出装置、ウエハの位置検出方法、及び記憶媒体

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