JP5301293B2 - 欠陥検査装置およびその方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態が適用される欠陥検査装置の全体概略構成図である。
dWcoma=−{TU3(Ubar)(n2−1)}cos(a)/(2n3)=−{T(Ubar)/(f#)3}{(n2−1)/(16n3)}cos(a) ・・・(2)
dWastig=−{TU2(Ubar)2(n2−1)}cos2(a)/(2n3)=−{T(Ubar)2/(f#)2}{(n2−1)/(8n3)}cos2(a) ・・・(3)
例えば、ビームスプリッタとして、厚さ5mm、屈折率1.5のガラスを用い、光路を90度曲げるために、光軸に対して45度傾けて配置するケースでは、検出レンズ40の物体側NAを0.05と仮定すると、球面収差(dWsph)とコマ収差(dWcoma)は無視できるレベルであるが、非点収差(dWastig)が1.0ラムダrms程度生じる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
Claims (4)
- 検査対象の2つの領域に、互いに異なる照明条件の照明光を照射する照明手段と、
上記照明手段により照明された上記検査対象からの反射光により光学像を形成する結像手段と、
上記結像手段を透過した上記検査対象からの反射光を透過及び反射して2分岐する平板状のビームスプリッタと、
光の透過率を低減させる膜が形成され、上記平板状のビームスプリッタが透過する光の光軸に対して傾斜される傾斜角度と同一の傾斜角度で、上記光軸に対して傾斜され、上記平板状のビームスプリッタを透過した光の収差を補正する平板状の光学素子と、
上記平板状の光学素子により収差が補正され、かつ、上記結像手段により結像された光学像を電気信号に変換する第1の検出手段と、
上記平板状のビームスプリッタにより反射され、かつ、上記結像手段により結像された光学像を電気信号に変換する第2の検出手段と、
上記第1の検出手段及び第2の検出手段からの出力信号に基づいて、上記検査対象上の欠陥を検出する欠陥検出手段と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、上記平板状の光学素子は、シリンドリカルレンズであることを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項1記載の欠陥検査装置において、上記光透過率を低減させる膜は、光透過率が位置によって異なることを特徴とする欠陥検査装置。
- 検査対象上の欠陥を検査する欠陥検査方法において、
検査対象の2つの領域に、互いに異なる照明条件の照明光を照射し、
照明光を照射された上記検査対象からの反射光から光学像を結像手段により形成し、
上記結像手段を透過した上記検査対象からの反射光を、平板状のビームスプリッタで透過及び反射して2分岐し、
光の透過率を低減させる膜が形成され、上記平板状のビームスプリッタが透過する光の光軸に対して傾斜される傾斜角度と同一の傾斜角度で、上記光軸に対して傾斜された、平板状の光学素子により、上記平板状のビームスプリッタを透過した光の収差を補正し、
上記平板状の光学素子により収差が補正され、かつ、上記結像手段により結像された光学像を第1の検出手段により電気信号に変換し、
上記平板状のビームスプリッタにより反射され、かつ、上記結像手段により結像された光学像を第2の検出手段により電気信号に変換し、
上記第1の検出手段及び第2の検出手段からの出力信号に基づいて、上記検査対象上の欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
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