JP5319930B2 - 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents
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Description
(1)回路パターンが形成された試料の欠陥を検出する欠陥検査方法であって、前記回路パターンの第一の主たるパターンの方位より第一の照明光を前記試料上に照明し、照明された第一の領域からの第一の散乱光を検出して散乱像を第一のデジタル画像として検出する工程と、前記回路パターンの第二の主たるパターンの方位より第二の照明光を前記試料上に照明し、照明された第二の領域からの第二の散乱光を検出して散乱像を第二のデジタル画像として検出する工程と、前記第一のデジタル画像と前記第二のデジタル画像とを比較処理して欠陥候補を判定する工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法である。
(2)回路パターンが形成された試料の欠陥を検出する欠陥検査装置であって、前記回路パターンの第一の主たるパターンの方位より第一の照明光を前記試料上に照明する第一の照明光学系と、前記回路パターンの第二の主たるパターンの方位より第二の照明光を前記試料上に照明する第二の照明光学系と、前記第一の照明光により照明された第一の領域からの第一の散乱光を前記試料の上方で検出する第一の検出光学系と、前記第二の照明光により照明された第二の領域からの第二の散乱光を前記試料の上方で検出する第二の検出光学系と、前記第一の検出光学系により得られた第一のデジタル画像と前記第二の検出光学系により得られた第二のデジタル画像とを比較処理して欠陥候補を判定する画像処理部と、を有することを特徴とする欠陥検査装置である。
(3)回路パターンが形成された試料の欠陥を検出する欠陥検査装置であって、前記回路パターンの第一の主たるパターンの方位より第一の照明光を前記試料上に照明する第一の照明光学系と、前記回路パターンの第二の主たるパターンの方位より第二の照明光を前記試料上に照明する第二の照明光学系と、前記第一の照明光により照明された第一の領域からの第一の散乱光及び前記第二の照明光により照明された第二の領域からの第二の散乱光を前記試料の上方で検出する検出光学系と、前記検出光学系により得られた前記第一の散乱光に基づく第一のデジタル画像と前記検出光学系により得られた前記第二の散乱光に基づく前記第二のデジタル画像とを比較処理して欠陥候補を判定する画像処理部と、を有することを特徴とする欠陥検査装置である。
以上、X,Y方向の照明位置をウェハ1上にて空間的に分離して、ウェハ1上の同一空間において2つの異なる照明方位の散乱画像をそれぞれ並列して検出する構成を示した。
同様に、第二のイメージセンサ75についても画像処理が行われ、欠陥部の画像特徴量が算出される。
Claims (14)
- 回路パターンが形成された試料の欠陥を検出する欠陥検査方法であって、
前記試料を走査する工程と、
前記試料の走査方向に直交し前記回路パターンの第一の主たるパターンの方位より、第一の照明光を前記試料上の入射面内に線状照明し、前記試料の走査方向に対して平行な方向で前記回路パターンの第二の主たるパターンの方位より、前記第一の照明光の入射面と直交する面内に第二の照明光を線状照明する工程と、
前記線状照明する工程にて照明された第一の領域からの第一の散乱光を検出して散乱像を第一のデジタル画像として検出し、前記線状照明する工程にて照明された第二の領域からの第二の散乱光を検出して散乱像を第二のデジタル画像として検出する工程と、
前記第一のデジタル画像と前記第二のデジタル画像とを比較処理して欠陥候補を判定する工程と、を有し、
前記第一の照明光と前記第二の照明光とは単一のレーザから連続的に発振した同一波長であって、
前記線状照明する工程では、前記第一の照明光と前記第二の照明光とは時間的に分割して前記試料に照射され、
前記試料の第一の領域と前記試料の第二の領域とは空間的に分離されており、前記検出する工程では、前記第一の散乱光と前記第二の散乱光とを同時に検出することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1記載の欠陥検査方法であって、
前記第一の照明光及び前記第二の照明光は平行照明を用いることを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1記載の欠陥検査方法であって、
前記第一の照明光は平行照明を用い、前記第二の照明光は前記試料に対して仰角方向に集光した集光照明を用いることを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の欠陥検査方法であって、
前記第一と第二の照明光を切換える周期に対して、前記イメージセンサのラインレートが2倍以上の周期であることを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載の欠陥検査方法であって、
前記線状照明する工程では、レーザ光を照射し、照射したレーザ光の射出光の光軸を切り替えることを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項5記載の欠陥検査方法であって、
前記線状照明する工程では、照射したレーザ光の射出光の光軸を切り替えて、前記第一の照明光と前記第二の照明光とを切り替えることを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項6記載の欠陥検査方法であって、 前記線状照明する工程では、光音響光学素子を用いて照射したレーザ光の射出光の光軸を切り替えることを特徴とする欠陥検査方法。
- 回路パターンが形成された試料の欠陥を検出する欠陥検査装置であって、
前記試料を走査するステージと、
前記試料の走査方向に直交し前記回路パターンの第一の主たるパターンの方位より、第一の照明光を前記試料上の入射面内に線状照明し、前記試料の走査方向に対して平行な方向で前記回路パターンの第二の主たるパターンの方位より、前記第一の照明光の入射面と直交する面内に第二の照明光を線状照明する照射部と、
前記照射部により照明された第一の領域からの第一の散乱光を検出して散乱像を第一のデジタル画像として検出し、
前記照射部により照明された第二の領域からの第二の散乱光を検出して散乱像を第二のデジタル画像として検出する検出部と、
前記第一のデジタル画像と前記第二のデジタル画像とを比較処理して欠陥候補を判定する処理部と、を有し、
前記第一の照明光と前記第二の照明光とは単一のレーザから連続的に発振した同一波長であって、
前記照射部では、前記第一の照明光と前記第二の照明光とを時間的に分割して前記試料に照射し、
前記試料の第一の領域と前記試料の第二の領域とは空間的に分離されており、
前記検出部では、前記第一の散乱光と前記第二の散乱光とを同時に検出することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項8記載の欠陥検査装置であって、
前記第一の照明光及び前記第二の照明光は平行照明であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項8記載の欠陥検査装置であって、
前記第一の照明光は平行照明を用い、前記第二の照明光は前記試料に対して仰角方向に集光した集光照明を用いることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項8乃至10のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記第一と第二の照明光を切換える周期に対して、前記イメージセンサのラインレートが2倍以上の周期であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項8乃至11のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記照射部では、レーザ光を照射し、照射したレーザ光の射出光の光軸を切り替えることを備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項12記載の欠陥検査装置であって、
前記照射部では、照射したレーザ光の射出光の光軸を切り替えて、前記第一の照明光と前記第二の照明光とを切り替えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項12または13に記載の欠陥検査装置であって、
前記照射部では、光音響光学素子を用いて照射したレーザ光の射出光の光軸を切り替えることを特徴とする欠陥検査装置。
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