JP2011122990A - 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の特徴は、パターンの方向と、照明光の試料への射影の方向と照明光の偏光に着目したことにある。また、少なくとも2つの照明方向の該試料への射影は該試料の主要なパターンの方向に対して垂直または平行であり、該第1の方向の照明光の偏光と該第2の方向の照明光の偏光は互いに異なることを特徴とする。また、本発明は、該第1の方向の射影と該第2の方向の射影は互いに垂直であることを特徴とする。また、本発明は、該第1の方向の射影と該第2の方向の射影は互いに平行であることを特徴とする。また、本発明は、該第1の方向の照明光の偏光はs偏光であり、該第2の方向の照明光の偏光はp偏光であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
2 ステージ
3 光源
4 分岐素子
7 検出光学系
8 検出器
9 画像処理部
10 全体制御部
11 入出力操作部
51 第1の偏光素子
52 第2の偏光素子
61 第1の照明光学系
62 第2の照明光学系
Claims (19)
- パターンが形成された試料に、複数の方向から照明光を照射し、該試料の像を光学系を介して画像センサに結像し、欠陥の有無を判定する欠陥検査装置において、
少なくとも2つの照明方向の該試料への射影は該試料のパターンの方向に対して垂直または平行であり、
該第1の方向の照明光の偏光と該第2の方向の照明光の偏光は互いに異なることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の射影と該第2の方向の射影は互いに垂直であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の射影と該第2の方向の射影は互いに平行であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の照明光の偏光はs偏光であり、該第2の方向の照明光の偏光はp偏光であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載欠陥検査装置において、
該光学系は暗視野型であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、
該光学系は明視野型であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の照明光と該第2の方向の照明光は空間的にインコヒーレントであることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の照明光と該第2の方向の照明光は空間的にコヒーレントであることを特徴とする欠陥検査装置。 - パターンが形成された試料に、複数の方向から照明光を照射し、該試料の像を光学系を介して画像センサに結像し、欠陥の有無を判定する欠陥検査装置において、
少なくとも2つの照明方向の該試料への射影は該試料のパターンの方向に対して垂直または平行であり、
該第1の方向の照明光の波長と該第2の方向の照明光の波長は互いに異なり、
該第1の方向の照明光の偏光と該第2の方向の照明光の偏光は互いに異なることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の射影と該第2の方向の射影は互いに垂直であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の射影と該第2の方向の射影は互いに平行であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の照明光の偏光はs偏光であり、該第2の方向の照明光の偏光はp偏光であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該光学系は暗視野型であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該光学系は明視野型であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の照明光と該第2の照明光は空間的にインコヒーレントであることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項9記載の欠陥検査装置において、
該第1の方向の照明光と該第2の照明光は空間的にコヒーレントであることを特徴とする欠陥検査装置。 - 欠陥検査装置において、
パターンの形成された試料を移動するステージと、
前記試料へ第1の光を照射する第1の照明光学系と、
前記第1の光とは異なる偏光状態の第2の光を照射する第2の照明光学系と、
前記試料からの光を検出する検出光学系と、
前記検出光学系の検出結果を用いて欠陥の有無を判別する処理部と、を有し、
前記第1の光の試料への射影と、前記第2の光の試料への射影とは、互いに方向が異なることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項17に記載の欠陥検査装置において、
前記第1の光の試料への射影は、前記試料のパターンピッチに対して垂直であり、前記第2の光の試料への射影は、前記試料のパターンピッチに対して平行であることを特徴とする欠陥検査装置。 - パターンが形成された試料の欠陥検査方法であって、
前記試料に対して、偏光状態の異なる少なくとも2つ以上の光を照射し、
前記2つの光の前記試料への射影は、互いに方向が異なることを特徴とする欠陥検査方法。
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