JP5993691B2 - 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents
欠陥検査装置及び欠陥検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5993691B2 JP5993691B2 JP2012215484A JP2012215484A JP5993691B2 JP 5993691 B2 JP5993691 B2 JP 5993691B2 JP 2012215484 A JP2012215484 A JP 2012215484A JP 2012215484 A JP2012215484 A JP 2012215484A JP 5993691 B2 JP5993691 B2 JP 5993691B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- unit
- illumination
- defect inspection
- inspection apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 93
- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 115
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 69
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 47
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 32
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 6
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
TTL照明部111はミラー115、シリンドリカルレンズ116を備える。対物瞳光学部103は、TTL照明ミラー121、空間フィルタ122、偏光子(図示せず)を備える。TTL照明ミラー121は、X方向に長い形状のミラーである。照明光は、TTL照明部111とTTL照明ミラー121により、対物レンズ102aの瞳面上においてX方向に長い形状になるように集光される。瞳面を通過した照明光は、対物レンズ102aによって検査対象基板2上に、Y方向が長い形状になるように集光される。検査対象基板2にて正反射した光は、対物レンズ102aを通り、空間フィルタ122に備えられる正反射光フィルタ123によって遮光される。検査対象基板2にて散乱あるいは回折し対物レンズ102aに向かう光は、空間フィルタ122にて一部が遮光された後、結像レンズ105にて検出器106に結像され、画像信号として検出される。
20…処理部
102…対物レンズ
103…対物瞳光学部
105…結像レンズ
106…検出器
111…TTL照明部
112…斜方照明部
115…ミラー
116…円柱レンズ
121…TTL照明ミラー
122…空間フィルタ
123…正反射光フィルタ
151…ステージ駆動部
152…X-Y-Z-θステージ
301…全体制御部
302…表示部
303…演算部
304…記憶部
Claims (10)
- レーザ光を出射する光源と、前記光源により発せられた該レーザ光を線状に集光する第一の集光部と、前記第一の集光部にて該線状に集光された照明光を通過させる対物瞳光学部と、前記対物瞳光学部を通過した照明光を通過させる対物レンズと、を備える照射部と、
前記対物レンズの瞳面に配置された前記対物瞳光学部の該照明光の通過位置を制御する照射位置制御部と、
前記照射部により照射され該試料から発生する光を集光する第二の集光部と、前記第二の集光部にて集光される光のうち該試料による正反射光の中心およびその近傍に到達する光成分を前記瞳面上にて遮光する正反射光遮光部と、前記第二の集光部により集光し、前記正反射光遮光部にて遮光されなかった光を検出器に結像する結像部と、を備える検出部と、
前記結像部にて結像される像の信号に基づいて該試料面上の欠陥を検出する欠陥判定部と、を有し、
前記対物瞳光学部は、前記照明光を反射する照明ミラーを備え、
前記照明ミラーは前記対物レンズの光軸中心から所定の距離離れて位置し、
前記照明光の中心は対物レンズの開口の範囲内で試料の法線から傾斜した方向にあることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置であって、
正反射光遮光部が瞳面上で前記傾斜した照明の正反射光が当たる位置に配置され、
対物レンズの瞳面に繰返しパターンの回折光を遮光する空間フィルタを有し、正反射光遮光部の遮光幅が空間フィルタの遮光幅と異なることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1または2に記載の欠陥検査装置であって、
前記照射位置制御部は、前記対物瞳光学部のミラーおよび前記集光部を所定の方向に移動させることにより前記対物瞳光学部の該照明光の通過位置を制御することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記対物瞳光学部は、前記照射部の対物レンズの瞳面に配置された空間フィルタと、前記空間フィルタから所定の距離離れた位置に配置された照明ミラーとを備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項4記載の欠陥検査装置であって、
前記空間フィルタと前記照明ミラーとは、角度回転機構を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記正反射光部は、遮光位置の調整を可能とする位置調整機構を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項6記載の欠陥検査装置であって、
前記正反射光部は、正反射光フィルタを複数重ね合わせることにより遮光幅を制御することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記照射部の対物レンズと前記検出部の前記第二の集光部とは共用であることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1乃至8のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記レーザ光を線状に集光し対物レンズの外側から前記試料に照射する斜方照明部を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 光源からレーザ光を発する出射工程と、
前記出射工程により発せられた該レーザ光を線状に集光する第一の集光工程と、
前記第一の集光工程にて該線状に集光された照明光を対物レンズの瞳面を通過し試料上に到達させる照射工程と、
前記照射工程による前記試料の照射位置を制御し前記瞳面上の前記照明光の通過位置を制御する照射位置制御工程と、
前記照射工程により照射され前記試料から発生する光を集光する第二の集光工程と、
前記第二の集光工程にて集光される光のうち前記試料による正反射光の中心およびその近傍に到達する光成分を前記瞳面上にて遮光する正反射光遮光工程と、
前記第二の集光工程により集光し、前記正反射光遮光工程にて遮光されなかった光を検出器に結像する結像工程と、
前記結像工程にて結像される像の信号に基づいて前記試料面上の欠陥を検出する欠陥判定工程と、を有し、
前記照射工程では、前記対物レンズの光軸中心から所定の距離離れて位置する照明ミラーにより前記照明光を反射し、
前記照明光の中心は前記対物レンズの開口の範囲内で試料の法線から傾斜した方向にあることを特徴とする欠陥検査方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215484A JP5993691B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
PCT/JP2013/070414 WO2014050292A1 (ja) | 2012-09-28 | 2013-07-29 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
US14/422,583 US9523648B2 (en) | 2012-09-28 | 2013-07-29 | Defect inspection device and defect inspection method |
KR1020147036133A KR101895255B1 (ko) | 2012-09-28 | 2013-07-29 | 결함 검사 장치 및 결함 검사 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012215484A JP5993691B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014070930A JP2014070930A (ja) | 2014-04-21 |
JP5993691B2 true JP5993691B2 (ja) | 2016-09-14 |
Family
ID=50387706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012215484A Expired - Fee Related JP5993691B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9523648B2 (ja) |
JP (1) | JP5993691B2 (ja) |
KR (1) | KR101895255B1 (ja) |
WO (1) | WO2014050292A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102013212613B4 (de) * | 2013-06-28 | 2015-07-23 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik |
CA3049647A1 (en) | 2017-01-10 | 2018-07-19 | Sunspring America, Inc. | Optical method for identifying defects on tube surfaces |
US10598607B2 (en) * | 2017-06-14 | 2020-03-24 | Camtek Ltd. | Objective lens |
KR102506803B1 (ko) * | 2018-11-23 | 2023-03-07 | 삼성전자주식회사 | 배선 기판 테스트 방법 및 이를 수행하기 위한 장치 |
JP2020153727A (ja) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | キオクシア株式会社 | 検査装置 |
US12019150B2 (en) * | 2020-09-25 | 2024-06-25 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Radar target simulation system and radar target simulation method |
CN113870256B (zh) * | 2021-12-01 | 2022-02-11 | 成都数之联科技有限公司 | Pcb板缺陷评估方法、装置、设备及介质 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4838122A (ja) | 1971-09-14 | 1973-06-05 | ||
JPS60253822A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-14 | Canon Inc | 検査装置 |
JP2512093B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1996-07-03 | 株式会社日立製作所 | 異物検出装置及び方法 |
US5719405A (en) | 1992-09-01 | 1998-02-17 | Nikon Corporation | Particle inspecting apparatus and method using fourier transform |
JPH0783843A (ja) | 1993-09-17 | 1995-03-31 | Nikon Corp | 欠陥検査方法 |
KR960015001A (ko) | 1994-10-07 | 1996-05-22 | 가나이 쓰토무 | 반도체 기판의 제조방법과 피검사체상의 패턴결함을 검사하기 위한 방법 및 장치 |
JP3744966B2 (ja) * | 1994-10-07 | 2006-02-15 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体基板の製造方法 |
JPH1068698A (ja) * | 1996-06-06 | 1998-03-10 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 表面欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
US6800859B1 (en) | 1998-12-28 | 2004-10-05 | Hitachi, Ltd. | Method and equipment for detecting pattern defect |
JP2000193443A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Hitachi Ltd | パタ―ン欠陥検査方法及びその装置 |
US7365834B2 (en) | 2003-06-24 | 2008-04-29 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Optical system for detecting anomalies and/or features of surfaces |
JP2005083800A (ja) | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
JP5068422B2 (ja) | 2004-10-05 | 2012-11-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 微細構造観察方法および欠陥検査装置 |
JP4625716B2 (ja) | 2005-05-23 | 2011-02-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
JP4778755B2 (ja) | 2005-09-09 | 2011-09-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査方法及びこれを用いた装置 |
JP4876019B2 (ja) | 2007-04-25 | 2012-02-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置およびその方法 |
US8111406B2 (en) * | 2007-11-14 | 2012-02-07 | Nikon Corporation | Surface position detecting apparatus, surface position detecting method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5022959B2 (ja) * | 2008-03-24 | 2012-09-12 | 株式会社日立製作所 | 反射屈折型対物レンズを用いた欠陥検査装置 |
JPWO2009125839A1 (ja) * | 2008-04-11 | 2011-08-04 | 株式会社ニコン | 検査装置 |
WO2009149103A1 (en) | 2008-06-03 | 2009-12-10 | Jeong Hwan J | Interferometric defect detection and classification |
US7864334B2 (en) | 2008-06-03 | 2011-01-04 | Jzw Llc | Interferometric defect detection |
JP5469839B2 (ja) | 2008-09-30 | 2014-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 物体表面の欠陥検査装置および方法 |
JP5406677B2 (ja) | 2009-01-26 | 2014-02-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 暗視野欠陥検査方法及び暗視野欠陥検査装置 |
JP2010271186A (ja) | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Nikon Corp | 欠陥検査装置 |
JP5202462B2 (ja) * | 2009-07-23 | 2013-06-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン欠陥検査装置および方法 |
JP5525336B2 (ja) | 2010-06-08 | 2014-06-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 |
JP5452571B2 (ja) * | 2011-11-28 | 2014-03-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 |
-
2012
- 2012-09-28 JP JP2012215484A patent/JP5993691B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-07-29 WO PCT/JP2013/070414 patent/WO2014050292A1/ja active Application Filing
- 2013-07-29 KR KR1020147036133A patent/KR101895255B1/ko active IP Right Grant
- 2013-07-29 US US14/422,583 patent/US9523648B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014050292A1 (ja) | 2014-04-03 |
KR101895255B1 (ko) | 2018-09-05 |
KR20150013892A (ko) | 2015-02-05 |
JP2014070930A (ja) | 2014-04-21 |
US20150241361A1 (en) | 2015-08-27 |
US9523648B2 (en) | 2016-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9678021B2 (en) | Method and apparatus for inspecting defects | |
JP5993691B2 (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
JP5211242B2 (ja) | 光学検査システムにおける動的照明 | |
JP4751617B2 (ja) | 欠陥検査方法及びその装置 | |
US7061600B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor substrate and method and apparatus for inspecting defects of patterns on an object to be inspected | |
US7295305B2 (en) | Method and its apparatus for inspecting a pattern | |
US20170102338A1 (en) | Defect inspection method and its device | |
US20150003722A1 (en) | Defect observation method and device therefor | |
JP2008268141A (ja) | 欠陥検査装置およびその方法 | |
JP2008275540A (ja) | パターン欠陥検査装置および方法 | |
WO2012090371A1 (ja) | 検査装置 | |
JP5452571B2 (ja) | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 | |
JP2012068201A (ja) | 欠陥検査方法及び検査装置 | |
US7767982B2 (en) | Optical auto focusing system and method for electron beam inspection tool | |
US8902417B2 (en) | Inspection apparatus | |
JP3185878B2 (ja) | 光学的検査装置 | |
US9535009B2 (en) | Inspection system | |
JP2012042254A (ja) | レンズ欠陥の検査方法 | |
JPH08304296A (ja) | 異物等の欠陥検出方法およびそれを実行する装置 | |
JP2009222629A (ja) | 被検物端面検査装置 | |
JP2010019639A (ja) | ムラ検出装置及びパターン検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150121 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160726 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5993691 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |