JP4778755B2 - 欠陥検査方法及びこれを用いた装置 - Google Patents
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Description
a)ユーザは十分な感度であるか?
b)擬似欠陥の割合が許容範囲か?
などを判定し、感度や擬似欠陥の割合が許せない範囲である場合は、テスト検査〔1〕で変更した光学パラメータの中から、感度が高くなる光学条件や擬似欠陥の割合が低くなる光学条件を予測し、本検査で使用する画素サイズにて、欠陥や擬似欠陥部の画像及び比較部の画像を実際に検査するときのイメージセンサとは異なる2次元カメラで撮像する(例えば、図2に示すアライメント用カメラ150[白黒カメラ])。これは、実際に検査するイメージセンサ100は、リニアセンサであるため、特定の座標の画像を取得する場合は、ステージが等速移動する必要があるため、2次元カメラでの画像取得に比べて、画像取得時間が長くなるためである。しかし、ユーザによっては、画像取得時間が問題にならない場合もあるため、リニアイメージセンサ100で画像取得することも考えられる。特に、イメージセンサ100とアライメント用カメラ150で分光感度や画素寸法が大きく異なる場合は、イメージセンサ100で画像取得した方が良い。
〔1〕欠陥については、濃淡差が同じ符号で比較的絶対値の大きな波長条件
(例えば、波長450〜500nmと550〜600nmの同時照明)
〔2〕擬似欠陥については、足し合せることにより、濃淡差が小さくなる波長条件
(例えば、波長450〜500nmの符号マイナスと波長550〜600nmの符号プラスの照明により、検出した画像の濃淡差を打ち消しあう波長条件)
が両立する条件である(完全に両立する必要は無く、検査S/Nが比較的高くなる条件でよい)。この例では、波長450〜500nmと550〜600nmの同時照明を行うことにより、欠陥濃淡差の確保と擬似欠陥濃淡差の抑制が可能となり、高感度検査が可能となる。
〔変形例1〕
第1の実施例で説明した光学系の第1の変形例を図2に示す。光源20からの光は、波長選択フィルタ25で照明波長が選択される。波長選択フィルタ25は分光透過率の異なる複数のフィルタが準備されており、切替が可能な波長選択フィルタ切替機構27に搭載されている。照明光路には、ポラライザ30が配置されており、特定の振動方向の電場ベクトルのみを透過する。この振動方向は、主に欠陥や欠陥に近接するパターンと平行な状態が欠陥コントラストの向上に有効であるが、パターンや欠陥の材料や構造に応じて、欠陥コントラスト向上に有利な振動方向が変化する。このため、このポラライザ30を透過した光の振動方向の方位を回転させる1/2波長板35を用いて、欠陥のコントラストを向上する振動方向に制御する。この1/2波長板35は、透過した光の振動方向を任意の方向に回転するための1/2波長板回転機構37に搭載されている。
〔変形例2〕
第1の実施例で説明した光学系の第2の変形例を以下に説明する。
(1)解像度の点では短波長照明が有利であり、DUV(Deep Ultraviolet)領域やUV領域の波長が望ましく、波長幅の点では、最短波長と同等の波長幅があると検査S/Nの点で有利である。
(2)検査対象となるパターン材料や構造に応じた分光反射率を考慮する必要がある。例えば、反射率の低い下地の上に、反射率の低いパターンが形成されていると、十分なパターンのコントラストが得られない。また、暗いパターンの上に反射率の低い欠陥(例えば、異物など)がある場合は、この欠陥部のコントラストも低い。このため、高感度に欠陥を検出するためには、欠陥をより高コントラストに検出する波長を準備しておく必要がある。例えば、アルミ配線の場合は表面にTiNを積層されている場合があり、このTiNは波長450〜500nmにかけて反射率が高くなる特性をもっている。このため、TiNの反射率と背景(下地)の反射率の関係に応じて、欠陥を高コントラストに検出できる波長が、450nm以下であったり、500nm以上であったり変化する。このため、半導体に使われる材料の分光光学常数を考慮して、光学定数(n,k)が変化する波長よりも短い側と長い側の両方を照明可能としておくことが、様々な工程・構造のウェハを幅広く高感度検査するのに有効である。
〔変形例3〕
図4で示した2つのイメージセンサで検出した画像を用いた欠陥判定手法について、第3の変形例として図6を用いて説明する。これは、イメージセンサ100bで検出したUV〜可視光の画像とイメージセンサ100aで検出した可視光の画像をそれぞれの画像処理系統で欠陥判定し、欠陥候補を出力するものである。
Claims (9)
- 複数の波長帯域の光を発光する光源手段と、
前記光源手段にて発光した複数の波長帯域の光の中から所望の波長の光を選択して配線パターンが形成された試料に照射する光照射手段と、
前記光照射手段により所望の波長の光を照射された前記配線パターンが形成された試料の光学像を受光して画像信号を出力する検出手段と、
前記検出手段から出力された画像信号を処理して欠陥を検出する画像処理手段と、
を備えた欠陥検査装置であって、
前記光照射手段は、前記選択された所望の波長の光として、欠陥の画像の濃淡差の符号が同じ波長であるかまたは、擬似欠陥については足し合わせることにより画像の濃淡差が小さくなるような条件の波長の光を選択して照射することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1記載の欠陥検査装置であって、前記光照射手段は、明視野照明と暗視野照明の2系統の照明手段を有し、前記選択された所望の波長の光として、予め複数の波長帯域の光と前記2系統の照明手段を用いて欠陥の画像の濃淡差の符号が同じ波長であるかまたは、擬似欠陥については足し合わせることにより画像の濃淡差が小さくなるような条件の波長の光を選択して照射することを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項1又は2記載の欠陥検査装置であって、前記光照射手段は、さらに前記選択された所望の波長の光の偏光の状態を制御する偏光制御部を有し、前記検出手段は、前記所望の波長の光を照射された前記試料からの反射光の任意の偏光成分を選択的に検出する偏光検出部を有することを特徴とする欠陥検査装置。
- 複数の波長帯域の光を発光する光源手段と、
前記光源手段にて発光した複数の波長帯域の光の中から所望の波長の光を選択して配線パターンが形成された試料に照射する光照射手段と、
前記光照射手段により所望の波長の光を照射された前記配線パターンが形成された試料の光学像を受光して画像信号を出力する検出手段と、
前記検出手段から出力された画像信号を処理して欠陥を検出する画像処理手段と、
を備えた欠陥検査装置であって、
前記光照射手段にて照射する光の波長を決定する事前の条件出し手段として、複数の異なる波長についてそれぞれ前記検出手段と前記画像処理手段を用いて欠陥の画像の濃淡差の符号が同じ波長であるかまたは、擬似欠陥については足し合わせることにより画像の濃淡差が小さくなるような条件の波長の組み合わせを求める条件出し手段を有することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項4記載の欠陥検査装置であって、前記光照射手段は、明視野照明と暗視野照明の2系統の照明手段を有し、前記条件だし手段は、複数の異なる波長と前記2系統の照明手段についてそれぞれ前記検出手段と前記画像処理手段を用いて欠陥の画像の濃淡差の符号が同じ波長であるかまたは、擬似欠陥については足し合わせることにより画像の濃淡差が小さくなるような波長条件の波長と照明手段との組み合わせを求めることを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項4又は5記載の欠陥検査装置であって、前記光照射手段は、さらに前記選択された所望の波長の光の偏光の状態を制御する偏光制御部を有し、前記検出手段は、前記所望の波長の光を照射された前記試料からの反射光の偏光の状態を制御して任意の偏光成分を選択的に検出する偏光検出部を有することを特徴とする欠陥検査装置。
- 光源にて発光した複数の波長帯域の光のうち所望の波長の光を選択して配線パターンが形成された試料に照射し、
前記所望の波長の光を照射された前記配線パターンが形成された試料の光学像を撮像して画像信号を得、
前記得た画像信号を処理して欠陥を検出する欠陥検査方法であって、
前記選択された所望の波長の光を照射するステップでは、前記選択された所望の波長の光として、予め複数の波長帯域の光を用いて欠陥の画像の濃淡差の符号が同じ波長であるかまたは、擬似欠陥については足し合わせることにより画像の濃淡差が小さくなるような波長条件の波長の光を照射することを特徴とする欠陥検査方法。 - 請求項7記載の欠陥検査方法であって、前記選択された所望の波長の光を照射するステップでは、前記選択された所望の光として、予め複数の波長帯域の光と明視野照明及び暗視野照明の2つの照明方式とにより欠陥の画像の濃淡差の符号が同じ波長であるかまたは、擬似欠陥については足し合わせることにより画像の濃淡差が小さくなるような波長条件の波長の光を選択して照射することを特徴とする欠陥検査方法。
- 請求項7又は8記載の欠陥検査方法であって、前記選択された所望の波長の光を照射するステップでは、前記光の偏光状態を制御して照射し、前記画像信号を得るステップでは、前記偏光状態を制御した光による前記試料からの反射光の任意の偏光成分を選択的に検出して前記画像信号を得ることを特徴とする欠陥検査方法。
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