JP2005083800A - 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
パターンの微細化に対応した高感度欠陥検査方法とその装置を提供する。
【解決手段】
対物レンズ30と試料1の間を液で満たして、実効NA(Numerical Aperture)を大きくすることにより、検出光学系の解像度を向上する。さらに、試料表面に透明な層間絶縁膜が形成されている場合、対物レンズと試料の間を透明膜に近い屈折率の液体で浸すことにより、液と絶縁膜界面での振幅分割を抑制し、薄膜干渉による光学像の明るさむらを低減する。これらの技術により、欠陥検査感度を向上する。
【選択図】 図1
Description
また、本発明は、対物レンズと試料の間を透明膜に近い屈折率の液体で浸すことにより、試料表面に透明な層間絶縁膜が形成されている場合においても液と絶縁膜界面での振幅分割が抑制され、薄膜干渉による明るさむらを低減することにある。
また、本発明は、前記対物レンズを通したTTL(Through The Lens)方式で焦点検出することにより、液表面の形状不均一性による焦点検出誤差を防止した高精度な焦点検出結果を得ることが可能となる。
また、本発明は、対物レンズとウェハ間のみを局所液浸することにより、コンパクトな装置構成にすることが可能となる。
また、本発明は、前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記液浸を前記試料上における局所液浸であることを特徴とする。
また、本発明は、前記局所液浸を、前記試料を移動する方向に液体を流すことによって実現することを特徴とする。また、本発明は、前記局所液浸を、前記試料が前記検出光学系の視野を通過する前に液体を供給し、前記視野を通過後液体を排出することによって実現することを特徴とする。
また、本発明は、前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記液浸を前記試料全面液浸であることを特徴とする。
また、本発明は、前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記検出光学系を介して前記試料を照明し、前記試料からの反射光を用いて前記検出光学系の焦点と前記試料の位置関係とを示す焦点検出情報を得る焦点検出ステップを含むことを特徴とする。
また、本発明は、更に、前記欠陥検査工程の後に、試料を乾燥させる後工程を有することを特徴とする。
また、本発明は、前記欠陥検査工程において、さらに、前記検出光学系の液浸エリアに対して表面活性化処理を行うステップを有することを特徴とする。
光学系の解像度Rを求める一般式として、(1)式が知られている。
ここで、λは照明波長,NAは対物レンズの開口数を示す。
ここで、θはウェハ上の1点で回折・散乱した光のうち、対物レンズ1で捕捉できる角度範囲を示す。
この臨界角θcは、入射角66°となる。この臨界角では、液体5側に透過する光がなくなる。実用的には、対物レンズ30の先端部の石英から液体5側に透過する光が90%以上(ランダム偏光の時)必要であり、この入射角(石英側から液体側への入射角)は56°程度となる。この56°はウェハ1上において、65°の入射角となる。このため、液体5でのNAの絶対値は0.91に対応する(液体5中のNA)。このNA絶対値が0.91は、乾燥系対物レンズの場合に換算するとNA絶対値が1.23である。従って、実用的には、乾燥系に換算時のNA絶対値1.23が上限値となる(波長365nmの時)。但し、波長が相違しても、NA絶対値の上限が多少変動する程度である。このように、本発明の場合、液浸によりNAの絶対値を0.8程度〜1.23程度の範囲内にすることが可能となる。
図2を用いて薄膜干渉抑制効果を示す。(a)に乾燥系対物レンズを用いた場合の実施例を示す。対物レンズ30を介してウェハ1を照明する。ウェハ1は、下地層シリコン1aの上に絶縁膜1b(例えば、SiO2)が膜付けされている。絶縁膜1bは、光学的には透明であり、照明光24は絶縁膜1bの表層で反射した光46aと絶縁膜1bを透過する光に振幅分割される。絶縁膜1bを透過した光は、さらに下地層1aで反射して空気と絶縁膜の界面を透過する光46bと界面を反射する光に分割される。空気と絶縁膜1aの界面を反射した光は、多重反射を繰返して空気中に抜けてくる光46c…が生じる。対物レンズにより形成される光学像は、空気中に抜けてきた光46a,46b,46c…の干渉強度で決定する。これが薄膜干渉である。この薄膜干渉強度は、絶縁膜1aの膜厚dの関数であるため、膜厚dが異なると光学像の明るさも異なってくる。この膜厚むらは、デバイスにとって致命性はないため、欠陥として検出するべきものではない。しかし、ダイ比較方式による欠陥検査を行う場合、隣接するダイ間で絶縁膜1aの膜厚むらがあると、画像の明るさが異なってしまうため、欠陥として誤検出してしまう可能性が大きくなる。この誤検出を防ぐためには、欠陥検査しきい値を大きくする必要があるが、しきい値を大きくすると検査感度が低下してしまうという課題が発生する。
1)解像度向上上の観点では屈折率が高い液体(例えば屈折率が1.6程度の油系液体)が好ましい
2)薄膜干渉向上の観点では絶縁膜1aと同等の屈折率の液体(例えば屈折率が1.3〜1.5程度の純水、アルコール系液体またはこれらの混合液)が好ましい
3)ウェハ1に浸すため、液がデバイスの特性に影響を与えない液体(純水、アルコール系液体またはこれらの混合液など)が好ましい
(破壊検査の場合は、この限りではない)
液浸に用いる液体としては、純水やイソプロピルアルコール等のアルコール系液体及びフッ素系液体さらには油系液体並びにこれらの混合液などが考えられる。しかしながら、上記1)、2)、3)の3点を考慮すると、純水、アルコール系液体またはこれらの混合液が好ましいことになる。さらに、クリーンルーム内で供給しやすい点からすると、純水に微量のアルコール系液体を加えた混合液が適する。
液体供給排出口185の形状の一例を図14に示す。(a)ではウィンド31を中心として対称的にそれぞれ1つの液体供給排出口185が形成されている。これに対して、(b)では液体供給排出口185がそれぞれ複数の穴で構成されている。これにより、溝の中心部と周辺部で水の供給及び排出量を比較的均等にすることが可能となる。
(1)対物レンズ30とウェハ1の間隔を液体5で浸して、解像度を向上する。
(2)落射照明・明視野検出方式において、ケーラー照明方式を適用している場合、光源22の像を開口絞り425に結像する。この開口絞り425の像を対物レンズ30の瞳に結像させる。この開口絞り425の開口部を輪帯状(リング状)にすることにより、ウェハ1の一点を照明する光は、垂直照明成分がない斜方照明となる。この照明により、空間周波数の高周波側MTF(Modulation Transfer Function)が向上する。
(3)更に、ビームスプリッタ40aを偏光ビームスプリッタタイプとすることにより、ビームスプリッタ40aを反射した光は、直線偏光となる。この直線偏光が波長板430を透過して楕円偏光となって、ウェハ1を落射照明する。照明した偏光光は、ウェハ1のパターンで反射・回折・散乱するときに偏光状態に変調を受ける。これらの光が再び波長板430を透過し、偏光ビームスプリッタ40aに入射する。この偏光ビームスプリッタ40aを透過したP偏光がウェハ1の光学像を形成し、イメージセンサ44で検出される。このように、偏光ビームスプリッタ40aは検光子の役目を果たすことになる。従って、ウェハ1のパターンで反射・回折・散乱するときの偏光状態に応じて照明光の偏光状態を調整しておき、偏光ビームスプリッタ40aを透過する正反射光・高次回折光・散乱光で形成される光学像が欠陥検出上有利な像となるように調整する。欠陥検出上有利な像とは、欠陥部のコントラストを向上できる像を指す。
(4)上記(2)で説明した輪帯状の開口絞り425を用いてウェハ1を照明した場合、対物レンズ30の瞳位置では、0次光(正反射光)と高次回折光が分離している。このため、この瞳位置に0次光と高次回折光(1次以上)のそれぞれについて透過率や相対的な位相差を調整する空間フィルタ420を配置することにより、ウェハ1のパターンを強調して検出することが可能である。これは、位相差顕微鏡の原理による。尚、対物レンズ30の瞳位置は、対物レンズ30の内部に形成されることが多く、空間フィルタを配置するスペースがない。このため、対物レンズ30の瞳と共役な位置を設け、この共役位置に空間フィルタ420を配置する。これにより、光学像の高解像度化や欠陥検出に有利な像を形成することが可能となる。
Claims (21)
- 試料と検出光学系の先端部との間を液浸にした状態で、前記試料の光学像を前記検出光学系で形成する光学像形成ステップと、該光学像形成ステップで形成された試料の光学像をイメージセンサで画像信号として取得する信号取得ステップと、該信号取得ステップで取得された画像信号を基に前記試料上の欠陥を検出する欠陥検出ステップとを有する欠陥検査工程を有することを特徴とする欠陥検査方法。
- 前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記試料と前記検出光学系との間に液体を連続的に供給し、前記液体の供給量以下の液体を連続的に排出する液体供給・排出ステップを含むことを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記液浸を前記試料上における局所液浸であることを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記局所液浸を、前記試料が前記検出光学系の視野を通過する前に液体を供給し、前記視野を通過後に液体を排出することによって実現することを特徴とする請求項3記載の欠陥検査方法。
- 前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記液浸を前記試料全面液浸であることを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記欠陥検査工程における光学像形成ステップにおいて、前記試料への照明は、落射照明方式或いはオフアクシス照明方式或いは落射照明方式とオフアクシス照明方式の混載方式のいずれかであることを特徴とする請求項1〜5の何れか一つに記載の欠陥検査方法。
- 試料と検出光学系の先端部との間を液浸にした状態で、前記試料の光学像を前記検出光学系で形成する光学像形成ステップと、該光学像形成ステップで形成された試料の光学像をイメージセンサで画像信号として取得する信号取得ステップと、該信号取得ステップで取得された画像信号を基に前記試料上の欠陥を検出する欠陥検出ステップとを有する欠陥検査工程を有し、
前記光学像形成ステップにおいて、前記検出光学系を介して前記試料を照明し、前記試料からの反射光を用いて前記検出光学系の焦点と前記試料の位置関係とを示す焦点検出情報を得る焦点検出ステップを含むことを特徴とする欠陥検査方法。 - 試料と検出光学系の先端部との間を液浸にした状態で、前記試料を楕円偏光照明することによって得られる反射・回折した光を前記検出光学系により偏光検出して前記試料の光学像を形成する光学像形成ステップと、該光学像形成ステップで形成された試料の光学像をイメージセンサで画像信号として取得する信号取得ステップと、該信号取得ステップで取得された画像信号を基に前記試料上の欠陥を検出する欠陥検出ステップとを有する欠陥検査工程を有することを特徴とする欠陥検査方法。
- 更に、前記欠陥検査工程の前に、試料を液浸させて試料界面の泡抜き処理を行う検査準備工程を有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか一つに記載の欠陥検査方法。
- 更に、前記欠陥検査工程の後に、試料を乾燥させる後工程を有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか一つに記載の欠陥検査方法。
- 前記欠陥検査工程において、さらに、前記検出光学系の液浸エリアに対して表面活性化処理を行うステップを有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか一つに記載の欠陥検査方法。
- 試料と検出光学系の先端部との間を液浸状態にする液浸手段と、該液浸手段による液浸状態で、前記試料の光学像を形成する前記検出光学系と、前記検出光学系で形成された試料の光学像を画像信号として取得するイメージセンサと、該イメージセンサで取得された画像信号を基に前記試料上の欠陥を検出する画像処理部とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
- 前記液浸手段として、前記試料と前記検出光学系の先端部の間に液体が満たされるように連続的に液体を供給し、該供給した液体の量以下の液体を連続的に排出する機構を備えて構成したことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 前記液浸手段として、前記試料と前記検出光学系の先端部との間において局所液浸状態になるように液体を供給して液体を排出する機構を備えて構成したことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 前記液浸手段として、前記試料を液体に浸して全面液浸状態にする液浸槽を備えて構成したことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 前記液浸手段として、前記液体が純水あるいはアルコール系液体あるいはフッ素系液体あるいはこれらのいずれかを混合した液体であることを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 更に、前記検出光学系の対物レンズを介して前記試料を照明して反射して前記対物レンズで捕捉した光を用いて焦点検出する焦点検出手段を備えたことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 前記試料の非検査時に前記検出光学系の先端部に紫外線を照射し、表面状態を活性化する手段を備えたことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- さらに、前記試料を事前に液浸させて液中スピンあるいは超音波振動させる機能を有する検査準備手段を備えたことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 前記検出光学系の対物レンズを介さずに前記試料を照明するオフアクシス照明系を備えたことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
- 前記試料を乾燥させる手段を備えたことを特徴とする請求項12記載の欠陥検査装置。
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