JP4824892B2 - シロキサンコポリカーボネートの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の技術的背景】
本発明はシロキサンコポリカーボネートの製造方法に関する。さらに具体的には、本発明はシロキサンコポリカーボネートを製造するための溶融縮重合法に関する。
【0002】
シロキサンコポリカーボネート及びその製造法は長年にわたり広く研究されてきた。シロキサンコポリカーボネートは周知の熱可塑性樹脂であり、射出成形用途で良好な流動特性及び離型性を有する。シロキサンコポリカーボネートの製造に一般に用いられている合成法は界面ホスゲン化法である。
【0003】
Phelpsらの米国特許第5530083号に記載された界面ホスゲン化法では、芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲンと触媒をヒドロキシアリール末端ジオルガノポリシロキサンと反応させる。この方法ではシロキサンモノマーはコポリカーボネート中に順調に組み込まれる。残念なことに、この界面ホスゲン化では化学的に有害なホスゲン及び環境面で有害な塩素化溶媒を使用する。
【0004】
溶融縮重合はコポリカーボネートのようなポリマーの周知の製造方法である。この方法はシロキサンコポリカーボネートの製造には未だ利用されていない。典型的な溶融プロセスに際して、シロキサン鎖の切断とそれに続くシロキサンの解重合によりシロキサン鎖の激しい分解が起こり、ジメチルシロキサン環状四量体(D4)のような環状シロキサンを生じる。シロキサン鎖の分解のためシロキサンコポリカーボネートの生成が阻害されるため、この方法はシロキサンコポリカーボネートの製造には利用されていない。
【0005】
界面法についての環境上の懸念及び溶融縮重合法でのシロキサン鎖の分解のため、新たなシロキサンコポリカーボネート合成法は絶えず求められてきた。
【0006】
【発明の概要】
本発明は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンと触媒を塩と共に反応させることからなるシロキサンコポリカーボネート製造用の溶融重合法を提供する。塩は約0.1M水溶液中で約0〜約7のpHを有する。
【0007】
【発明の実施の形態】
今般、酸性又は中性塩を用いることで溶融縮重合法をシロキサンコポリカーボネートの製造に使用できることが判明した。酸性又は中性塩が存在しないと、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンのシロキサン鎖は通例分解する。さらに、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンのシロキサン鎖が解重合して環状シリコーンを生ずる。塩の添加はシロキサン鎖を無傷のまま保つのに有効で、シロキサンポリカーボネートを首尾よく製造できる。
【0008】
本発明で典型的に用いられる塩としては、特に限定されないが、ハロ酸の塩及び不揮発性の酸の塩がある。ハロ酸の塩は塩酸、臭化水素酸又はヨウ化水素酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩である。不揮発性酸の塩は、亜リン酸、リン酸、イオウ酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、及び亜硫酸のようなイオウ酸の低級オキソ酸塩である。不揮発性酸の塩としては、リン酸塩、亜リン酸塩、硫酸塩、亜硫酸塩、及びEDTAのようなキレート型カルボン酸の塩がある。使用される典型的な塩は、リン酸塩、セシウム塩、ナトリウム塩、ハロゲン化物塩及びこれらの組合せである。塩は約0.1M水溶液中で約0〜約7のpHを有する。好ましくは、塩は約0.1M水溶液中で約5〜約6のpHを有する。
【0009】
溶融縮重合法で使用する典型的な触媒としては、特に限定されないが、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、第四級アンモニウム化合物及びこれらの組合せがある。
【0010】
触媒として有用なアルカリ金属化合物には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、ビスフェノールAの二ナトリウム塩、二カリウム塩及び二リチウム塩、並びにフェノールのナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩がある。
【0011】
触媒として有用なアルカリ土類金属化合物には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム及びステアリン酸ストロンチウムがある。
【0012】
触媒として有用な第四級アンモニウム化合物には、水酸化テトラメチルアンモニウムや水酸化テトラエチルアンモニウムのようなテトラアルキルアンモニウム化合物がある。
【0013】
好ましい触媒としては水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化ナトリウム及びこれらの混合物がある。
【0014】
塩は通例溶融縮重合プロセスの所期段階で添加する。最も典型的には、塩は反応器の温度が約100℃に達する前に添加される。この温度を超えるとシロキサン鎖の分解が起こるからである。塩は、溶液又は固体の形態など、どんな形態で添加してもよい。
【0015】
炭酸ジエステルは一般式R2(CO3)のものであり、式中、Rはアルキル基又はアリール基である。炭酸ジエステルの典型例としては、炭酸ジフェニル、炭酸ジトリル、炭酸ビス(クロロフェニル)、炭酸m−クレジル、炭酸ジナフチル、炭酸ジエチル、炭酸ジメチル、炭酸ジブチル、炭酸ジシクロヘキシル及びこれらの組合せがあるが、これらに限定されない。最も多用される炭酸ジエステルは炭酸ジフェニルである。
【0016】
本発明の実施に使用し得るヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンとして、次の式(I)に包含されるフェノール−シロキサンがある。
【0017】
【化1】
【0018】
式中、Rは水素から選択され、各Rは独立にハロゲン、C(1-8)アルコキシ、C(1-8)アルキル及びC(6-13)アリールから選択される同一又は異なる基であり、R1はC(2-8)二価脂肪族基であり、R2は独立に同一又は異なるC(1-13)一価有機基から選択され、nは約1〜約100の範囲内の整数であって約10〜約100の平均値を有する。好ましくは、nは約5〜約75の値を有し、さらに典型的には約10〜約60の値を有する。
【0019】
ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンは、次の式(II)の水素化シロキサンと脂肪族性不飽和一価フェノールとの白金触媒による付加反応を実施することで製造できる。
【0020】
【化2】
【0021】
式中、R2及びnは既に定義した通りである。類似の方法の例は米国特許第5357022号及び同第5530083号に開示されている。
【0022】
式IのRに包含される基には、ブロモ及びクロロのようなハロゲン原子、メチル、エチル及びプロピルのようなアルキル基、メトキシ、エトキシ及びプロポキシのようなアルコキシ基、フェニル、クロロフェニル及びトリルのようなアリールがある。R1に包含される基は、例えば、ジメチレン、トリメチレン及びテトラメチレンである。R2に包含される基は、例えば、C(1-8)アルキル基、トリフルオロプロピルのようなハロアルキル基、及びシアノアルキル基、並びにフェニル、クロロフェニル及びトリルのようなアリール基である。R2は好ましくはメチル又はメチルとトリフルオロプロピルの混合物又はメチルとフェニルの混合物である。
【0023】
ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンの製造に使用し得る脂肪族性不飽和一価フェノールには、例えば、オイゲノール、2−アリルフェノール、4−アリル−2−メチルフェノール、4−アリル−2−フェニルフェノール、4−アリル−2−ブロモフェノール、4−アリル−2−t−ブトキシフェノール、2−メチル−4−プロパルギルフェノール、2−アリル−4−ブロモ−6−メチルフェノール、2−アリル−6−メトキシ−4−メチルフェノール、2−アリル−4,6−ジメチルフェノール、4−ビニルフェノール及びp−イソプロフェニルフェノールがある。
【0024】
シロキサンコポリカーボネートの製造に適した芳香族ジヒドロキシ化合物としては、次の式(III)で表されるものがある。
(III) HO−D−OH
式中、Dは二価芳香族基である。好ましくは、Dは次式(IV)の構造を有する。
【0025】
【化3】
【0026】
式中、A1はフェニレン、ビフェニレン及びナフチレンなどの芳香族基を表す。Eはメチレン、エチレン、エチリデン、プロピレン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチレン、ブチリデン、イソブチリデン、アミレン、アミリデン及びイソアミリデンのようなアルキレン基又はアルキリデン基とし得る。Eがアルキレン基又はアルキリデン基の場合、アルキレンやアルキリデンとは異なる芳香族結合、第三級アミノ結合、エーテル結合、カルボニル結合、シランやシロキシなどの含ケイ素結合、スルフィド、スルホキシドもしくはスルホンなどの含イオウ結合、又はホスフィニルやホスホニルなどの含リン結合などの部分で連結された2以上のアルキレン基又はアルキリデン基からなるものでもよい。さらに、Eは、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシリデン、2−[2.2.1]−ビシクロへプチリデン、ネオペンチリデン、シクロペンタデシリデン、シクロドデシリデン及びアダマンチリデンなどの環式脂肪族基でもよい。R5は水素、又は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルカリール基、シクロアルキル基もしくはビシクロアルキル基のような一価炭化水素基を表す。「アルキル基」という用語は直鎖アルキル基及び枝分れアルキル基を意味する。直鎖及び枝分れアルキル基は好ましくは炭素原子数が約2〜約20のもので、非限定的な具体例としては、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシルがある。アリール基の具体例としてはフェニルやトリルなどがある。シクロアルキル基又はビシクロアルキル基は、好ましくは環炭素原子数が約3〜約12で全炭素原子数が約50以下のものである。これらのシクロアルキル基の非限定的な具体例としては、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル及びシクロヘプチルが挙げられる。好ましいアラルキル基は好ましくは炭素原子数が約7〜約14のものであり、具体例として、ベンジル、フェニルブチル、フェニルプロピル及びフェニルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。
【0027】
Y1は、フッ素、臭素、塩素及びヨウ素のようなハロゲン、ジメチルアミノのような第三級窒素基、上述のR5のような有機基、又はORのようなアルコキシ基(Rはアルキル基又はアリール基)であればよく、唯一必要とされることはY1がポリエステルカーボネートの製造に用いられる反応体及び反応条件に対して不活性で反応体及び反応条件によって影響を受けないことである。添字「m」は零からA1上で置換可能な部位の数までの整数を表し、「p」は零からE上で置換可能な部位の数までの整数を表し、「t」は1以上の整数を表し、「s」は0又は1であり、「u」は0を含めた整数を表す。
【0028】
Dが上記の式(III)で表される芳香族ジヒドロキシフェノール化合物で、2以上のY1置換基が存在する場合、Y1は同一でも異なるものでもよい。例えば、Y1置換基は異なるハロゲンの組合せであってもよい。また、R5置換基も2以上存在する場合、同一でも異なるものでもよい。式(IV)における「s」が0で、「u」が0でないときは、芳香族環同士が直接結合している。炭化水素残基の2以上の環炭素原子がY1基及びヒドロキシ基で置換されている場合、芳香核残基A1上のヒドロキシ基とY1の位置はオルト位、メタ位又はパラ位と変更でき、これらの基同士は隣接、対称又は非対称のいずれの関係にあってもよい。
【0029】
式(III)の芳香族ジヒドロキシ化合物の非限定的な具体例を幾つか挙げると、米国特許第4217438号に上位概念又は下位概念で開示されたジヒドロキシ置換芳香族炭化水素がある。芳香族ジヒドロキシフェノールの好ましい具体例を幾つか挙げると、4,4′−(3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデン)ジフェノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(一般にビスフェノールAとして知られる。)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,4′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−5−ニトロフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3−メトキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−2−クロロフェニル)エタン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルプロパン、2,2,2′,2′−テトラヒドロ−3,3,3′,3′−テトラメチル−1,1−スピロビ[1H−インデン]−6,6′−ジオール(SBI)、レゾルシノール及びC1-3アルキル置換レゾルシノール類がある。
【0030】
最も典型的には、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンが好ましい芳香族ジヒドロキシ化合物である。複数の芳香族ジヒドロキシ化合物の組合せも使用できる。
【0031】
シロキサンコポリカーボネートの形成には、芳香族ジヒドロキシ化合物1モル当たり1モルの炭酸ジエステルが必要とされる。触媒は、芳香族ジヒドロキシ化合物のモル数に対して約10-8〜約10-3モル存在する。別の実施形態では、触媒が、芳香族ジヒドロキシ化合物のモル数に対して約10-7〜約10-5モル存在する。ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンは、シロキサンコポリカーボネートの約0.1〜約40重量%存在する。
【0032】
溶融縮重合プロセスでは、上記反応体を約180〜約330℃の範囲内の温度、さらに好ましくは約200〜約300℃の範囲内の温度に加熱する。反応容器は通例酸素でパージし、窒素のような不活性ガスで満たす。反応容器の圧力は通例約0.5〜約200torrである。反応は回分式、連続式又は半連続式に実施される。温度/圧力比は、反応中、低温・高圧から高温・低圧へと変化する。反応プロセスの合計時間は約2〜約7時間である。
【0033】
酸性塩又は中性塩の添加によって、溶融縮重合法でのシロキサンコポリカーボネートの製造がうまくいく。塩の添加はシロキサン部分の分解を有効に防止する。塩の高い活性により、シロキサンコポリカーボネートの分子量を損なうことなく、触媒の使用量を大幅に100倍も減らすことができる。高分子量ポリマーは好ましくは約20000を超える分子量を有する。
【0034】
【実施例】
当業者が本発明を容易に実施できるように以下に実施例を挙げるが、実施例は例示のためのものであって限定のためのものではない。
【0035】
実施例1
内径1インチの平底ガラス反応器に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(8.063g)、炭酸ジフェニル(8.054g)及びオイゲノール末端シロキサン流体(1.001g、繰返し単位数が11で式Iのnが10に等しいもの。)を仕込んだ。水酸化テトラメチルアンモニウム(2.2mM溶液39.0μl)と硫酸セシウム(1mM溶液17.5μl)をピペットで加えた。反応器に、ガラス攪拌機と耐高真空Dean−Stark受け器と45℃に加熱した凝縮器(ガス導入用アダプタを取り付けたもの)を装着した。フラスコを1torr未満に排気し、乾燥窒素ガスを再充填した。反応器の排気及び再充填プロセスを3度繰り返した。次いでフラスコを180℃の塩浴で加熱した。、材料を10分間溶融させた後、浴温の設定値を210℃に上げ、材料を40rpmで攪拌した。26分間攪拌後に浴は210℃に達し、圧力を120torrに下げた。次の90分間でフェノール4.2mlが留去し、圧力が次第に95torrに下がった。次の20分間浴温を270℃に上げたところ、圧力は40torrに下がった。次に浴温を300℃に上げ、圧力を1torr未満に下げた。この条件に65分間維持し、しかる後圧力を大気圧に上げ、反応器から材料を取り出した。
【0036】
得られたシロキサンコポリカーボネートは、示差走査熱量測定(DSC)で測定して128℃のTg、及びゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)でポリスチレン標準に対して測定して151000の分子量を有しており、プロトン核磁気分光法で求めたシロキサン分解率は1%未満であった。
【0037】
実施例2
内径1インチの平底ガラス反応器に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(5.025g)、炭酸ジフェニル(5.158g)及びオイゲノール末端シロキサン流体(1.374g、繰返し単位数が11で式Iのnが10に等しいもの。)を仕込んだ。水酸化テトラメチルアンモニウム(2.2mM溶液25.78μl)と硫酸セシウム(1mM溶液11.58μl)をピペットで加えた。反応器に、ガラス攪拌機と耐高真空Dean−Stark受け器と45℃に加熱した凝縮器(ガス導入用アダプタを取り付けたもの)を装着した。フラスコを1torr未満に排気し、乾燥窒素ガスを再充填した。この工程を3度繰り返した後、フラスコを180℃の塩浴で加熱した。材料を15分間溶融させた後、浴温の設定値を210℃に上げ、材料を40rpmで攪拌した。25分間反応後、圧力は260torrに下がった。30分後に浴は214℃に達し、浴温の設定値を260℃に上げ、圧力は210torrに下げた。次の15分間でフェノール3.2mlが留去した。圧力は次第に1torr未満に下がり、次の20分間浴を300℃に上げた。この条件を60分間維持し、しかる後に圧力を大気圧に上げ、反応器から材料を取り出した。
【0038】
得られたシロキサンコポリカーボネートは、示差走査熱量測定(DSC)で測定して118℃のTg、及びゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)でポリスチレン標準に対して測定して51500の分子量を有しており、プロトン核磁気共鳴分光法による分析でシロキサンコポリカーボネートには高分子量ポリマーの他にシロキサン部分の分解率がほとんど或いは全くみられないことが判明した。
【0039】
実施例3〜7
実施例1の方法でシロキサンコポリマーが10重量%であるシロキサンコポリカーボネートを作成した。分解はプロトン核磁気共鳴分光法で分析した。使用した触媒は水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)及び水酸化ナトリウム(NaOH)であった。使用した塩は硫酸セシウム(Cs2SO4)であった。反応時間に加えて触媒及び塩の量を変化させて、分子量及びシロキサン分解率に関して生成シロキサンコポリカーボネートに与える影響を検討した。生成シロキサンコポリカーボネートの結果を表1に示す。
【0040】
【表1】
【0041】
表1の結果に示す通り、水酸化ナトリウムに代えて硫酸セシウムを使用すると分解の量が減る。さらに、水酸化テトラメチルアンモニウムを百分の一に減らして、硫酸セシウムを使用すると、分解が全くみられないシロキサンコポリカーボネートが生成した。
【0042】
例示のため典型的な実施形態を開示してきたが、以上の説明は本発明の技術的範囲を限定するものではない。当業者には、本発明の技術的思想及び範囲から逸脱せずに、様々な修正、適応及び変更が可能であろう。
Claims (20)
- シロキサンコポリカーボネートを製造するための溶融重合法であって、当該方法は塩存在下で1種以上の芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンと触媒を反応させることを含んでなり、
前記触媒は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、ビスフェノールAの二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、フェノールのカリウム塩、フェノールのリチウム塩、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウム、水酸化テトラアルキルアンモニウム、水酸化テトラアルキルホスホニウム、及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
前塩は塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、亜リン酸、リン酸、硫酸、及び亜硫酸のアルカリ金属塩;塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、亜リン酸、リン酸、硫酸、及び亜硫酸のアルカリ土類金属塩;及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれる少なくとも1種である、方法。 - 前記塩が0.1Mの水溶液中で0〜7の範囲のpHを有する、請求項1記載の方法。
- 前記塩が0.1Mの水溶液中で5〜6のpHを有する、請求項1記載の方法。
- 前記塩がリン酸塩、亜リン酸塩、セシウム塩、ナトリウム塩、ハロゲン化物塩又はこれらの組合せを含んでなる、請求項2記載の方法。
- 前記塩が硫酸セシウムを含んでなる、請求項1記載の方法。
- 前記芳香族ジヒドロキシ化合物が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを含んでなる、請求項1記載の方法。
- 前記炭酸ジエステルが炭酸ジフェニルを含んでなる、請求項1記載の方法。
- 前記触媒が水酸化テトラアルキルアンモニウムである、請求項1記載の方法。
- 前記触媒が水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ナトリウム、又はこれらの組み合わせを含んでなる、請求項1記載の方法。
- 前記ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンがオイゲノール末端ポリジオルガノシロキサンを含んでなる、請求項1記載の方法。
- 前記反応を180〜330℃の温度で実施する、請求項1記載の方法。
- 前記反応を200〜300℃の温度で実施する、請求項11記載の方法。
- 前記反応を回分式で実施する、請求項1記載の方法。
- 前記反応を連続式で実施する、請求項1記載の方法。
- 前記芳香族ジヒドロキシ化合物が炭酸ジエステルに対して1:1の比で存在する、請求項1記載の方法。
- 前記ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンがシロキサンコポリカーボネートの0.1〜40重量%存在する、請求項1記載の方法。
- 前記触媒が芳香族ジヒドロキシ化合物のモル数に対して10−8〜10−3モルの比で存在する、請求項1記載の方法。
- 前記触媒が芳香族ジヒドロキシ化合物のモル数に対して10−7〜10−5モルの比で存在する、請求項1記載の方法。
- 前記反応を0.5〜200torrの圧力で実施する、請求項1記載の方法。
- シロキサンコポリカーボネートを製造するための溶融重合法であって、硫酸セシウム存在下で2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンと炭酸ジフェニルとオイゲノール末端ポリジオルガノシロキサンと水酸化テトラメチルアンモニウムを反応させることを含んでなる方法。
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