JP3350617B2 - 低減された曇り価をもつシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体及びポリカーボネート配合物及びそれらの製造法 - Google Patents
低減された曇り価をもつシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体及びポリカーボネート配合物及びそれらの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/445—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
- C08G77/448—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences containing polycarbonate sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/18—Block or graft polymers
- C08G64/186—Block or graft polymers containing polysiloxane sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は低減された曇り価をもつ
シリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体及びそ
れらとポリカーボネートとの配合物及びそれらの製造法
に関する。特に本発明は少なくとも1個の末端ハロホル
メート基をもつポリカーボネートオリゴマーを界面反応
条件下にまず形成しそしてその後に末端ヒドロキシアリ
ール基をもつポリジオルガノシロキサンと反応させるシ
リコーン−ポリカーボネートブロック共重合体の製造法
に関するものである。
シリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体及びそ
れらとポリカーボネートとの配合物及びそれらの製造法
に関する。特に本発明は少なくとも1個の末端ハロホル
メート基をもつポリカーボネートオリゴマーを界面反応
条件下にまず形成しそしてその後に末端ヒドロキシアリ
ール基をもつポリジオルガノシロキサンと反応させるシ
リコーン−ポリカーボネートブロック共重合体の製造法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコーン−ポリカーボネートブロック
共重合体は低温で延性を示しかつ難燃性であることが認
められている。これらのブロック共重合体はホスゲンを
界面反応条件下でビスフェノールA(BPA)のような
二価フェノール及びヒドロキシアリール末端ポリジオル
ガノシロキサンの混合物中に導入することによって製造
することができる。これらの反応剤の重合は第3級アミ
ン触媒の使用によって促進し得る。かく得られるシリコ
ーン−ポリカーボネートブロック共重合体はポリカーボ
ネートと比較して改善された難燃性をもつことが認めら
れているが、かゝるシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体の透明度はしばしば悪影響を受ける。
共重合体は低温で延性を示しかつ難燃性であることが認
められている。これらのブロック共重合体はホスゲンを
界面反応条件下でビスフェノールA(BPA)のような
二価フェノール及びヒドロキシアリール末端ポリジオル
ガノシロキサンの混合物中に導入することによって製造
することができる。これらの反応剤の重合は第3級アミ
ン触媒の使用によって促進し得る。かく得られるシリコ
ーン−ポリカーボネートブロック共重合体はポリカーボ
ネートと比較して改善された難燃性をもつことが認めら
れているが、かゝるシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体の透明度はしばしば悪影響を受ける。
【0003】経験によれば、ホスゲンを二価フェノール
及びフェノール末端置換ポリジオルガノシロキサンの混
合物中に界面反応条件下で導入する場合には、二価フェ
ノール及びフェノール末端置換ポリジオルガノシロキサ
ンは異なる速度でオリゴマー化するので種々の反応が生
起し得ることが判明している。その結果として、シロキ
サンに富む共重合体及びシリコーンを実質的に含まない
ポリカーボネートを包含する数種のポリカーボネート生
成物が形成され得る。この結果、きわめて曇りを帯びた
又はほとんど不透明なシリコーン−ポリカーボネートブ
ロック共重合体を与え得る。
及びフェノール末端置換ポリジオルガノシロキサンの混
合物中に界面反応条件下で導入する場合には、二価フェ
ノール及びフェノール末端置換ポリジオルガノシロキサ
ンは異なる速度でオリゴマー化するので種々の反応が生
起し得ることが判明している。その結果として、シロキ
サンに富む共重合体及びシリコーンを実質的に含まない
ポリカーボネートを包含する数種のポリカーボネート生
成物が形成され得る。この結果、きわめて曇りを帯びた
又はほとんど不透明なシリコーン−ポリカーボネートブ
ロック共重合体を与え得る。
【0004】したがって、実質的に低減された曇り価及
び実質的に改善された透過率をもつシリコーン−ポリカ
ーボネートブロック共重合体を製造し得ることが望まし
いであろう。さらに、かゝる改善されたシリコーン−ポ
リカーボネートブロック共重合体の改良された製造法を
提供することも望ましいであろう。以下、本発明の実施
に従って製造されるシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体の記載に関して使用される場合、用語“曇
り価”は試験片を通過する際に前方散乱によって入射光
からそれる透過光のパーセント(ASTM試験法D10
03−61)を意味する。
び実質的に改善された透過率をもつシリコーン−ポリカ
ーボネートブロック共重合体を製造し得ることが望まし
いであろう。さらに、かゝる改善されたシリコーン−ポ
リカーボネートブロック共重合体の改良された製造法を
提供することも望ましいであろう。以下、本発明の実施
に従って製造されるシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体の記載に関して使用される場合、用語“曇
り価”は試験片を通過する際に前方散乱によって入射光
からそれる透過光のパーセント(ASTM試験法D10
03−61)を意味する。
【0005】本発明のシリコーン−ポリカーボネートブ
ロック共重合体の記載に関して以下において使用される
場合、用語“透過率”は方法E308(ASTM試験法
D1003−61)に従う入射光に対する透過光の比を
意味する。
ロック共重合体の記載に関して以下において使用される
場合、用語“透過率”は方法E308(ASTM試験法
D1003−61)に従う入射光に対する透過光の比を
意味する。
【0006】
【発明の概要】本発明は、改善された透過率及び低減さ
れた曇り価をもつシリコーン−ポリカーボネートブロッ
ク共重合体はホスゲンを当初界面反応条件下で相間移動
触媒の有効量を含みかつ約8ないし約12のpH値をも
つ二価フェノール混合物中に導入することによって製造
することができるとの知見に基づくものである。ホスゲ
ン化はクロルホルメート末端ポリカーボネートの十分な
形成が達成されるまで続け、ついで末端ヒドロキシアリ
ール基をもつポリジオルガノシロキサンを導入する。
れた曇り価をもつシリコーン−ポリカーボネートブロッ
ク共重合体はホスゲンを当初界面反応条件下で相間移動
触媒の有効量を含みかつ約8ないし約12のpH値をも
つ二価フェノール混合物中に導入することによって製造
することができるとの知見に基づくものである。ホスゲ
ン化はクロルホルメート末端ポリカーボネートの十分な
形成が達成されるまで続け、ついで末端ヒドロキシアリ
ール基をもつポリジオルガノシロキサンを導入する。
【0007】さらに、ポリカーボネートと本発明の方法
に従って製造されたシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体との配合物は低減された曇り価及び改善さ
れた透過率を有し得ることが認められた。したがって、
本発明は、約10未満の曇り価(%)及び約10ないし
約100個の化学的に結合されたジオルガノシロキシ単
位の平均ブロック長をもつ約0.5ないし約10重量%
の化学的に結合されたポリジオルガノシロキサンを有す
るシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体を提
供するものである。
に従って製造されたシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体との配合物は低減された曇り価及び改善さ
れた透過率を有し得ることが認められた。したがって、
本発明は、約10未満の曇り価(%)及び約10ないし
約100個の化学的に結合されたジオルガノシロキシ単
位の平均ブロック長をもつ約0.5ないし約10重量%
の化学的に結合されたポリジオルガノシロキサンを有す
るシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体を提
供するものである。
【0008】本発明の別の一形態によれば、つぎの成
分: (A)ポリカーボネート;及び (B)約10ないし約100個の化学的に結合されたジ
オルガノシロキシ単位の平均ブロック長をもつ約0.5
ないし約80重量%のポリジオルガノシロキサンを有す
るシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体;を
含有してなり、そのシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体は(A)及び(B)の重量に基づいて約
0.5ないし約10重量%、好ましくは約5重量%のポ
リジオルガノシロキサンを与えるに足る量でポリカーボ
ネート配合物中に存在する、約30未満の曇り価(%)
をもつ配合物が提供される。
分: (A)ポリカーボネート;及び (B)約10ないし約100個の化学的に結合されたジ
オルガノシロキシ単位の平均ブロック長をもつ約0.5
ないし約80重量%のポリジオルガノシロキサンを有す
るシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体;を
含有してなり、そのシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体は(A)及び(B)の重量に基づいて約
0.5ないし約10重量%、好ましくは約5重量%のポ
リジオルガノシロキサンを与えるに足る量でポリカーボ
ネート配合物中に存在する、約30未満の曇り価(%)
をもつ配合物が提供される。
【0009】本発明のさらに別の一形態によれば、つぎ
の工程: (A)ホスゲン及びビスフェノールの反応の触媒として
有効量の相間移動触媒の存在において、界面反応条件下
かつ約10ないし約12の範囲のpH条件下で、ホスゲ
ンをビスフェノールに、ビスフェノールの利用し得るヒ
ドロキシル基の全モル数に基づいて約1ないし約99モ
ル%のホスゲンが添加されるまで、添加し; (B)工程(A)の混合物のpHを約8.0ないし約
9.0の範囲の値まで低下させ、そしてかゝるpH範囲
を維持しながらホスゲンの該混合物への添加を、ホスゲ
ンがビスフェノールの利用し得るヒドロキシル基及び得
られるシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体
中の所望のポリジオルガノシロキサンの重量%要求値を
満たすように次後に該混合物に添加されるポリジオルガ
ノシロキサンの末端位置に存在し得るヒドロキシアリー
ル基と反応し得るに足るクロルホルメート末端基を発生
するに充分な少なくとも十分量でかつ約5モル%過剰ま
での量で存在するまで、継続して行い; (C)工程(B)の混合物中に予定された重量%割合の
ヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンを導入
し; (D)工程(C)の得られる混合物のpH値を約10な
いし約12の範囲の値まで上昇させ;そして (E)工程(D)の混合物中に存在し得る過剰量のクロ
ルホルメート基を除去する; 工程を含んでなる、ポリカーボネートと配合して約30
未満の曇り価をもつポリカーボネート配合物を製造し得
るものであり、しかも約10ないし約100個の化学的
に結合されたジオルガノシロキシ単位の平均ブロック長
をもつ約0.5ないし約80重量%の化学的に結合され
たポリジオルガノシロキサンを有するシリコーン−ポリ
カーボネートブロック共重合体の製造法が提供される。
の工程: (A)ホスゲン及びビスフェノールの反応の触媒として
有効量の相間移動触媒の存在において、界面反応条件下
かつ約10ないし約12の範囲のpH条件下で、ホスゲ
ンをビスフェノールに、ビスフェノールの利用し得るヒ
ドロキシル基の全モル数に基づいて約1ないし約99モ
ル%のホスゲンが添加されるまで、添加し; (B)工程(A)の混合物のpHを約8.0ないし約
9.0の範囲の値まで低下させ、そしてかゝるpH範囲
を維持しながらホスゲンの該混合物への添加を、ホスゲ
ンがビスフェノールの利用し得るヒドロキシル基及び得
られるシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体
中の所望のポリジオルガノシロキサンの重量%要求値を
満たすように次後に該混合物に添加されるポリジオルガ
ノシロキサンの末端位置に存在し得るヒドロキシアリー
ル基と反応し得るに足るクロルホルメート末端基を発生
するに充分な少なくとも十分量でかつ約5モル%過剰ま
での量で存在するまで、継続して行い; (C)工程(B)の混合物中に予定された重量%割合の
ヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンを導入
し; (D)工程(C)の得られる混合物のpH値を約10な
いし約12の範囲の値まで上昇させ;そして (E)工程(D)の混合物中に存在し得る過剰量のクロ
ルホルメート基を除去する; 工程を含んでなる、ポリカーボネートと配合して約30
未満の曇り価をもつポリカーボネート配合物を製造し得
るものであり、しかも約10ないし約100個の化学的
に結合されたジオルガノシロキシ単位の平均ブロック長
をもつ約0.5ないし約80重量%の化学的に結合され
たポリジオルガノシロキサンを有するシリコーン−ポリ
カーボネートブロック共重合体の製造法が提供される。
【0010】
【発明の詳細な開示】本発明の実施において使用し得る
ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンのあ
るものは式:
ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロキサンのあ
るものは式:
【0011】
【化1】
【0012】(式中、Rは水素及び同一でも異なっても
よいハロゲン、C(1-8) アルコキシ基、C(1-8) アルキ
ル基及びC(6-13)アリール基から選んだ基から選ばれ、
R1 はC(2-8) 二価脂肪族基であり、R2 は同一でも異
なってもよいC(1-13)一価有機基であり、そしてnは1
−1000の整数でかつ10ないし約100の平均値を
もつ)の範囲内に包含されるフェノール−シロキサンで
ある。好ましくは、nは25ないし75の数値を表し、
40ないし60の範囲が特に好ましい。
よいハロゲン、C(1-8) アルコキシ基、C(1-8) アルキ
ル基及びC(6-13)アリール基から選んだ基から選ばれ、
R1 はC(2-8) 二価脂肪族基であり、R2 は同一でも異
なってもよいC(1-13)一価有機基であり、そしてnは1
−1000の整数でかつ10ないし約100の平均値を
もつ)の範囲内に包含されるフェノール−シロキサンで
ある。好ましくは、nは25ないし75の数値を表し、
40ないし60の範囲が特に好ましい。
【0013】ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシ
ロキサンは式:
ロキサンは式:
【0014】
【化2】
【0015】(式中、R2 及びnは前記の意義を有す
る)のシロキサン水素化物及び脂肪族不飽和分を含む一
価フェノールとの白金触媒の存在における付加反応によ
って製造し得る。同様の方法はこゝに参考文献として引
用する本出願人自身の1993年4月16日付出願の米
国特許出願SN.08/046,444号明細書に示さ
れている。
る)のシロキサン水素化物及び脂肪族不飽和分を含む一
価フェノールとの白金触媒の存在における付加反応によ
って製造し得る。同様の方法はこゝに参考文献として引
用する本出願人自身の1993年4月16日付出願の米
国特許出願SN.08/046,444号明細書に示さ
れている。
【0016】上記の式においてRの範囲内に包含される
基のあるものはブロム基及びクロル基のようなハロゲン
基;メチル、エチル及びプロピル基のようなアルキル
基;メトキシ、エトキシ及びプロポキシ基のようなアル
コキシ基;フェニル、クロルフェニル及びトリル基のよ
うなアリール基である。R1 の範囲内に包含される基の
例はジメチレン、トリメチレン及びテトラメチレン基で
ある。R2 の範囲内に包含される基の例はC(1-8) アル
キル基、トリフルオルプロピル基のようなハロアルキル
基及びシアノアルキル基;フェニル、クロルフェニル及
びトリル基のようなアリール基である。R2 は好ましく
はメチル基、又はメチル基及びトリフルオルプロピル基
の混合物、又はメチル基及びフェニル基の混合物であ
る。
基のあるものはブロム基及びクロル基のようなハロゲン
基;メチル、エチル及びプロピル基のようなアルキル
基;メトキシ、エトキシ及びプロポキシ基のようなアル
コキシ基;フェニル、クロルフェニル及びトリル基のよ
うなアリール基である。R1 の範囲内に包含される基の
例はジメチレン、トリメチレン及びテトラメチレン基で
ある。R2 の範囲内に包含される基の例はC(1-8) アル
キル基、トリフルオルプロピル基のようなハロアルキル
基及びシアノアルキル基;フェニル、クロルフェニル及
びトリル基のようなアリール基である。R2 は好ましく
はメチル基、又はメチル基及びトリフルオルプロピル基
の混合物、又はメチル基及びフェニル基の混合物であ
る。
【0017】ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシ
ロキサンの製造に使用し得る脂肪族不飽和分を含む一価
フェノールの幾つかの例はオイゲノール、2−アリルフ
ェノール、4−アリル−2−メチルフェノール、4−ア
リル−2−フェニルフェノール、4−アリル−2−ブロ
ムフェノール、4−アリル−2−t−ブトキシフェノー
ル、4−フェニル−2−フェニルフェノール、2−メチ
ル−4−プロパルギルフェノール、2−アリル−4,6
−ジメチルフェノール、2−アリル−4−ブロム−6−
メチルフェノール、2−アリル−6−メトキシ−4−メ
チルフェノール及び2−アリル−4,6−ジメチルフェ
ノールである。
ロキサンの製造に使用し得る脂肪族不飽和分を含む一価
フェノールの幾つかの例はオイゲノール、2−アリルフ
ェノール、4−アリル−2−メチルフェノール、4−ア
リル−2−フェニルフェノール、4−アリル−2−ブロ
ムフェノール、4−アリル−2−t−ブトキシフェノー
ル、4−フェニル−2−フェニルフェノール、2−メチ
ル−4−プロパルギルフェノール、2−アリル−4,6
−ジメチルフェノール、2−アリル−4−ブロム−6−
メチルフェノール、2−アリル−6−メトキシ−4−メ
チルフェノール及び2−アリル−4,6−ジメチルフェ
ノールである。
【0018】本発明の実施に使用し得る好ましい相間移
動触媒の例としては、式: (R3 )4 Q+ X [式中、R3 は同一でも異なってもよいC(1-10)アルキ
ル基から選ばれ、Qは窒素又は燐原子であり、そしてX
はハロゲン原子、又は−OR4 基(R4 は水素、C
(1-8) アルキル基及びC(6-18)アリール基から選んだ一
員である)から選ばれる]の化合物が挙げられる。
動触媒の例としては、式: (R3 )4 Q+ X [式中、R3 は同一でも異なってもよいC(1-10)アルキ
ル基から選ばれ、Qは窒素又は燐原子であり、そしてX
はハロゲン原子、又は−OR4 基(R4 は水素、C
(1-8) アルキル基及びC(6-18)アリール基から選んだ一
員である)から選ばれる]の化合物が挙げられる。
【0019】本発明の実施に使用し得る相間移動触媒
(PTC)のあるものは次式で表されるものを包含す
る; [CH3 (CH2 )3 ]4 NX [CH3 (CH2 )3 ]4 PX [CH3 (CH2 )5 ]4 NX [CH3 (CH2 )6 ]4 NX [CH3 (CH2 )4 ]4 NX CH3 [CH3 (CH2 )2 ]3 NX CH3 [CH3 (CH2 )3 ]3 NX (式中、XはCl- 、Br- 又は−OR4 から選ばれ
る。) PTCの有効量はホスゲン化混合物中のビスフェノール
の重量に基づいて0.1ないし10重量%、好ましくは
0.5ないし2重量%である。
(PTC)のあるものは次式で表されるものを包含す
る; [CH3 (CH2 )3 ]4 NX [CH3 (CH2 )3 ]4 PX [CH3 (CH2 )5 ]4 NX [CH3 (CH2 )6 ]4 NX [CH3 (CH2 )4 ]4 NX CH3 [CH3 (CH2 )2 ]3 NX CH3 [CH3 (CH2 )3 ]3 NX (式中、XはCl- 、Br- 又は−OR4 から選ばれ
る。) PTCの有効量はホスゲン化混合物中のビスフェノール
の重量に基づいて0.1ないし10重量%、好ましくは
0.5ないし2重量%である。
【0020】本発明の実施に従ってホスゲン化し得るビ
スフェノールの代表的な例はつぎの化合物を包含する; レゾルシノール 4−ブロムレゾルシノール ハイドロキノン 4,4′−ジヒドロキシビフェニル 1,6−ジヒドロキシナフタリン 2,6−ジヒドロキシナフタリン ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−ナフチルメタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン 1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニ
ルエタン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
(“ビスフェノールA”) 2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(3−ヒドロキ
シフェニル)プロパン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)イソブタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカ
ン トランス−2,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
2−ブテン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)トルエン ビス(4−ヒドロキシフェニル)アセトニトリル 2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン 2,2−ビス(3−エチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン 2,2−ビス(3−n−プロピル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−第2級ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−第3級ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン 2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン 2,2−ビス(3−メトキシ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ルプロパン 1,1−ジクロル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エチレン 1,1−ジブロム−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エチレン 1,1−ジクロル−2,2−ビス(5−フェノキシ−4
−ヒドロキシフェニル)エチレン 4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノン 3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−ブタノ
ン 1,6−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,6−ヘ
キサンジオン エチレングリコールビス(4−ヒドロキシフェニル)エ
ーテル ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン 9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン 2,7−ジヒドロキシピレン 6,6′−ジヒドロキシ−3,3,3′,3′−テトラ
メチルスピロ(ビス)インダン(“スピロビインダンビ
スフェノール”) 3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタリド 2,6−ジヒドロキシジベンゾ−p−ジオキシン 2,6−ジヒドロキシチアントレン 2,7−ジヒドロキシフェノキサチイン 2,7−ジヒドロキシ−9,10−ジメチルフェナジン 3,6−ジヒドロキシジベンゾフラン 3,6−ジヒドロキシジベンゾチオフェン 2,7−ジヒドロキシカルバゾール シリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体と配合
し得るポリカーボネートの代表的なものは前述したごと
きビスフェノール、好ましくはビスフェノールA(BP
A)をホスゲン化することによって形成されるものであ
る。BPAポリカーボネートは好ましくはクロロホルム
中で25℃で測定して0.35ないし1.8dl/gの
固有粘度(IV)をもつ。シリコーン−ポリカーボネー
トブロック共重合体と配合するに有用なポリカーボネー
トの製造のために使用し得る別の方法は溶融重合条件下
のエステル交換によるポリカーボネートの製造法を包含
する。
スフェノールの代表的な例はつぎの化合物を包含する; レゾルシノール 4−ブロムレゾルシノール ハイドロキノン 4,4′−ジヒドロキシビフェニル 1,6−ジヒドロキシナフタリン 2,6−ジヒドロキシナフタリン ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−ナフチルメタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン 1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニ
ルエタン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
(“ビスフェノールA”) 2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(3−ヒドロキ
シフェニル)プロパン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)イソブタン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン 1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカ
ン トランス−2,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
2−ブテン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)トルエン ビス(4−ヒドロキシフェニル)アセトニトリル 2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン 2,2−ビス(3−エチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン 2,2−ビス(3−n−プロピル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−第2級ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−第3級ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン 2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン 2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン 2,2−ビス(3−メトキシ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ルプロパン 1,1−ジクロル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エチレン 1,1−ジブロム−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エチレン 1,1−ジクロル−2,2−ビス(5−フェノキシ−4
−ヒドロキシフェニル)エチレン 4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノン 3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−ブタノ
ン 1,6−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,6−ヘ
キサンジオン エチレングリコールビス(4−ヒドロキシフェニル)エ
ーテル ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン 9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン 2,7−ジヒドロキシピレン 6,6′−ジヒドロキシ−3,3,3′,3′−テトラ
メチルスピロ(ビス)インダン(“スピロビインダンビ
スフェノール”) 3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタリド 2,6−ジヒドロキシジベンゾ−p−ジオキシン 2,6−ジヒドロキシチアントレン 2,7−ジヒドロキシフェノキサチイン 2,7−ジヒドロキシ−9,10−ジメチルフェナジン 3,6−ジヒドロキシジベンゾフラン 3,6−ジヒドロキシジベンゾチオフェン 2,7−ジヒドロキシカルバゾール シリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体と配合
し得るポリカーボネートの代表的なものは前述したごと
きビスフェノール、好ましくはビスフェノールA(BP
A)をホスゲン化することによって形成されるものであ
る。BPAポリカーボネートは好ましくはクロロホルム
中で25℃で測定して0.35ないし1.8dl/gの
固有粘度(IV)をもつ。シリコーン−ポリカーボネー
トブロック共重合体と配合するに有用なポリカーボネー
トの製造のために使用し得る別の方法は溶融重合条件下
のエステル交換によるポリカーボネートの製造法を包含
する。
【0021】本発明の一実施態様においては、シリコー
ン−ポリカーボネートブロック共重合体はつぎのように
して製造し得る。すなわち、まずビスフェノールを有機
溶剤及び有効量の相間移動触媒と配合し、そしてホスゲ
ン化に先立ってビスフェノール反応混合物のpHを約1
0.5の値に高めるに足る量のアルカリ金属水酸化物を
使用し得る。この結果、ある量のビスフェノールの水性
相への溶解を達成し得る。
ン−ポリカーボネートブロック共重合体はつぎのように
して製造し得る。すなわち、まずビスフェノールを有機
溶剤及び有効量の相間移動触媒と配合し、そしてホスゲ
ン化に先立ってビスフェノール反応混合物のpHを約1
0.5の値に高めるに足る量のアルカリ金属水酸化物を
使用し得る。この結果、ある量のビスフェノールの水性
相への溶解を達成し得る。
【0022】使用し得る適当な有機溶剤の例は塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、ト
リクロルエタン、テトラクロルエタン、ジクロルエタン
及び1,2−ジクロルエチレンのような塩素化脂肪族炭
化水素;クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン及び種
々のクロルトルエンのような置換芳香族炭化水素であ
る。塩素化脂肪族炭化水素、特に塩化メチレンが好まし
い。
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、ト
リクロルエタン、テトラクロルエタン、ジクロルエタン
及び1,2−ジクロルエチレンのような塩素化脂肪族炭
化水素;クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン及び種
々のクロルトルエンのような置換芳香族炭化水素であ
る。塩素化脂肪族炭化水素、特に塩化メチレンが好まし
い。
【0023】アルカリ金属又はアルカリ土金属水酸化物
水溶液の添加によってホスゲン化混合物のpHを約10
ないし約12の範囲であり得るpH設定値の近くに保持
することができる。使用し得るアルカリ金属又はアルカ
リ土金属水酸化物の代表的な例は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム及び水酸化カルシウムである。水酸化ナト
リウム及び水酸化カリウム、特に水酸化ナトリウムが好
ましい。
水溶液の添加によってホスゲン化混合物のpHを約10
ないし約12の範囲であり得るpH設定値の近くに保持
することができる。使用し得るアルカリ金属又はアルカ
リ土金属水酸化物の代表的な例は水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム及び水酸化カルシウムである。水酸化ナト
リウム及び水酸化カリウム、特に水酸化ナトリウムが好
ましい。
【0024】約10ないし約12のpHにおけるホスゲ
ンの導入工程の間に、そしてホスゲンの添加速度に応じ
て、pHはヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロ
キサンの導入を許容するように低下せしめ得る。pHは
アルカリ金属又はアルカリ土金属水酸化物水溶液の添加
速度を調節するpH電極を通じて反応混合物を再循環す
ることによって調節し得る。所要の過剰量のホスゲンが
添加された後に、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガ
ノシロキサンを導入し得る。その際に、混合物のpHを
約10ないし12に高めることができる。
ンの導入工程の間に、そしてホスゲンの添加速度に応じ
て、pHはヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシロ
キサンの導入を許容するように低下せしめ得る。pHは
アルカリ金属又はアルカリ土金属水酸化物水溶液の添加
速度を調節するpH電極を通じて反応混合物を再循環す
ることによって調節し得る。所要の過剰量のホスゲンが
添加された後に、ヒドロキシアリール末端ポリジオルガ
ノシロキサンを導入し得る。その際に、混合物のpHを
約10ないし12に高めることができる。
【0025】ヒドロキシアリール末端ポリジオルガノシ
ロキサンの添加及びpHの上昇の後に反応混合物から残
存し得る過剰のクロルホルメート基を除去するために使
用し得る方法の例は計算量のトリエチルアミンのような
第3級アミンを添加する方法又は測定量のビスフェノー
ルを添加する方法である。シリコーン−ポリカーボネー
トブロック共重合体は種々の半回分式又は連続式反応器
のいずれかを使用して製造し得る。かゝる反応器の例は
攪拌槽型反応器であり、それらは半回分式又は連続流通
式のいずれでもよい。使用し得る別の反応器は攪拌塔型
反応器及び再循環ループ型連続式反応器である。
ロキサンの添加及びpHの上昇の後に反応混合物から残
存し得る過剰のクロルホルメート基を除去するために使
用し得る方法の例は計算量のトリエチルアミンのような
第3級アミンを添加する方法又は測定量のビスフェノー
ルを添加する方法である。シリコーン−ポリカーボネー
トブロック共重合体は種々の半回分式又は連続式反応器
のいずれかを使用して製造し得る。かゝる反応器の例は
攪拌槽型反応器であり、それらは半回分式又は連続流通
式のいずれでもよい。使用し得る別の反応器は攪拌塔型
反応器及び再循環ループ型連続式反応器である。
【0026】ホスゲン化反応中及びその終了時における
水性相対有機相の容量比は約0.2−1:1の範囲であ
り得る。反応温度は約15−50℃の範囲であり得る。
塩化メチレンを使用する場合には、反応は35−42℃
であり得る還流条件で実施し得る。この反応は大気圧で
行い得るが、所望ならば大気圧以下又は以上の圧力も使
用し得る。
水性相対有機相の容量比は約0.2−1:1の範囲であ
り得る。反応温度は約15−50℃の範囲であり得る。
塩化メチレンを使用する場合には、反応は35−42℃
であり得る還流条件で実施し得る。この反応は大気圧で
行い得るが、所望ならば大気圧以下又は以上の圧力も使
用し得る。
【0027】ホスゲン化反応中、混合物はたとえば攪拌
機又はその他の慣用的装置を使用することによって攪拌
される。ホスゲン化速度は毎分ビスフェノール1モル当
たりホスゲン約0.02−0.2モルの範囲で変動し得
る。本発明の実施において使用し得る末端キャッピング
用フェノールはフェノール、p−ブチルフェノール、p
−クミルフェノール、オクチルフェノール及びノニルフ
ェノールのようなモノヒドロキシ芳香族化合物である。
機又はその他の慣用的装置を使用することによって攪拌
される。ホスゲン化速度は毎分ビスフェノール1モル当
たりホスゲン約0.02−0.2モルの範囲で変動し得
る。本発明の実施において使用し得る末端キャッピング
用フェノールはフェノール、p−ブチルフェノール、p
−クミルフェノール、オクチルフェノール及びノニルフ
ェノールのようなモノヒドロキシ芳香族化合物である。
【0028】個々特定の場合に、塩化ナトリウムのよう
なアルカリ金属塩の早過ぎる沈殿の生起を回避するため
に、所要ならば相間移動触媒の添加と同時に又はそれに
先立って水性相の25重量%を超える塩濃度の増大を防
止するに足る量の水を添加することができる。シリコー
ン−ポリカーボネートブロック共重合体の回収は非溶剤
の使用又は水蒸気沈殿法のような慣用の方法によって達
成し得る。
なアルカリ金属塩の早過ぎる沈殿の生起を回避するため
に、所要ならば相間移動触媒の添加と同時に又はそれに
先立って水性相の25重量%を超える塩濃度の増大を防
止するに足る量の水を添加することができる。シリコー
ン−ポリカーボネートブロック共重合体の回収は非溶剤
の使用又は水蒸気沈殿法のような慣用の方法によって達
成し得る。
【0029】
【実施例の記載】本発明を当業者により容易に実施せし
め得る意図で、つぎに本発明を例証するための実施例を
示すが、これらは何等本発明を限定するものではない。
特に示さない限り、すべての部は重量部を表す。実施例 ビスフェノールA2.28kg、クミルフェノール7
2.2g(0.34モル)、(C4 H9 )4 N+ HO-
の40%水溶液40ml(0.061モル)、CH2 C
l2 10リットル及び水3.5リットルの混合物にホス
ゲンを添加した。反応混合物をポンプでpH電極を通過
させそして反応器中に戻すように再循環させながら、該
反応混合物を機械的に攪拌した。冷水による冷却器中に
還流CH2Cl2 を含ませながら、ホスゲンを約40g
/分の割合で添加した。pHは50重量%NaOHの添
加量を調節することによって10.5−11に保持し
た。ホスゲンの75%(1.8ポンド)を添加した後、
ホスゲン化の残りの期間のpH設定値を8.0に低下さ
せた。この反応に合計で2.4ポンドのホスゲン(ビス
フェノールに基づいて1.05当量)を添加した。つい
で、約50個のポリジメチルシロキシ単位の平均ブロッ
ク長をもつオイゲノール末端ポリジメチルシロキサン6
83gを添加した。そこで、混合物のpHを10.5−
11に上昇させた。5分後、トリエチルアミン5ml
(0.036モル)を添加してクロルホルメートを消費
させて重合を完了した。液/液遠心分離法を使用して有
機相を水性相から分離した。この製造法に基づいて、約
20重量%のポリジメチルシロキサンを含むシリコーン
−ポリカーボネートブロック共重合体が得られた。同一
の方法を、たゞし約50個のジメチルシロキシ単位の平
均ブロック長をもつオイゲノール末端ポリジメチルシロ
キサンを使用して得られる約1重量%及び約5重量%の
ポリジメチルシロキサンを含むシリコーン−ポリカーボ
ネートブロック共重合体を製造する意図で、反復した。
これらのシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合
体を製造するために使用した方法を以下では“PTC”
法と呼ぶ。
め得る意図で、つぎに本発明を例証するための実施例を
示すが、これらは何等本発明を限定するものではない。
特に示さない限り、すべての部は重量部を表す。実施例 ビスフェノールA2.28kg、クミルフェノール7
2.2g(0.34モル)、(C4 H9 )4 N+ HO-
の40%水溶液40ml(0.061モル)、CH2 C
l2 10リットル及び水3.5リットルの混合物にホス
ゲンを添加した。反応混合物をポンプでpH電極を通過
させそして反応器中に戻すように再循環させながら、該
反応混合物を機械的に攪拌した。冷水による冷却器中に
還流CH2Cl2 を含ませながら、ホスゲンを約40g
/分の割合で添加した。pHは50重量%NaOHの添
加量を調節することによって10.5−11に保持し
た。ホスゲンの75%(1.8ポンド)を添加した後、
ホスゲン化の残りの期間のpH設定値を8.0に低下さ
せた。この反応に合計で2.4ポンドのホスゲン(ビス
フェノールに基づいて1.05当量)を添加した。つい
で、約50個のポリジメチルシロキシ単位の平均ブロッ
ク長をもつオイゲノール末端ポリジメチルシロキサン6
83gを添加した。そこで、混合物のpHを10.5−
11に上昇させた。5分後、トリエチルアミン5ml
(0.036モル)を添加してクロルホルメートを消費
させて重合を完了した。液/液遠心分離法を使用して有
機相を水性相から分離した。この製造法に基づいて、約
20重量%のポリジメチルシロキサンを含むシリコーン
−ポリカーボネートブロック共重合体が得られた。同一
の方法を、たゞし約50個のジメチルシロキシ単位の平
均ブロック長をもつオイゲノール末端ポリジメチルシロ
キサンを使用して得られる約1重量%及び約5重量%の
ポリジメチルシロキサンを含むシリコーン−ポリカーボ
ネートブロック共重合体を製造する意図で、反復した。
これらのシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合
体を製造するために使用した方法を以下では“PTC”
法と呼ぶ。
【0030】約50個のジメチルシロキシ単位の平均ブ
ロック長をもつオイゲノール末端ポリジメチルシロキサ
ンを使用して、たゞし縮合触媒としてBu4 N+ HO-
の代わりにトリエチルアミンを用いて、1重量%、5重
量%及び20重量%のポリジメチルシロキサンを含む別
のシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体を製
造した。以下、“Et3 N法”と呼ぶ典型的な一方法は
つぎのとおりである。
ロック長をもつオイゲノール末端ポリジメチルシロキサ
ンを使用して、たゞし縮合触媒としてBu4 N+ HO-
の代わりにトリエチルアミンを用いて、1重量%、5重
量%及び20重量%のポリジメチルシロキサンを含む別
のシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体を製
造した。以下、“Et3 N法”と呼ぶ典型的な一方法は
つぎのとおりである。
【0031】CH2 Cl2 2リットル中に溶解した約5
0個のジメチルシロキシ単位の平均ブロック長をもつオ
イゲノール末端ポリジメチルシロキサン583g(0.
14モル)をCH2 Cl2 35リットル及び水30リッ
トル中のビスフェノールA9.07kg、フェノール7
5g(0.797モル)、グルコン酸ナトリウム15.
0g(0.0688モル)、トリエチルアミン80.3
g(0.794モル)の混合物中に添加した。得られる
混合物中に、それを激しく攪拌しかつ再循環しながら、
ホスゲン4.99kg(50.4モル)を30分かゝっ
て添加した。水性相のpHは50%水酸化ナトリウム水
溶液の添加によって10ないし11の範囲に保持した。
窒素でスパージングすることによって反応混合物から過
剰のホスゲンをパージした後、CH2 Cl2 30リット
ルを添加しそして有機相を液/液遠心分離法を使用して
水性相から分離した。この溶液を1%HCl水溶液で洗
浄しそしてこの相を液/液遠心分離によって分離するこ
とによって仕上げ処理した。ついで、この溶液を水で2
回洗浄しそして再び液/液遠心分離によって分離した。
残存するトリエチルアミン及びクロライドの濃度を5p
pm以下に低減するために必要に応じてこの酸及び水の
洗浄の一連の処理を反復した。CH2 Cl2溶液から微
細な白色粉末を水蒸気沈殿によって単離し、そして窒素
の流動床中で120℃で乾燥した。かくして、約5重量
%のポリジメチルシロキサンをもつシリコーン−ポリカ
ーボネートブロック共重合体9.1kg(収率85%;
Mn=19.4k)が得られた。
0個のジメチルシロキシ単位の平均ブロック長をもつオ
イゲノール末端ポリジメチルシロキサン583g(0.
14モル)をCH2 Cl2 35リットル及び水30リッ
トル中のビスフェノールA9.07kg、フェノール7
5g(0.797モル)、グルコン酸ナトリウム15.
0g(0.0688モル)、トリエチルアミン80.3
g(0.794モル)の混合物中に添加した。得られる
混合物中に、それを激しく攪拌しかつ再循環しながら、
ホスゲン4.99kg(50.4モル)を30分かゝっ
て添加した。水性相のpHは50%水酸化ナトリウム水
溶液の添加によって10ないし11の範囲に保持した。
窒素でスパージングすることによって反応混合物から過
剰のホスゲンをパージした後、CH2 Cl2 30リット
ルを添加しそして有機相を液/液遠心分離法を使用して
水性相から分離した。この溶液を1%HCl水溶液で洗
浄しそしてこの相を液/液遠心分離によって分離するこ
とによって仕上げ処理した。ついで、この溶液を水で2
回洗浄しそして再び液/液遠心分離によって分離した。
残存するトリエチルアミン及びクロライドの濃度を5p
pm以下に低減するために必要に応じてこの酸及び水の
洗浄の一連の処理を反復した。CH2 Cl2溶液から微
細な白色粉末を水蒸気沈殿によって単離し、そして窒素
の流動床中で120℃で乾燥した。かくして、約5重量
%のポリジメチルシロキサンをもつシリコーン−ポリカ
ーボネートブロック共重合体9.1kg(収率85%;
Mn=19.4k)が得られた。
【0032】GEプラスチックス社製、登録商標“レキ
サン(Lexan)”ポリカーボネート及びPTC法及
びEt3 N法によって製造されたシリコーン−ポリカー
ボネートブロック共重合体のそれぞれ5−25部からな
る配合物を製造した。これらのシリコーン−ポリカーボ
ネートブロック共重合体の各々は約20重量%の化学的
に結合されたポリジメチルシロキサンをもつ共重合体を
製造するに十分な約50個のジメチルシロキシ単位のポ
リジメチルシロキサンブロックを有していた。これらの
配合物を約280℃で同時押出処理しそして290℃で
成形して60ミルの小板及び1/8″の試験棒を製造し
た。これらの小板について透過率及び曇り価をXL−8
35ガーディナー測色計を用いて測定した。試験棒につ
いてはノッチ付きアイゾット衝撃強さを測定した。つぎ
の結果が得られた。
サン(Lexan)”ポリカーボネート及びPTC法及
びEt3 N法によって製造されたシリコーン−ポリカー
ボネートブロック共重合体のそれぞれ5−25部からな
る配合物を製造した。これらのシリコーン−ポリカーボ
ネートブロック共重合体の各々は約20重量%の化学的
に結合されたポリジメチルシロキサンをもつ共重合体を
製造するに十分な約50個のジメチルシロキシ単位のポ
リジメチルシロキサンブロックを有していた。これらの
配合物を約280℃で同時押出処理しそして290℃で
成形して60ミルの小板及び1/8″の試験棒を製造し
た。これらの小板について透過率及び曇り価をXL−8
35ガーディナー測色計を用いて測定した。試験棒につ
いてはノッチ付きアイゾット衝撃強さを測定した。つぎ
の結果が得られた。
【0033】 表 1 ポリカーボネート及びシリコーン−ポリカーボネートの配合物 方 法 シロキサン 透過率 曇り価 ノッチ付きアイゾット 重量% % % −60℃ Et3 N又は 0.0 90.2 1.8 脆性破壊 PTC法 Et3 N法 5.0 46.1 88.2 12.0 PTC法 5.0 75.0 27.8 13.9 Et3 N法 1.0 67.2 49.0 NA PTC法 1.0 84.1 7.4 NA 上記の結果はポリカーボネートとPTC法によって製造
したシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体の
配合物は、Et3 N法によって製造されたシリコーン−
ポリカーボネートブロック共重合体と配合されたポリカ
ーボネートと比較して、よりすぐれた透過率及び低減さ
れた曇り価を有することを示している。
したシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体の
配合物は、Et3 N法によって製造されたシリコーン−
ポリカーボネートブロック共重合体と配合されたポリカ
ーボネートと比較して、よりすぐれた透過率及び低減さ
れた曇り価を有することを示している。
【0034】 表 2 0ないし5重量%のシロキサンを含むシリコーン−ポリカーボネート共重合体 方 法 シロキサン 透過率 曇り価 ノッチ付きアイゾット 重量% % % −60℃ Et3 N又は 0.0 91.2 3.4 脆性破壊 PTC法 Et3 N法 5.0 51.1 63.1 12.5 PTC法 5.0 86.5 6.9 13.6 PTC法 1.0 89.0 5.2 NA 表2に示した結果もさらに、PTC法によって製造され
たシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体を使
用した場合、Et3 N法の場合と比較して透過率の顕著
な改良及び曇り価の低減が達成されることを例証してい
る。
たシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体を使
用した場合、Et3 N法の場合と比較して透過率の顕著
な改良及び曇り価の低減が達成されることを例証してい
る。
【0035】上記の実施例は本発明の方法の実施に使用
し得るかつ本発明の共重合体及び配合物中に存在し得る
きわめて多数のパラメーターの内のごくわずかのものの
みを例示したに過ぎないが、本発明はそれより著しく広
範囲のシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体
及びそれらの製造法を意図するものであることは勿論で
ある。具体的に例示されなかった方法に関するその他の
多数のパラメーター及びシリコーン−ポリカーボネート
ブロック共重合体は上記の実施例に先立つ本発明の詳細
な開示の項に示されている。
し得るかつ本発明の共重合体及び配合物中に存在し得る
きわめて多数のパラメーターの内のごくわずかのものの
みを例示したに過ぎないが、本発明はそれより著しく広
範囲のシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体
及びそれらの製造法を意図するものであることは勿論で
ある。具体的に例示されなかった方法に関するその他の
多数のパラメーター及びシリコーン−ポリカーボネート
ブロック共重合体は上記の実施例に先立つ本発明の詳細
な開示の項に示されている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲイリー・チャールズ・デイヴィス アメリカ合衆国、ニューヨーク州、オー ルバニー、フェリシア・コート、5番 (72)発明者 ダニエル・ルース・ジョイス アメリカ合衆国、ニューヨーク州、クリ フトン・パーク、フォックスウッド・ド ライブ・サウス、2812番 (72)発明者 ジェームズ・フランクリン・フーヴァー アメリカ合衆国、インディアナ州、エバ ンスビル、イースト・コパーライン・ロ ード、10600番 (56)参考文献 米国特許4657989(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 64/00 - 64/42 C08G 77/448 WPI/L(QUESTEL)
Claims (9)
- 【請求項1】 約10未満の曇り価をもちかつ約10な
いし約100個の化学的に結合されたジオルガノシロキ
シ単位の平均ブロック長をもつ約0.5ないし約10重
量%の化学的に結合されたポリジオルガノシロキサンを
有するシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合
体。 - 【請求項2】 約25ないし約75個のジメチルシロキ
シ単位をもつポリジメチルシロキサンブロックを有する
請求項1記載のシリコーン−ポリカーボネートブロック
共重合体。 - 【請求項3】 約40ないし約60個のジメチルシロキ
シ単位をもつポリジメチルシロキサンブロックを有する
請求項1記載のシリコーン−ポリカーボネートブロック
共重合体。 - 【請求項4】 オイゲノール末端置換ポリジメチルシロ
キサンの反応から得られる請求項1記載のシリコーン−
ポリカーボネートブロック共重合体。 - 【請求項5】 つぎの成分: (A)ポリカーボネート;及び (B)約10ないし約100個の化学的に結合されたジ
オルガノシロキシ単位の平均ブロック長をもつ約0.5
ないし約80重量%のポリジオルガノシロキサンを有す
るシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体;を
含有してなり、そのシリコーン−ポリカーボネートブロ
ック共重合体は(A)及び(B)の重量に基づいて約
0.5ないし約10重量%のポリジオルガノシロキサン
を与えるに足る量でポリカーボネート配合物中に存在す
る、約30未満の曇り価をもつ配合物。 - 【請求項6】 約5重量%のポリジメチルシロキサンを
有する請求項5記載の配合物。 - 【請求項7】 つぎの工程: (A)ホスゲン及びビスフェノールの反応の触媒として
有効量の相間移動触媒の存在において、界面反応条件下
かつ約10ないし約12の範囲のpH条件下で、ホスゲ
ンをビスフェノールに、ビスフェノールの利用し得るヒ
ドロキシル基の全モル数に基づいて約1ないし約99モ
ル%のホスゲンが添加されるまで、添加し; (B)工程(A)の混合物のpHを約8.0ないし約
9.0の範囲の値まで低下させ、そしてかゝるpH範囲
を維持しながらホスゲンの該混合物への添加を、ホスゲ
ンがビスフェノールの利用し得るヒドロキシル基及び得
られるシリコーン−ポリカーボネートブロック共重合体
中の所望のポリジオルガノシロキサンの重量%要求値を
満たすように次後に該混合物に添加されるポリジオルガ
ノシロキサンの末端位置に存在し得るヒドロキシアリー
ル基と反応し得るに足るクロルホルメート末端基を発生
するに充分な少なくとも十分量でかつ約5モル%過剰ま
での量で存在するまで、継続して行い; (C)工程(B)の混合物中に予定された重量%割合の
ヒドロキシアリールポリジオルガノシロキサンを導入
し; (D)工程(C)で得られる混合物のpH値を約10な
いし約12の範囲の値まで上昇させ;そして (E)工程(D)の混合物中に存在し得る過剰量のクロ
ルホルメート基を除去する;工程を含んでなる、ポリカ
ーボネートと配合して約30未満の曇り価をもつポリカ
ーボネート配合物を製造し得るものであり、しかも約1
0ないし約100個の化学的に結合されたジオルガノシ
ロキシ単位の平均ブロック長をもつ約0.5ないし約8
0重量%の化学的に結合されたポリジオルガノシロキサ
ンを有するシリコーン−ポリカーボネートブロック共重
合体の製造法。 - 【請求項8】 相間移動触媒がメチルトリブチルアンモ
ニウム塩である請求項7記載の方法。 - 【請求項9】 過剰量のクロルホルメートをトリエチル
アミンの添加によって除去する請求項7記載の方法。
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008136521A1 (ja) | 2007-05-08 | 2008-11-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
Families Citing this family (112)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5616674A (en) * | 1994-05-10 | 1997-04-01 | General Electric Company | Method of preparing polycarbonate-polysiloxane block copolymers |
US7358305B2 (en) * | 1995-06-07 | 2008-04-15 | Acushnet Company | Golf balls containing impact modified non-ionic thermoplastic polycarbonate/polyester copolymers or blends |
US5986016A (en) * | 1997-12-23 | 1999-11-16 | General Electric Co. | Polyetherimide resin compositions having improved ductility |
US6221940B1 (en) | 1997-12-23 | 2001-04-24 | General Electric Company | Polyetherimide resin compositions with improved ductility |
US7605221B2 (en) * | 1999-05-18 | 2009-10-20 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Weatherable, thermostable polymers having improved flow composition |
US7790292B2 (en) * | 1999-05-18 | 2010-09-07 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polysiloxane copolymers, thermoplastic composition, and articles formed therefrom |
US7169859B2 (en) * | 1999-05-18 | 2007-01-30 | General Electric Company | Weatherable, thermostable polymers having improved flow composition |
DE50003926D1 (de) * | 1999-07-19 | 2003-11-06 | Bayer Ag | Polycarbonate mit asparaginsäureesterfunktionellen silikonen |
US6576735B2 (en) | 1999-11-02 | 2003-06-10 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin |
DE60027252T2 (de) * | 1999-11-02 | 2007-01-04 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Polycarbonatharz |
US6252013B1 (en) | 2000-01-18 | 2001-06-26 | General Electric Company | Method for making siloxane copolycarbonates |
JP4525881B2 (ja) * | 2000-03-29 | 2010-08-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂および光学部材 |
US6492481B1 (en) * | 2000-07-10 | 2002-12-10 | General Electric Company | Substantially single phase silicone copolycarbonates, methods, and optical articles made therefrom |
US6716368B1 (en) * | 2001-08-06 | 2004-04-06 | General Electric Company | Phosporescent polycarbonate and molded articles |
US6630525B2 (en) | 2001-10-09 | 2003-10-07 | General Electric Company | Polycarbonate-siloxane copolymers |
US6855793B2 (en) * | 2001-10-22 | 2005-02-15 | Acushnet Company | Golf balls with thermoplastic polycarbonate-urethane copolymers |
US6776729B2 (en) * | 2001-10-22 | 2004-08-17 | Acushnet Company | Golf balls with silicone-urea copolymers |
US6739987B2 (en) * | 2001-10-22 | 2004-05-25 | Acushnet Company | Golf balls with thermoplastic silicone-urethane copolymers |
US6737498B2 (en) * | 2001-10-22 | 2004-05-18 | Acushnet Company | Golf balls with segmented polyurethane |
US7705102B2 (en) * | 2001-10-22 | 2010-04-27 | Acushnet Company | Golf equipment formed from amine-adduct modified polyurea compositions |
US6809152B2 (en) | 2001-10-22 | 2004-10-26 | Acushnet Company | Golf ball cover with segmented polyurethane |
US7825208B2 (en) * | 2001-10-22 | 2010-11-02 | Acushnet Company | Golf equipment formed from amine-adduct modified polyurea compositions |
US7951870B2 (en) * | 2001-10-22 | 2011-05-31 | Acushnet Company | Golf ball compositions having in-situ or reactive impact modified silicone-urea or silicone urethane |
US7799855B2 (en) * | 2001-11-12 | 2010-09-21 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Flame retardant thermoplastic polycarbonate compositions, use and method thereof |
US20030139504A1 (en) * | 2001-11-12 | 2003-07-24 | General Electric Company | Flame retardant resinous compositions and method |
US20030205323A1 (en) * | 2002-04-22 | 2003-11-06 | General Electric Company | Method for making limited play data storage media |
US20030198892A1 (en) * | 2002-04-22 | 2003-10-23 | General Electric Company | Limited play data storage media and method for limiting access to data thereon |
US6676852B2 (en) | 2002-05-31 | 2004-01-13 | General Electric Company | Phosphorescent thermoplastic composition |
US6692659B2 (en) | 2002-05-31 | 2004-02-17 | General Electric Company | Phosporescent polycarbonate, concentrate and molded articles |
US6833422B2 (en) * | 2002-08-16 | 2004-12-21 | General Electric Company | Method of preparing transparent silicone-containing copolycarbonates |
US6723864B2 (en) * | 2002-08-16 | 2004-04-20 | General Electric Company | Siloxane bischloroformates |
US6921785B2 (en) * | 2002-08-16 | 2005-07-26 | General Electric Company | Flame retardant resinous compositions and method |
US20040087692A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-06 | Dixit Arun Nandkishor | Method for preparation of an anthraquinone colorant composition |
US6822041B2 (en) * | 2002-11-21 | 2004-11-23 | General Electric Company | Non-streaking black color formulations for polycarbonate-siloxane copolymers and blends |
US6825266B2 (en) * | 2002-12-30 | 2004-11-30 | General Electric Company | Polycarbonate molding compositions and articles with improved surface aesthetics |
CN100469838C (zh) * | 2003-02-21 | 2009-03-18 | 沙伯基础创新塑料知识产权有限公司 | 半透明热塑性组合物、其制备方法及其模塑制品 |
EP1611176B1 (en) * | 2003-02-21 | 2015-09-09 | SABIC Global Technologies B.V. | Process for preparing transparent and high-heat polycarbonate-polysiloxane copolymers |
US7087282B2 (en) * | 2003-07-15 | 2006-08-08 | General Electric Company | Limited play optical storage medium, method for making the same |
US7202292B2 (en) | 2003-07-15 | 2007-04-10 | General Electric Company | Colored polymeric resin composition with 1,8-diaminoanthraquinone derivative, article made therefrom, and method for making the same |
US6870013B2 (en) * | 2003-08-08 | 2005-03-22 | General Electric Company | Method for preparation of copolyorganosiloxanecarbonates of high clarity |
US20050085580A1 (en) * | 2003-10-16 | 2005-04-21 | General Electric Company | Light-Colored Polycarbonate Compositions and Methods |
US7135538B2 (en) | 2003-11-12 | 2006-11-14 | General Electric Company | Transparent polycarbonate-polysiloxane copolymer blend, method for the preparation thereof, and article derived therefrom |
US20050110978A1 (en) * | 2003-11-26 | 2005-05-26 | Radislav Potyrailo | Method of authenticating articles, authenticatable polymers, and authenticatable articles |
US20090266991A1 (en) * | 2003-11-26 | 2009-10-29 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Method of authenticating tagged polymers |
US20050112768A1 (en) * | 2003-11-26 | 2005-05-26 | Thomas Evans | Method of authenticating tagged polymers |
US7094364B2 (en) * | 2003-11-26 | 2006-08-22 | General Electric Company | Method of authenticating polymers, authenticatable polymers, methods of making authenticatable polymers and authenticatable articles, and articles made there from |
US7169615B2 (en) * | 2003-11-26 | 2007-01-30 | General Electric Company | Method of authenticating polymers, authenticatable polymers, methods of making authenticatable polymers and authenticatable articles, and articles made there from |
US7223804B2 (en) * | 2003-12-30 | 2007-05-29 | General Electric Company | Polycarbonate composition |
CN101624442B (zh) † | 2004-05-20 | 2020-06-30 | 出光兴产株式会社 | 聚碳酸酯树脂及使用它的电子照相感光体 |
US7649032B2 (en) * | 2004-05-21 | 2010-01-19 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Highly ductile polycarbonate composition having a metallic-flake appearance |
US7638091B2 (en) * | 2004-07-02 | 2009-12-29 | Sabic Innovative Plastics Ip B. V. | Methods of sterilizing polycarbonate articles and methods of manufacture |
US7119140B2 (en) * | 2004-07-22 | 2006-10-10 | Ronald Basham | Transparent films, compositions, and method of manufacture thereof |
US20060030647A1 (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Thomas Ebeling | Flame retardant thermoplastic polycarbonate compositions, use, and method of manufacture thereof |
US7135529B2 (en) * | 2004-08-09 | 2006-11-14 | Acushnet Company | Golf ball comprising saturated rubber/ionomer block copolymers |
US7365125B2 (en) * | 2004-08-16 | 2008-04-29 | General Electric Company | Polycarbonate compositions, articles, and method of manufacture |
TWI302543B (en) | 2004-10-21 | 2008-11-01 | Lg Chemical Ltd | Method of preparing polycarbonate resin |
JP4537456B2 (ja) * | 2004-11-06 | 2010-09-01 | エルジー・ケム・リミテッド | スプレイ結晶化方法を使用した改質ポリカーボネートの製造方法 |
JP5021192B2 (ja) * | 2004-12-06 | 2012-09-05 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物及び成形体 |
US7718733B2 (en) * | 2004-12-20 | 2010-05-18 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Optically clear polycarbonate polyester compositions |
US20060135737A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Davis Gary C | Polycarbonates with fluoroalkylene carbonate end groups |
US20060135662A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | General Electric Company | Polycarbonates with fluoroalkylene carbonate end groups |
US20060142486A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Derudder James L | Thermoplastic polycarbonate compositions, articles made therefrom and method of manufacture |
US7321014B2 (en) * | 2004-12-29 | 2008-01-22 | General Electric Company | Transparent compositions, methods for the preparation thereof, and articles derived therefrom |
US7432327B2 (en) * | 2004-12-30 | 2008-10-07 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Transparent polymeric compositions comprising polysiloxane-polycarbonate copolymer, articles made therefrom and methods of making same |
US7498401B2 (en) * | 2005-03-03 | 2009-03-03 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Thermoplastic polycarbonate compositions, articles made therefrom and method of manufacture |
US20070060716A1 (en) * | 2005-09-13 | 2007-03-15 | Bala Ambravaneswaran | Fatigue resistant thermoplastic composition, method of making, and articles formed therefrom |
US7498388B2 (en) * | 2006-04-10 | 2009-03-03 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polysiloxane-polycarbonate copolymer article |
US20080081895A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | General Electric Company | Polycarbonate-polysiloxane copolymers, method of making, and articles formed therefrom |
US7524919B2 (en) * | 2006-09-29 | 2009-04-28 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polycarbonate-polysiloxane copolymers, method of making, and articles formed therefrom |
US7709581B2 (en) * | 2006-09-29 | 2010-05-04 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polycarbonate-polysiloxane copolymer compositions and articles formed therefrom |
KR100798014B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2008-01-24 | 제일모직주식회사 | 저온 충격강도 및 기계적 강도가 우수한폴리카보네이트-폴리실록산 공중합체 수지 조성물 |
KR100814362B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2008-03-18 | 제일모직주식회사 | 저온 충격강도 및 기계적 강도가 우수한폴리카보네이트-폴리실록산 공중합체 수지 조성물 및 그제조 방법 |
US7928168B2 (en) * | 2007-03-23 | 2011-04-19 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | White light-shielding compositions and articles comprising same |
US7888447B2 (en) * | 2007-03-29 | 2011-02-15 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polycarbonate-polysiloxane copolymers, methods for the preparation thereof, and articles derived therefrom |
DE102007015948A1 (de) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Bayer Materialscience Ag | Modifizierte Polycarbonate, Polyestercarbonate und Polyester mit verbessertem Dehnverhalten und Flammwidrigkeit |
US9669265B2 (en) | 2009-03-13 | 2017-06-06 | Acushnet Company | Three-cover-layer golf ball having transparent or plasticized polyamide intermediate layer |
US20120129631A1 (en) | 2009-03-13 | 2012-05-24 | Sullivan Michael J | Golf balls having translucent covers formed of aromatic and aliphatic polyurethanes |
US10166441B2 (en) | 2009-03-13 | 2019-01-01 | Acushnet Company | Three-cover-layer golf ball having transparent or plasticized polyamide intermediate layer |
US8202176B2 (en) * | 2009-03-13 | 2012-06-19 | Acushnet Company | Golf ball with a non-ionomeric inner cover, stiff TPU intermediate cover, and cast thermoset outer cover |
US8262510B2 (en) * | 2009-03-13 | 2012-09-11 | Acushnet Company | Golf ball with an ionomeric inner cover, stiff TPU intermediate cover, and cast thermoset outer cover |
US9044648B2 (en) | 2009-03-13 | 2015-06-02 | Acushnet Company | Golf balls having multi-layered covers based on aromatic and aliphatic polyurethanes |
US9339696B2 (en) | 2009-03-13 | 2016-05-17 | Acushnet Company | Three-cover-layer golf ball comprising intermediate layer including a plasticized polyester composition |
US20100240470A1 (en) * | 2009-03-23 | 2010-09-23 | Sullivan Michael J | Golf ball having a stiff tpu inner cover and a cast thermoset outer cover |
US9289540B2 (en) * | 2009-05-08 | 2016-03-22 | Greatbatch Ltd. | Surface modification for coating |
CN102471474B (zh) | 2009-07-29 | 2014-06-04 | 帝人化成株式会社 | 聚碳酸酯-聚二有机硅氧烷共聚物 |
JP2011032433A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート−ポリジオルガノシロキサン共重合体の製造方法 |
KR101145035B1 (ko) * | 2009-08-25 | 2012-05-21 | 주식회사 삼양사 | 우레탄 결합을 갖는 히드록시 말단 실록산, 폴리실록산-폴리카보네이트 공중합체 및 그 제조 방법 |
US8242189B2 (en) * | 2009-10-13 | 2012-08-14 | Advansource Biomaterials Corporation | Silicone-urethane copolymers |
KR101297160B1 (ko) | 2010-05-17 | 2013-08-21 | 제일모직주식회사 | 폴리카보네이트 수지 조성물 및 이를 이용한 성형품 |
KR101309808B1 (ko) | 2010-07-30 | 2013-09-23 | 제일모직주식회사 | 내스크래치성과 내충격성이 우수한 난연 폴리카보네이트 수지 조성물 및 이를 이용한 성형품 |
KR101332434B1 (ko) * | 2010-08-26 | 2013-11-22 | 제일모직주식회사 | 비스하이드록시아릴실록산 및 그의 제조 방법 |
KR101340539B1 (ko) * | 2010-11-23 | 2014-01-02 | 제일모직주식회사 | 표면 특성이 우수한 고광택 고충격 폴리카보네이트계 수지 조성물 및 이를 이용한 성형품 |
KR101335290B1 (ko) | 2010-12-30 | 2013-12-02 | 제일모직주식회사 | 내화학성이 우수한 폴리카보네이트 수지 조성물 |
US8466249B2 (en) | 2011-05-13 | 2013-06-18 | Sabic Innovative Plastics Ip Bv | Clear silicone polycarbonate elastomeric copolymers |
JP5919294B2 (ja) | 2011-10-18 | 2016-05-18 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 |
JP5973738B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2016-08-23 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート樹脂組成物、成形品 |
US9376534B2 (en) * | 2013-05-31 | 2016-06-28 | Momentive Performance Materials Japan Llc | Phenyl-containing functional polysiloxanes and polycarbonate-polysiloxane copolymers made therefrom |
KR20160067714A (ko) | 2014-12-04 | 2016-06-14 | 주식회사 엘지화학 | 코폴리카보네이트 및 이를 포함하는 물품 |
KR101685665B1 (ko) * | 2014-12-04 | 2016-12-12 | 주식회사 엘지화학 | 코폴리카보네이트 및 이를 포함하는 조성물 |
WO2016133667A1 (en) | 2015-02-20 | 2016-08-25 | 3M Innovative Properties Company | Silicone carbonate polymers as release layers for pressure sensitive adhesive containing articles |
KR101825652B1 (ko) | 2015-11-06 | 2018-02-05 | 주식회사 엘지화학 | 코폴리카보네이트 및 이를 포함하는 조성물 |
US9598578B1 (en) | 2015-11-17 | 2017-03-21 | SABIC Global Technologies B.V | Polycarbonate-polysiloxane copolymer compositions, articles formed therefrom, and methods of manufacture thereof |
US9598577B1 (en) | 2015-11-17 | 2017-03-21 | Sabic Global Technologies B.V. | Polycarbonate-polysiloxane copolymer compositions, articles formed therefrom, and methods of manufacture thereof |
US9688855B2 (en) | 2015-11-17 | 2017-06-27 | Sabic Global Technologies B.V. | Polycarbonate-polysiloxane copolymer compositions for mobile phone housing applications |
EP3387069A1 (en) | 2015-12-11 | 2018-10-17 | SABIC Global Technologies B.V. | High impact strength polycarbonate compositions for additive manufacturing |
JP2020502342A (ja) | 2016-12-19 | 2020-01-23 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | 相溶化剤を用いたシロキサン含有ブロックコポリカーボネートの製造 |
US20200197755A1 (en) * | 2017-05-22 | 2020-06-25 | Sabic Global Technologies B.V. | Sports equipment comprising silicone polycarbonate elastomer |
EP3581605A1 (de) * | 2018-06-14 | 2019-12-18 | Covestro Deutschland AG | Schmelzeumesterungsverfahren zur gleichzeitigen herstellung mindestens zweier verschiedenartiger polycarbonate in einer produktionsanlage |
EP3719077B1 (de) | 2019-04-02 | 2022-09-21 | Covestro Deutschland AG | Siloxan-haltige blockcopolycarbonate mit geringer domänengrösse |
EP4089132B1 (en) | 2020-05-13 | 2024-03-27 | SHPP Global Technologies B.V. | Polycarbonate copolymer and associated film extrusion composition, extruded film, and capacitor |
EP3910001A1 (en) | 2020-05-13 | 2021-11-17 | SHPP Global Technologies B.V. | Polycarbonate copolymer and associated film extrusion composition, extruded film, and capacitor |
CN115612108B (zh) * | 2022-10-11 | 2023-10-31 | 沧州大化股份有限公司 | 一种聚硅氧烷共聚聚碳酸酯的连续化生产工艺及其生产装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3414116A1 (de) * | 1984-04-14 | 1985-10-24 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Uv-stabilisierte polycarbonatformkoerper |
DE3506472A1 (de) * | 1985-02-23 | 1986-08-28 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Neue polydiorganosiloxan-polycarbonat-blockcopolymere |
EP0374508A3 (en) * | 1988-12-19 | 1991-08-28 | General Electric Company | Method for preparing polycarbonate-polysiloxane block copolymers |
JPH068386B2 (ja) * | 1988-12-26 | 1994-02-02 | 出光石油化学株式会社 | ポリカーボネート系樹脂組成物 |
DE3908447A1 (de) * | 1989-03-15 | 1990-09-20 | Bayer Ag | Thermoplastische formmassen aus polysiloxanblockcopolycarbonaten, polycarbonaten auf basis von speziellen dihydroxydiphenylcycloalkanen und gegebenenfalls kautschuk |
WO1991000885A1 (en) * | 1989-07-07 | 1991-01-24 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polycarbonate-polydimethylsiloxane copolymer and method of production thereof |
DE3928097A1 (de) * | 1989-08-25 | 1991-02-28 | Bayer Ag | Polyorganosiloxan-polycarbonat-blockcopolymere und ihre verwendung zur herstellung optischer datenspeicher |
JP2890648B2 (ja) * | 1990-04-11 | 1999-05-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 難燃性ポリカーボネート樹脂組成物 |
EP0524731B1 (en) * | 1991-07-01 | 2002-03-13 | General Electric Company | Polymer blends of polycarbonate-polysiloxane block copolymers with polycarbonates and polyestercarbonate copolymers |
EP0522751B1 (en) * | 1991-07-01 | 1998-04-01 | General Electric Company | Polycarbonate-polysiloxane block copolymers |
EP0537577A1 (en) * | 1991-10-16 | 1993-04-21 | Miles Inc. | Transparent copolyester organosiloxane-polycarbonate block copolymer blends |
US5451632A (en) * | 1992-10-26 | 1995-09-19 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer and a resin composition |
-
1994
- 1994-07-21 US US08/278,208 patent/US5530083A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-06-24 DE DE19523000.0A patent/DE19523000B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-14 BE BE9500628A patent/BE1009624A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1995-07-18 JP JP18117195A patent/JP3350617B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008136521A1 (ja) | 2007-05-08 | 2008-11-13 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート重合体、塗工液、および電子写真感光体 |
US8207288B2 (en) | 2007-05-08 | 2012-06-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Polycarbonate polymer, coating liquid, and electrophotographic photosensitive body |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5530083A (en) | 1996-06-25 |
DE19523000B4 (de) | 2014-12-24 |
DE19523000A1 (de) | 1996-01-25 |
JPH08169947A (ja) | 1996-07-02 |
BE1009624A5 (fr) | 1997-06-03 |
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