JP4814454B2

JP4814454B2 - フォトクロミック材料の製造方法

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Publication number: JP4814454B2
Application number: JP2001273947A
Authority: JP
Inventors: 正浩入江; 誠也小畠; 謙太郎森光
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2001-09-10
Filing date: 2001-09-10
Publication date: 2011-11-16
Anticipated expiration: 2021-09-10
Also published as: JP2003082340A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトクロミック材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトクロミック材料は、光の作用などにより化学結合状態の異なる２つの異性体を可逆的に生成する分子または分子集合体を含むフォトクロミック反応特性を有する材料であって、異性体によって吸収スペクトルあるいは屈折率が変化するものである。
このようなフォトクロミック材料は、典型的には、可視域に吸収を有さない無色の構造体に紫外線を照射すると、可視域の特定領域に吸収を有する着色構造体に変化し、この着色構造体に可視光を照射することによって無色の構造体に戻るという特性を示すものであり、このような特性を利用した製品の研究開発が行われている。
【０００３】
現在、フォトクロミック材料としては、スピロピラン化合物、アゾベンゼン化合物、フルギド化合物、ジアリールエテン化合物などよりなる材料が知られているが、これらのうち、ジアリールエテン化合物は、フォトクロミック反応の繰り返し耐久性に優れていると共に、着色構造体の熱安定性が高いものであることから、実用上、記録表示媒体などの構成部材に有用なものとして注目されている。
【０００４】
フォトクロミック材料を構成するジアリールエテン化合物は、無色の構造体である開環体が紫外線を吸収することにより、特有の光閉環反応を生じて可視域に吸収を有する閉環体となり、吸収波長領域に応じた特有の色を呈する着色構造体となるものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、フォトクロミック反応の繰り返し耐久性に優れ、可視光により光退色しにくく、しかも、加熱処理による優れた退色性を有するジアリールエテン化合物よりなるフォトクロミック材料の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のフォトクロミック材料の製造方法は、イソプロピル基を有するチオフェンボロン酸および２，５−ジブチル−１−ヨード−４−フェニルエチニルベンゼンをカップリング反応することによって得られる化合物と、ペルフルオロシクロペンテンとをカップリング反応することにより、下記式（１）で表されるイソプロピル基および共役鎖置換フェニル基を有するジアリールエテン化合物を得ることを特徴とする。
【０００７】
【化２】

【０００８】
〔式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に共役鎖置換フェニル基を示し、また、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。〕
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１３】
本発明のフォトクロミック材料の好ましい具体例は、下記一般式（ｉ）で表される２個のイソプロピル基を有するジアリールエテン化合物よりなるものである。
【００１４】
【化３】

【００１５】
〔式中、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、Ｂｕはブチル基を示す。〕
【００１６】
この一般式（ｉ）で表されるジアリールエテン化合物は、反応式（１）に示すように、無色の構造体である開環体と、青色を呈する着色構造体である閉環体とに可逆的に変化する。
具体的には、開環体に対して２００〜４００ｎｍの波長領域の紫外線が照射されることにより、各々イソプロピル基が結合している２つの炭素原子が結合して環化し、これによって閉環体に変化して呈色し、一方、この閉環体に対して４５０〜７５０ｎｍの波長領域の可視光が、例えば５時間以上の長時間照射されることにより、６員環に係るイソプロピル基の各々が結合している２つの炭素原子間の結合が切断して開環し、これによって開環体に変化して退色する。
【００１７】
【化４】

【００１８】
〔式中、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、Ｂｕはブチル基を示す。〕
【００１９】
そして、着色構造体である閉環体は、可視光が遮光された暗所において、５０℃以下では高い構造安定性を有するものであるが、１００℃以上に加熱することによって、比較的短時間、例えば３０分間以内に開環体に変化し、その結果、退色する。
具体的には、閉環体を、例えば１５０℃で１０秒間加熱処理することによって開環体に変化させることができる。
【００２０】
以上のような開環体と閉環体との可逆的な変化、すなわち、ジアリールエテン化合物に係る呈色および退色は、繰り返し行うことができる。
【００２１】
このようなフォトクロミック材料を構成するジアリールエテン化合物は、以下のようにして合成することができる。
下記反応式（２）で示すように、例えばｐ−ジクロロベンゼンを出発物質として合成される２，５−ジブチル−１−ヨード−４−フェニルエチニルベンゼンと、２−メチルチオフェンを出発物質として合成される２位にイソプロピル基を有するチオフェンボロン酸とをカップリング反応させることにより、ヨウ素原子が解離したフェニルチエニルベンゼンの残基と、水酸化ホウ素に由来する基が解離したチオフェンボロン酸の残基とが結合することによって中間生成物（１）が得られ、この中間生成物（１）と、ペルフルオロシクロペンテンとをカップリング反応させることにより、中間生成物（１）に係る臭素原子と、ペルフルオロシクロペンテンに係る水素原子とにおいて解離および結合がなされる結果、目的の一般式（ｉ）で表されるジアリールエテン化合物が合成される。
【００２２】
【化５】

【００２３】
〔式中、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基、Ｂｕはブチル基を示す。〕
【００２４】
以上のフォトクロミック材料は、例えば記録表示媒体などを構成する材料として好適に用いることができる。
【００２５】
以上の一般式（ｉ）で表されるジアリールエテン化合物よりなるフォトクロミック材料は、一般式（１）においてＲ¹およびＲ²が２，５−ジブチル−４−フェニルエチニルベンゼンに由来する基のものであるが、このＲ¹およびＲ²は、共役鎖置換フェニル基であればよい。
【００２６】
具体的に、一般式（１）で表されるジアリールエテン化合物としては、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物などが挙げられる。
【００２７】
【化６】

【００２８】
〔式中、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に置換可能なフェニル基を示し、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。〕
【００２９】
一般式（１）で表されるジアリールエテン化合物における開環体と閉環体との可逆的な変化を、下記の反応式（３）に示す。
なお、この反応式（３）における開環体は無色の構造体であり、一方、閉環体は着色構造体である。
【００３０】
【化７】

【００３１】
〔式中、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。〕
【００３２】
本発明の記録表示媒体は、例えばポリメチルメタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂、アクリロニトリルスチレン（ＡＳ）樹脂、シクロオレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂、ガラス、紙などよりなる、例えば厚さ０．０５〜５ｍｍの基板と、この基板上に形成された、上記のフォトクロミック材料を含有する材料よりなる記録層とにより構成されており、例えば基板の両面、あるいは基板の片面に記録層が形成されてなるものである。
ここで、記録層の厚さは、通常、０．０１〜１ｍｍである。
【００３３】
このような記録表示媒体の記録層は、例えば以下のようにして形成される。
先ず、フォトクロミック材料を樹脂バインダーと共に、有機溶剤に溶解または分散させた塗布液を調製する。
そして、基材の表面に、調製した塗布液を塗布し、得られた塗膜に対して有機溶剤の除去処理を行うことによって記録層が形成される。
【００３４】
以上において、塗布液を調製するための樹脂バインダーとしては、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリメチルメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂、シクロオレフィン樹脂や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂などの紫外線硬化樹脂などが挙げられる。これらの樹脂バインダーは、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
樹脂バインダーの使用割合は、通常、フォトクロミック材料１００質量部に対して、０．１〜４０質量部となる割合である。
【００３５】
塗布液を調製するための有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、四塩化炭素、クロロホルムなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
有機溶剤の使用割合は、通常、フォトクロミック材料１００質量部に対して、、１〜１０質量部となる割合である。
また、塗布液を塗布する手段としては、例えばスピンコート法、ディッピング法、ロールコート法などを利用することができる。
【００３６】
以上のような構成の記録表示媒体においては、例えばキセノンランプ、水銀ランプ、ハロゲンランプ、ＬＥＤ、レーザーなどを用い、記録層に集束した紫外線を、通常、１秒間以上照射する方法により、この照射に係る部分が着色されることによって情報が記録され、その記録された情報は、着色状態の変化として表示される。
一方、記録表示媒体に記録された情報は、ホットプレート、ヒートローラー、赤外線ランプなどを用い、記録層を、１００℃以上で加熱処理する方法によって消去される。
【００３７】
このようにして、記録表示媒体においては、情報の記録と消去とを繰り返し行うことができる。
【００３８】
以上のような記録表示媒体によれば、当該記録表示媒体の記録層がフォトクロミック材料よりなり、このフォトクロミック材料を構成するジアリールエテン化合物が後述するように、加熱処理による優れた退色性を有するものであることから、温度条件を制御することにより、紫外線を照射することによって記録した情報の保存および消去を選択的に行うことができ、これにより、記録された情報の安定性および保存性が優れたものとなり、しかも、記録されている情報の消去を急速的に行うこともできる。
【００３９】
フォトクロミック材料は、当該フォトクロミック材料を構成するジアリールエテン化合物が、熱開環反応を促進する機能を有するイソプロピル基と、可視光退色反応を抑制する機能を有する共役鎖置換フェニル基と有しており、活性化エネルギーが大きく、高温に加熱することにより熱開環反応速度が大きくなるものであることから、当該ジアリールエテン化合物の着色構造体が５０℃以下では高い構造安定性を有する一方、加熱処理することによって速やかに無色の構造体に変化するものであるため、加熱処理することによって優れた退色性が得られる。
【００４０】
また、記録表示媒体は、記録層に係るジアリールエテン化合物がフォトクロミック反応の繰り返し耐久性に優れているものであるため、多数回にわたって情報の記録と消去とを繰り返すことができる。
【００４１】
本発明の記録表示媒体は、例えば熱消去可能な記録表示カード、リライタブルペーパー、リライト表示ボード、リライトホワイトボード、リライトカード、リライトディスプレー、リライトＯＨＰシート、リライトフォトマスクなどとして好適に使用することができる。
【００４２】
以上、本発明を具体的な例に基づいて説明したが、本発明においては、種々の変更を加えることができる。
例えば記録表示媒体は、例えばガラスセルなどの容器と、この容器内に形成された、上記のフォトクロミック材料よりなる記録層とよりなる構成のものであってもよい。
この記録表示媒体の記録層は、フォトクロミック材料を前述の有機溶媒に溶解することによって得られる記録層用溶液を、ガラスセルなどに封入することによって形成することができる。
【００４３】
また、記録表示媒体は、フォトクロミック材料と、前述の樹脂バインダーとを混合した材料を成形することによって形成される基材と記録層とを兼ね備えてなるもの、あるいは、成形体上に、フォトクロミック材料と樹脂バインダーを含むフィルムを積層することによって形成されたものであってもよい。
【００４４】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
また、以下に示す例中の生成物の特性の記述における¹Ｈ−ＮＭＲは、それぞれプロトン核磁気共鳴スペクトルを表す。ＣＤＣｌ₃は重クロロホルムを表す。プロトン核磁気共鳴スペクトルデータの表示のうち、括弧の中に示されたｓ、ｄおよびｍはそれぞれ、シングレット、ダブレット、マルチプレットを表し、１Ｈ、２Ｈ、３Ｈなどはそれぞれプロトン１個、２個、３個相当分のスペクトル強度を意味する。
【００４５】
〔フォトクロミック材料の製造〕
＜フォトクロミック材料（１）の製造例＞
（２，５−ジブチル−１−ヨード−４−フェニルエチニルベンゼンの合成例）
窒素雰囲気下のフラスコに、マグネシウム４．８８ｇ（０．２ｍｏｌ）と、エーテル８０ミリリットルとを仕込み、この系に１−ブロモブタン２７．４ｇ（０．２ｍｏｌ）をエーテル２０ミリリットルに溶解した溶液を少量滴下し、反応が開始してから再び滴下を続け、この滴下が終了した後、この反応溶液を３０分間還流することによって得られたグリニャール試薬を滴下ロートに移した。
一方、フラスコに、エーテル６０ミリリットルと、１，４−ジクロロベンゼン１１．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）と、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ププロパンニッケル（ＩＩ）クロリド０．１ｇ（０．２ｍｍｏｌ）とを加え、この系を氷冷しながら前記グリニャール試薬を滴下した後に室温に戻して１時間撹拌し、エーテル１６０ミリリットルを加え４時間還流した。２Ｎの塩酸１００ミリリットルで反応を停止させて水層をエーテルで２回抽出し、エーテル層を食塩水、重曹、食塩水の順で洗浄し、塩化カルシウムで乾燥し、この塩化カルシウムを濾別し、溶媒を留去することによって無色の液体である１，４−ジブチルベンゼンを得た。
【００４６】
フラスコに、得られた１，４−ジブチルベンゼン１３．８ｇ（７２．５ｍｍｏｌ）と、ヨウ素１６．６ｇ（６５．２ｍｍｏｌ）と、オルト過ヨウ素酸６．６１ｇ（２８．７ｍｍｏｌ）と、酢酸３２．５ミリリットル、水６．５０ミリリットル、硫酸０．９８ミリリットル（酢酸：水：硫酸＝１００：２０：３）とを仕込み、この系を７０℃で７１時間３０分間撹拌することによって得られた反応溶液に、氷水を注ぎ、酢酸エチルで抽出して炭酸水素ナトリウムで中和し、残留ヨウ素をチオ硫酸ナトリウムで処理した後に食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、この硫酸マグネシウムを濾別し、溶媒を留去した後にエタノールで再結晶処理することによって白色結晶である２，５−ジヨード−１，４−ジブチルベンゼンを得た。
【００４７】
フラスコに、トリエチルアミン８０ミリリットルと、得られた２，５−ジヨード−１，４−ジブチルベンゼン１．１０ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド３５ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と、ヨウ化銅２．５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）とを仕込み、３０分間アルゴンバブリングを行い、３０分間アルゴンバブリングを行ったエチニルベンゼン０．２５５ｇ（２．５ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン（２０ミリリットル）溶液をゆっくりと滴下し、８９℃で一晩撹拌した後、溶媒を留去し、ヘキサンを展開溶液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって黄色のオイルである２，５−ジブチル−１−ヨード−４−フェニルエチニルベンゼンを得た。
【００４８】
（チオフェンボロン酸の合成例）
フラスコに、２−イソプロピル−４−メチルチオフェン７１．０ｇ（７．１３ｍｍｏｌ）と、酢酸２５ミリリットルとを仕込み、この系に臭素２．４５ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）の酢酸溶液５ミリリットル溶液を滴下し、室温で３時間撹拌した後、氷水を注いだ後に水酸化ナトリウム水溶液で中和してからエーテル抽出を行い、炭酸ナトリウムで中和し、残留臭素をチオ硫酸ナトリウムで処理して食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、この硫酸マグネシウムを濾別し、溶媒を留去後、ヘキサンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより無色のオイルである３，５−ジブロモ−２−イソプロピル−４−メチルチオフェンを得た。
【００４９】
アルゴン雰囲気下のフラスコに、得られた３，５−ジブロモ−２−イソプロピル−４−メチルチオフェン３．５４ｇ（１１．９ｍｍｏｌ）と、エーテル８０ミリリットルとを仕込み、この系を−７０℃に冷却した後、１５％のｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液７．６０ミリリットル（１２．５ｍｍｏｌ）を滴下して１時間撹拌し、その後、ホウ酸トリ−ｎ−ブチル４．８０ミリリットル（１７．８０ｍｍｏｌ）を滴下して、−７０℃で２時間撹拌した後、室温に戻しながら終夜撹拌した。そして、２．０Ｎの塩酸で反応を停止させてエーテル抽出を行い、そのエーテルを６．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液で抽出し、エーテル層に析出した無色結晶を水に溶解し、それを０℃に冷却して濃塩酸でｐＨ１とすることによって得られた白色沈殿を吸引濾過し、減圧乾燥して白色粉末である３−ブロモ−２−イソプロピル−４−メチル−５−チオフェンボロン酸を得た。
【００５０】
（フォトクロミック材料の合成例）
フラスコに、得られた３−ブロモ−２−イソプロピル−４−メチル−５−チオフェンボロン酸１．２１ｇ（４．６０ｍｍｏｌ）と、テトラヒドロフラン３５ミリリットルと、２０質量％の炭酸ナトリウム水溶液１２ミリリットルと、得られた２，５−ジブチル−１−ヨード−４−フェニルエチニルベンゼン１．９１ｇ（４．６０ｍｍｏｌ）と、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．２７３ｇ（０．２３６ｍｍｏｌ）とを仕込み、この系を７０℃で５時間加熱還流した後に室温に戻し、エーテル抽出して食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、この硫酸マグネシウムを濾別してエーテルを留去した後、ヘキサンを展開溶液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって展開分離し、ＧＰＣ（３サイクル）により、黄色のオイルであり、中間生成物であって反応式（２）における中間生成物（１）で表される３−ブロモ−５−（２’，５’−ジブチル−４’−フェニルエチニルベンゼン）−２−イソプロピル−４−メチルチオフェンを得た。
【００５１】
アルゴン雰囲気下のフラスコに、得られた３−ブロモ−５−（２’，５’−ジブチル−４’−フェニルエチニルベンゼン）−２−イソプロピル−４−メチルチオフェン０．２０ｇ（０．３９ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン３．０ミリリットルとを仕込み、この系を−７３℃に冷却して、１５％ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液０．２５ミリリットル（０．４１ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した後、−７３℃で１時間撹拌し、ペルフルオロシクロペンテン２６．４×１０^-3ミリリットルの無水テトラヒドロフラン溶液をゆっくり滴下し、この系を４時間撹拌した後に水によりクエンチし、エーテル抽出して食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、この硫酸マグネシウムを濾別し、溶媒を留去した後、ヘキサンを展開溶液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって展開分離し、ＨＰＬＣによって精製することによって反応生成物を得た。
得られた反応生成物をＮＭＲ測定したところ、下記の結果が得られ、この反応生成物が、上記一般式（ｉ）で表される１，２−ビス（５−（２’，５’−ジブチル−４’−フェニルエチニルベンゼン）−２−イソプロピル−４−メチル−３−チエニル）ペルフルオロシクロペンテンであることが確認された。
【００５２】
¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ＝１．００，１．２３，１．３２（ｄ，１２Ｈ，ＣＨ（ＣＨ ₃）₂），０．７−１．０（ｍ，１２Ｈ，ＣＨ₃），１．３−１．７（ｍ，１６Ｈ，ＣＨ₂），２．３−２．９（ｍ，８Ｈ，ＣＨ₂），１．７５，１．９７（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃），２．９５，３．１２（ｓｅｐｔ，２Ｈ，ＣＨ（ＣＨ₃）₂），７．３−７．４，７．５−７．６（ｍ，１０Ｈ，Ａｒ），７．０１，７．４４（ｓ，４Ｈ，Ａｒ）．
【００５３】
〔フォトクロミック材料の評価〕
（１）フォトクロミック反応特性の試験
得られたフォトクロミック材料（１）をトルエンに溶解することによって得られる無色の溶液をガラスセル中に封入し、その溶液に紫外線を照射したところ、青色に呈色した。
図１は、得られたフォトクロミック材料（１）に係る溶液の紫外線照前後の吸収スペクトルの変化を示すグラフである。
【００５４】
（２）退色性の試験
得られたフォトクロミック材料（１）をヘキサンに溶解させた溶液よりなるサンプルに紫外線を照射した後、そのサンプルを、可視光が遮光された暗所において、表１に示す各温度条件下において極大吸収波長の吸収強度を測定し、吸収強度が半分となる半減期を調べたところ、下記の表１に示す結果が得られた。
図２は、フォトクロミック材料（１）の吸収強度と時間との関係を示すグラブである。なお、図２中において、「Ａ／Ａ₀」は、「紫外線照射後に係る吸収強度／紫外線照射前に係る吸収強度」である。
【００５５】
【表１】

【００５６】
得られたフォトクロミック材料（１）を構成するジアリールエテン化合物の熱開環反応速度定数（頻度因子）は６．４×１０¹⁶ｓ^-1であり、活性化エネルギーは１４３ｋＪ／ｍｏｌであった。
そして、得られたフォトクロミック材料（１）においては、呈色および退色を可逆的に繰り返し行うことができた。
【００５７】
以上の結果から、フォトクロミック材料（１）は、暗所においても加熱することによって優れた退色性を有し、しかも、フォトクロミック反応の繰り返し耐久性に優れたものであることが確認された。
【００５８】
また、比較のため、反応式（ａ）〜（ｂ）で表される開環体と閉環体との可逆的な変化を示すフォトクロミック材料（ａ）〜（ｂ）を、フォトクロミック材料（１）と同様の測定方法によって求めた、半減期、熱開環反応速度定数（頻度因子）および活性化エネルギーの測定値を表２に示す。これにより、フォトクロミック材料（１）は、常温下における半減期が大きい反面、高温下における半減期が小さく、また、熱開環反応速度定数（頻度因子）および活性化エネルギーが大きいことが理解される。
なお、この反応式（ａ）〜（ｂ）における開環体は無色の構造体であり、一方、閉環体は着色構造体であり、また、開環体は紫外線が照射されることによって閉環体へと変化し、一方、閉環体は可視光が照射されることによって比較的短時間に、あるいは加熱処理されることによって比較的長い時間をかけて閉環体へと変化する。
【００５９】
【化８】

【００６０】
〔式中、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。〕
【００６１】
【表２】

【００６２】
＜記録表示媒体の製造例＞
フォトクロミック材料（１）２ｇをメチルエチルケトン２０ｇに溶解した溶液に、ＪＳＲ株式会社製ＵＶ硬化樹脂「デゾライトＺ８００１」１００ｇを添加して混合することによって得られた塗布液をロールコーターを用いて紙に塗布することによって形成された塗膜を乾燥させた後、この塗膜を１００℃で熱硬化させることにより、紙よりなる基材状に、厚さ２０μｍの記録層が形成されてなる記録表示媒体（１）を作製した。
【００６３】
〔記録表示媒体の評価〕
記録表示媒体（１）の記録層における５ｍｍ角の表面領域（以下、「特定領域」という。）に対して、株式会社ディーメック製光造形装置「ＳＣＳ８０００」（レーザー波長３５５ｎｍ、レーザーパワー８００ｍＷ）を用い、スポットサイズ０．１５ｍｍ、スキャンスピード１ｍ／秒にて紫外線を照射することによって当該特定領域を着色し、光の吸収強度を測定したところ、波長６００ｎｍ付近に極大吸収波長を認めた。
更に、紫外線を照射した記録表示媒体（１）を、その表面温度が１５０℃となるように赤外線ランプを用いて６秒間照射した後、当該記録表示媒体（１）の光の吸収強度を測定した。
このような紫外線の照射処理と加熱処理とを繰り返して１０００回行い、１回目の照射処理に係る特定領域の吸収強度（Ｃ１）と、１０００回目の照射処理に係る特定領域の吸収強度（Ｃ１０００）との比「Ｃ１／Ｃ１０００」を調べたところ、０．８８であった。
【００６４】
また、１回目〜１００００回目の照射処理に係る特定領域を目視にて確認したところ、特定領域は着色されており、この着色状態は室温下においては長時間保持された。
一方、１回目〜１００００回目の加熱処理に係る特定領域を目視にて確認したところ、特定領域は退色していた。
更に、記録表示媒体（１）の記録層における、１０００回目の着色に係る特定領域以外の表面領域の吸収強度を調べたところ、０であった。
【００６５】
以上の結果から、この記録表示媒体によれば、（１）温度条件を制御することにより、記録されている情報の保存および消去を選択的に行うことができること、（２）加熱により記録されている情報の消去を急速的に行うこともできること、（３）多数回にわたって情報の記録と消去とを繰り返すことができることが確認された。
【００６６】
【発明の効果】
本発明のフォトクロミック材料の製造方法によれば、イソプロピル基および共役鎖置換フェニル基を有する特定のジアリールエテン化合物よりなるものであって、加熱処理による優れた退色性を有し、可視光により光退色しにくく、しかも、フォトクロミック反応の繰り返し耐久性に優れたフォトクロミック材料を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例において得られたフォトクロミック材料に係る溶液の紫外線照前後の吸収スペクトルの変化を示すグラフである。
【図２】実施例において得られたフォトクロミック材料の吸収強度と時間との関係を示すグラブである。

Claims

イソプロピル基を有するチオフェンボロン酸および２，５−ジブチル−１−ヨード−４−フェニルエチニルベンゼンをカップリング反応することによって得られる化合物と、ペルフルオロシクロペンテンとをカップリング反応することにより、下記式（１）で表されるイソプロピル基および共役鎖置換フェニル基を有するジアリールエテン化合物を得ることを特徴とするフォトクロミック材料の製造方法。

〔式中、Ｒ ¹ およびＲ ² は、それぞれ独立に共役鎖置換フェニルを示し、また、Ｍｅはメチル基、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。〕