JPH07330762A - キノリル基を有するジアリールエテン系化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】一般式にて示されるジアリールエテン系化合
物。 （式中、ｎは２〜５の整数，Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ は
アルキル基，Ｒ⁵ はメトキシフェニル基、シアノフェニ
ル基、ナフチル基、又はジアルキルアミノフェニル基の
いずれかを表す。） 【効果】上記化合物は熱安定性、耐湿性、感度、溶媒へ
の溶解性に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性が良好な
フォトクロミック性を有し、性能の優れた可逆的光記録
材料などに有効に利用することが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なジアリールエテ
ン系化合物に係り、更に詳細にはフォトクロミック性を
有し光記録材料等に好適なジアリールエテン系化合物に
関する。

【０００２】

【従来の技術】光照射により可逆的に色相変化する、い
わゆるフォトクロミック化合物は、古くから知られてお
り、これらを利用した記録・記憶材料、複写材料、調光
材料、マスキング用材料、光量計、あるいは表示材料等
が種々提案されている。これらフォトクロミック化合物
としては、例えばベンゾスピロピラン類、ナフトオキサ
ジン類、フルギド類、ジアゾ化合物類、あるいはジアリ
ールエテン類等の化合物が提案されている。

【０００３】近年、この様なフォトクロミック化合物を
可逆的な光記録材料として利用すべく、精力的に研究が
なされているが、光記録材料へ応用するためには次の様
な基本性能が要求される。すなわち、記録の安定性、
繰り返し耐久性、半導体レーザー感受性、高い感
度等である。ところが、現在知られているフォトクロミ
ック化合物の多くは、着色状態又は消色状態のどちらか
一方が熱的に不安定であり、室温に於ても、数時間以内
により安定な状態に戻るため、記録の安定性が確保でき
ないという欠点を有している。これらの中で、光照射に
よる二つの状態が熱的に比較的安定である化合物とし
て、フルギド類やジアリールエテン類が知られている
が、記録材料として利用するには、安定性が未だ不十
分である、繰り返し耐久性が劣っている、半導体レ
ーザー感受性に乏しい、感度（分子吸光係数）が小さ
い、等といった欠点のいずれかを有しており、さらに光
ディスクの製造上の問題として、有機溶媒への溶解性が
乏しいため、大量生産に有利であるスピンコート法でフ
ォトクロミック化合物の記録膜を製膜する際、ディスク
基盤に用いるポリマーを侵す溶媒にしか溶けず、基盤上
に保護膜を設ける必要が生じ、製造プロセスが複雑にな
るといった欠点が有り、未だ全ての性能を満足するフォ
トクロミック化合物は得られていないのが実情である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
課題に鑑みなされたものであって、その目的とするとこ
ろは、着色状態の熱安定性、繰り返し耐久性、半
導体レーザー感受性、感度（分子吸光係数）各種有
機溶媒への溶解性等、フォトクロミック材料としての優
れた性能を有する、新規ジアリールエテン系化合物を提
供するにある。

【０００５】

【課題を解決する為の手段】上述の目的は、下記一般式
化８にて示されるジアリールエテン系化合物により達成
される。

【化８】 （但し、式中ｎは２〜５の整数，Ａは下記一般式

【化９】 Ｂは下記一般式

【化１０】 Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ はアルキル基，Ｒ⁵ は下記一般
式

【化１１】

【化１２】

【化１３】

【化１４】 で示されるメトキシフェニル基，シアノフェニル基，ナ
フチル基，又は、ジアルキルアミノフェニル基のいずれ
かを表す。）

【０００６】次に本発明を詳しく説明する。本発明のジ
アリールエテン系化合物は、前記一般式化８で示される
ものであり、ｎは２〜５の整数で、二重結合と共同して
４〜７員環の環状構造を有する。中でもｎが３又は４で
ある、５又は６員環構造が特に好ましいフォトクロミッ
ク特性を示す。Ａは前記一般式化９で示されるチエニル
基を表す。Ｂは前記一般式化１０で示されるチエニル基
を表す。Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ はアルキル基を表す
が、メチル、エチル、プロピル基といった低級アルキル
基が好ましい。Ｒ⁵ は前記一般式化１１，化１２，化１
３，化１４で示されるメトキシフェニル基、シアノフェ
ニル基、ナフチル基、又は、ジアルキルアミノフェニル
基を表す。

【０００７】本発明のジアリールエテン系化合物は、公
知の方法から適宜選択して製造することができるが、例
えば次の様な方法で製造できる。すなわち、下記一般式
化１５とＡＬｉ、或いはＢＬｉ（Ａ、Ｂは前記に同
じ。）一分子のみを反応させて一つのアリール基を導入
したモノアリールエテン誘導体とし、次に、もう一方の
アリールリチウム誘導体ＢＬｉ或いはＡＬｉ（Ａ、Ｂは
前記に同じ。）と反応させる方法が挙げられる。

【０００８】

【化１５】 （但し、式中ｎは２〜５の整数を表す。）

【０００９】次に、好適な製造方法の一例を挙げると次
の通りである。まず、下記一般式化１６で示されるハロ
ゲン化チオフェン誘導体を、反応温度−４５〜−１２０
℃、好ましくは−７０〜−１１０℃で、アルキルリチウ
ム又はリチウムジアルキルアミドと反応させ、３位のハ
ロゲン原子をリチウムに置換したリチオ化チオフェン誘
導体とする。

【００１０】

【化１６】 （但し、式中Ｘは臭素原子、又はヨウ素原子を表し、Ｒ
¹ 、Ｒ² は前記に同じ。）

【００１１】溶媒としては、テトラヒドロフランやジエ
チルエーテル等のエーテル系溶媒が好ましく用いられる
が、低温での溶媒凝固を防ぐために、ｎ−ヘキサン、ｎ
−ペンタン等の低級アルカン類を混合してもよい。

【００１２】リチオ化剤のアルキルリチウム、リチウム
ジアルキルアミドとしては、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−
ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキ
シルアミド等が挙げられるが、ｎ−ブチルリチウムのヘ
キサン溶液が好適に用いられる。リチオ化剤の量は、ベ
ンゾチエニルジハライド誘導体の総量に対して１．０〜
１．２倍モル使用するのが好ましい。

【００１３】反応時間は通常２０分〜３時間、好ましく
は３０分〜２時間である。

【００１４】次に、生成したリチオ化チオフェン誘導体
に、前記一般式化１５で示されるパーフルオロシクロア
ルケン誘導体を添加するが、使用するパーフルオロシク
ロアルケン誘導体の量は、ハロゲン化チオフェン誘導体
の１．０〜１．５倍モルが好ましく、希釈せずに、ある
いは溶媒に希釈して添加することができる。反応温度は
−６０〜−１１０℃、反応時間は３０分〜２時間が好ま
しい。以上の操作の後、下記一般式化１７で示されるモ
ノチエニルエテン誘導体が得られる。

【００１５】

【化１７】 （但し、式中ｎ、Ｒ¹ 、Ｒ² は前記に同じ。）

【００１６】更に、もう一度下記一般式化１８で示され
るハロゲン化チオフェン誘導体を前記と同じ方法でリチ
オ化チオフェン誘導体とし、これに前述の化１７のモノ
チエニルエテン誘導体のテトラヒドロフラン溶液を添加
する。

【００１７】

【化１８】 （但し、式中Ｙは臭素原子、又はヨウ素原子を表し、Ｒ
³ 〜Ｒ⁵ は前記に同じ。）

【００１８】使用するモノチエニルエテン誘導体の量は
チエニルハライド誘導体の１．０〜１．２倍モルが好ま
しい。このときの反応温度は−６０〜−１１０℃、反応
時間は３０分〜２時間が好ましい。

【００１９】かくして、前記一般式化８で示されるジア
リールエテン系化合物が得られる。以上の方法で得られ
た反応物からジアリールエテン系化合物を得るには、抽
出、カラムクロマトグラフ、再結晶等の方法を用いて分
離、精製すればよい。

【００２０】本発明のジアリールエテン系化合物は、そ
の一例として、１−（２，４−ジメチル−５−（（２−
キノリル）−１−エテニル）−３−チエニル）−２−
（２，４−ジメチル−５−（（４−メトキシフェニル）
−１−エテニル）−３−チエニル）−３，３，４，４，
５，５−ヘキサフルオロシクロペンテンの例について説
明すると、有機溶媒や適当な樹脂バインダー等の適当な
媒体中に於いて、下記化１９の様に、

【化１９】 開環体に紫外光を照射すると、閉環体に変化して着色
し、この閉環体に可視光を照射すると、元の開環体に戻
り、消色する。

【００２１】本発明のジアリールエテン系化合物を含有
する記録媒体を利用した光記録材料は公知の方法で容易
に得ることが出来る。例えば、本発明のジアリールエテ
ン系化合物を、化合物単体或いは、ポリエステル樹脂、
ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリメチルメタク
リル酸樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂等の樹脂バインダーと共に、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチル
エチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、四塩化炭素、クロロホ
ルム、セロソルブ、ジグライム等の溶媒に分散又は溶解
させて、適当な基板上にスピンコート法によって塗布
し、光記録材料を得ることが出来る。

【００２２】この様な光記録材料中に於いて、本発明の
ジアリールエテン系化合物は、着色状態、消色状態共に
熱安定性が高く、水分、酸素に対しても安定で長期間構
造が変化せずに保持され、着消色の繰り返し耐久性にも
優れている。又、着色状態の吸収極大波長は６７２ｎｍ
を超え、吸収端も８００ｎｍ以上であることから、６８
０ｎｍや７８０ｎｍの発振波長を有する半導体レーザー
に対する感受性を有しており、更に、その波長領域での
感度が高い（大きな分子吸光係数を有する）等といった
優れたフォトクロミック特性を有し、また各種の溶媒に
可溶である為、可逆的な光情報記録材料等に有効に使用
することが出来る。

【００２３】

【発明の効果】以上の様に、本発明のジアリールエテン
系化合物は、着・消色状態の熱安定性、水分・酸素に対
する安定性、着消色の繰り返し耐久性、半導体レーザー
感受性、感度等に優れたフォトクロミック特性を有して
おり、更に、各種溶媒への溶解性を有し、書換え可能型
光ディスクの様な光情報記録材料等、各種の用途に用い
ることができる。次に、本発明を実施例により具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

【００２４】（実施例１） １−（２，４−ジメチル−５−（（２−キノリル）−１
−エテニル）−３−チエニル）−２−（２，４−ジメチ
ル−５−（（４−メトキシフェニル）−１−エテニル）
−３−チエニル）−３，３，４，４，５，５−ヘキサフ
ルオロシクロペンテンの製造

【００２５】ａ） ２，４−ジメチル−３−ヨード−５
−（（２−キノリル）−１−エテニル）−チオフェンの
製造 容量１０００ｍｌの２つ口フラスコに、２−キノリルト
リフェニルホスホニウムクロリド６２．４ｇ（１６０ｍ
ｍｏｌ）、２，４−ジメチル−５−ホルミル−３−ヨー
ドチオフェン２１．２ｇ（８０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウ
ム６６ｇ、ホルムアミド１４．４ｇ、１，４−ジオキサ
ン３００ｍｌを入れ、９５℃で２４時間還流し反応させ
た。反応後、不溶物を濾別し、濾液の溶媒を減圧留去し
た後、残査にジエチルエーテルを加え、不溶物を濾別し
た。濾液の溶媒を減圧留去し、得られた反応生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記
構造式化２０の化合物２４．６ｇ（収率７８．５％）を
得た。

【００２６】

【化２０】

【００２７】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．２６（ｓ ３Ｈ） ２．３４（ｓ
３Ｈ） ６．８０〜８．２０（ｍ １０Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ３９１（Ｍ⁺ ）

【００２８】ｂ）１−（２，４−ジメチル−５−（（２
−キノリル）−１−エテニル）−３−チエニル）−２，
３，３，４，４，５，５−ヘプタフルオロシクロペンテ
ンの製造 容量１０００ｍｌの２つ口フラスコに、実施例１−ａ）
で製造された２，４−ジメチル−３−ヨード−５−
（（２−キノリル）−１−エテニル）チオフェン１１．
７ｇ（３０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン３００ｍｌ
を入れ、窒素気流下で−９５℃に冷却後、ｎ−ブチルリ
チウム−ヘキサン溶液２２．５ｍｌ（３６ｍｍｏｌ）を
滴下し１時間攪拌した。次に、パーフルオロシクロペン
テン１５．３ｇ（７２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン
溶液１２０ｍｌを滴下し、１時間反応させた。反応終了
後、メタノール５０ｍｌを加えて反応を停止し、更に水
３００ｍｌを加えた後、酢酸エチル４００ｍｌで３回抽
出し、この有機層を集め、洗浄、乾燥の後、溶媒を減圧
留去した。得られた反応生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより精製し、下記構造式化２１の化合
物６．７ｇ（収率４９．０％）を得た。

【００２９】

【化２１】

【００３０】分析値： １）ＭＳ ｍ／ｅ ４５７（Ｍ⁺ ）

【００３１】ｃ） ２，４−ジメチル−３−ヨード−５
−（（４−メトキシフェニル）−１−エテニル）チオフ
ェンの製造 実施例１のａ）項に於て、２−キノリルホスホニウムク
ロリドを用いる代わりに、４−メトキシフェニルトリフ
ェニルホスホニウムクロリドを用い、同様の方法で下記
構造式化２２の化合物を得た。収量２５．１ｇ（収率
９２．０％）。

【００３２】

【化２２】

【００３３】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．２７（ｓ １Ｈ） ２．４１（ｓ
１Ｈ） ３．８０（ｓ １Ｈ） ６．４０〜７．５９（ｍ ２
Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ３７０（Ｍ⁺ ） ｄ） １−（２，４−ジメチル−５−（（２−キノリ
ル）−１−エテニル）−３−チエニル）−２−（２，４
−ジメチル−５−（（４−メトキシフェニル）−１−エ
テニル）−３−チエニル）−３，３，４，４，５，５−
ヘキサフルオロシクロペンテンの製造 容量３００ｍｌの２つ口フラスコに、実施例１−ｃ）で
製造された２，４−ジメチル−３−ヨード−５−（（４
−メトキシフェニル）−１−エテニル）チオフェン３．
７ｇ（１０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン１００ｍｌ
を入れ、窒素気流下で−９５℃に冷却後、ｎ−ブチルリ
チウム−ヘキサン溶液６．３ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴
下し１時間攪拌した。次に、実施例１−ｂ）で製造され
た１−（２，４−ジメチル−５−（（２−キノリル）−
１−エテニル）−３−チエニル）−２，３，３，４，
４，５，５−ヘプタフルオロシクロペンテン５．９ｇ
（１３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液１５ｍｌを
滴下し、１時間反応させた。反応終了後、メタノール５
０ｍｌを加え反応を停止し、更に水３００ｍｌを加えた
後、酢酸エチル４００ｍｌで３回抽出した。この有機層
を集め、洗浄、乾燥の後、溶媒を減圧留去した。得られ
た反応生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製し、下記構造式化２３の化合物４．０ｇ（収率
５８．３％）を得た。

【００３４】

【化２３】

【００３５】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．０５ ２．１７ ２．２９（ｓ １
２Ｈ 異性体） ３．２３（ｓ ３Ｈ） ６．６０〜８．２５（ｍ １４Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ６８１（Ｍ⁺ ）

【００３６】（実施例２） １−（２，４−ジメチル−５−（（２−キノリル）−１
−エテニル）−３−チエニル）−２−（２，４−ジメチ
ル−５−（（４−シアノフェニル）−１−エテニル）−
３−チエニル）−３，３，４，４，５，５−ヘキサフル
オロシクロペンテンの製造

【００３７】ａ） ２，４−ジメチル−３−ヨード−５
−（（４−シアノフェニル）−１−エテニル）チオフェ
ンの製造 実施例１のａ）項に於て、２−キノリルトリフェニルホ
スホニウムクロリドを用いる代わりに、４−シアノフェ
ニルトリフェニルホスホニウムブロミドを用い、同様の
方法で下記構造式化２４の化合物を得た。収量１０．６
ｇ（収率 ９６．０％）。

【００３８】

【化２４】

【００３９】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．３１（ｓ １Ｈ） ２．４２（ｓ
１Ｈ） ６．５０〜８．０１（ｍ ２Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ３６５（Ｍ⁺ ）

【００４０】ｂ） １−（２，４−ジメチル−５−
（（２−キノリル）−１−エテニル）−３−チエニル）
−２−（２，４−ジメチル−５−（（４−シアノフェニ
ル）−１−エテニル）−３−チエニル）−３，３，４，
４，５，５−ヘキサフルオロシクロペンテンの製造 実施例１のｄ）項に於て、２，４−ジメチル−３−ヨー
ド−５−（（４−メトキシフェニル）−１−エテニル）
チオフェンを用いる代わりに、実施例２のａ）項に於て
製造された２，４−ジメチル−３−ヨード−５−（（４
−シアノフェニル）−１−エテニル）チオフェンを用
い、同様の方法で下記構造式化２５の化合物を得た。収
量３．９ｇ（収率 ４５．０％）。

【００４１】

【化２５】

【００４２】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） １．８０〜２．６５（ｍ １２Ｈ 異性
体） ６．３５〜８．３５（ｍ １４Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ６７６（Ｍ⁺ ）

【００４３】（実施例３） １−（２，４−ジメチル−５−（（２−キノリル）−１
−エテニル）−３−チエニル）−２−（２，４−ジメチ
ル−５−（（１−ナフチル）−１−エテニル）−３−チ
エニル）−３，３，４，４，５，５−ヘキサフルオロシ
クロペンテンの製造

【００４４】ａ） ２，４−ジメチル−３−ヨード−５
−（（１−ナフチル）−１−エテニル）チオフェンの製
造 実施例１のａ）項に於て、２−キノリルトリフェニルホ
スホニウムクロリドを用いる代わりに、１−ナフチルト
リフェニルホスホニウムクロリドを用い、同様の方法で
下記構造式化２６の化合物を得た。収量３１．１ｇ（収
率 ９４．０％）。

【００４５】

【化２６】

【００４６】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．３０（ｓ １Ｈ） ２．４２（ｓ
１Ｈ） ６．８５〜８．５０（ｍ ３Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ３８９（Ｍ⁺ ）

【００４７】ｂ）１−（２，４−ジメチル−５−（（２
−キノリル）−１−エテニル）−３−チエニル）−２−
（２，４−ジメチル−５−（（１−ナフチル）−１−エ
テニル）−３−チエニル）−３，３，４，４，５，５−
ヘキサフルオロシクロペンテンの製造 実施例１のｄ）項に於て、２，４−ジメチル−３−ヨー
ド−５−（（４−キノリル）−１−エテニル）−チオフ
ェンを用いる代わりに、実施例３のａ）項に於て製造さ
れた２，４−ジメチル−３−ヨード−５−（（１−ナフ
チル）−１−エテニル）チオフェンを用い、同様の方法
で下記構造式化２７の化合物を得た。収量１１．１ｇ
（収率 ９４．０％）。

【００４８】

【化２７】

【００４９】１）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．１６ ２．２１ ２．３７（ｓ １
２Ｈ 異性体） ６．６０〜８．４５（ｍ １７Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ７０２（Ｍ⁺ ）

【００５０】（実施例４） １−（２，４−ジメチル−５−（（２−キノリル）−１
−エテニル）−３−チエニル）−２−（２，４−ジメチ
ル−５−（（４−ジメチルアミノフェニル）−１−エテ
ニル）−３−チエニル）−３，３，４，４，５，５−ヘ
キサフルオロシクロペンテンの製造

【００５１】ａ） ２，４−ジメチル−３−ヨード−５
−（（４−ジメチルアミノフェニル）−１−エテニル）
チオフェンの製造 実施例１のａ）項に於て、２−キノリルトリフェニルホ
スホニウムクロリドを用いる代わりに、４−ジメチルア
ミノフェニルトリフェニルホスホニウムヨーダイドを用
い、同様の方法で下記構造式化２８の化合物を得た。収
量３３．０ｇ（収率 ６３．６％）。

【００５２】

【化２８】

【００５３】分析値： １）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．２５（ｓ １Ｈ） ２．４１（ｓ
１Ｈ） ２．９５（ｓ ２Ｈ） ６．５０〜７．５５（ｍ ２Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ３８３（Ｍ⁺ ）

【００５４】ｂ）１−（２，４−ジメチル−５−（（２
−キノリル）−１−エテニル）−３−チエニル）−２−
（２，４−ジメチル−５−（（４−ジメチルアミノフェ
ニル）−１−エテニル）−３−チエニル）−３，３，
４，４，５，５−ヘキサフルオロシクロペンテンの製造 実施例１のｄ）項に於て、２，４−ジメチル−３−ヨー
ド−５−（（４−キノリル）−１−エテニル）−チオフ
ェンを用いる代わりに、実施例４のａ）項に於て製造さ
れた２，４−ジメチル−３−ヨード−５−（（４−ジメ
チルアミノフェニル）−１−エテニル）チオフェンを用
い、同様の方法で下記構造式化２９の化合物を得た。収
量１２．４ｇ（収率 ７４．０％）。

【００５５】

【化２９】

【００５６】１）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 中） δ（ｐｐｍ） ２．０７ ２．１７ ２．３７ ２．３
７（ｓ １２Ｈ 異性体） ３．４５（ｓ ６Ｈ） ６．４０〜８．２０（ｍ １４Ｈ） ２）ＭＳ ｍ／ｅ ６９４（Ｍ⁺ ）

【００５７】試験例１ 吸収スペクトルの測定 実施例１で得られた化合物をベンゼンに１．６×１０^-5
ｍｏｌ／ｌになるように溶解して得た溶液を１ｃｍ×１
ｃｍ×４ｃｍの石英ガラスセルに入れた。これにガラス
フィルターを装着した１００Ｗ超高圧水銀灯を用いて攪
拌しながら３６５ｎｍの光を３０分間照射し、溶液を着
色させた後、この光定常状態に於ける溶液の吸収スペク
トルを測定した。実施例１の化合物について、ベンゼン
中の着色体及び消色体の吸収スペクトルを図１に示す。

【００５８】試験例２ 実施例１で得られた化合物をメタノールに６．５×１０
^-5ｍｏｌ／ｌになるように溶解して得た溶液を用いる以
外は、試験例１と同様にして本溶液の吸収スペクトルを
測定した。実施例１の化合物について、ベンゼン中の着
色体及び消色体の吸収スペクトルを図２に示す。着色状
態の吸収スペクトルの吸収極大波長は６７２ｎｍであ
り、吸収端は８００ｎｍに達し、吸収極大位置での化合
物の分子吸光係数は、ε＝２０，４００という高い値を
示した。又、この着消色反応は可逆的に行う事ができ
た。

【００５９】試験例３〜８ 次に、実施例２、３、４の化合物についても試験例１，
２と同様な測定を行った。但し、実施例４の化合物に関
しては、メタノールの代わりに、メチルセロソルブを用
いた。その結果を図３〜８に示す。

【００６０】また、着色体の吸収極大波長（λmax ）
と、この極大波長に於ける化合物の分子吸光係数（ε・
λmax ）とを表１にあわせて示す。

【００６１】

【表１】

【００６２】この様に、チエニル環へのアリール−１−
エテニル基の導入により、着色体の吸収極大波長は長波
長化し、発振波長６７０ｎｍ、あるいは７８０ｎｍの半
導体レーザー感受性が付与され、化合物の分子吸光係数
を増大させることができた。また、チエニル環へのキノ
リル−１−エテニル基の導入により、各種溶媒への溶解
性を向上させることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られた化合物の、ベンゼン溶液中
での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図２】実施例１で得られた化合物の、メタノール溶液
中での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図３】実施例２で得られた化合物の、ベンゼン溶液中
での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図４】実施例２で得られた化合物の、メタノール溶液
中での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図５】実施例３で得られた化合物の、ベンゼン溶液中
での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図６】実施例３で得られた化合物の、メタノール溶液
中での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図７】実施例４で得られた化合物の、ベンゼン溶液中
での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示す図。

【図８】実施例４で得られた化合物の、メチルセロソル
ブ溶液中での光照射に基づく吸収スペクトルの変化を示
す図。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式化１にて示されるジアリール
   エテン系化合物。 【化１】 （但し、式中ｎは２〜５の整数，Ａは下記一般式 【化２】 Ｂは下記一般式 【化３】 Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ はアルキル基，Ｒ⁵ は下記一般
   式 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】 で示されるメトキシフェニル基，シアノフェニル基，ナ
   フチル基，又は、ジアルキルアミノフェニル基のいずれ
   かを表す。）