JP4808597B2 - 有機反射防止重合体およびその製造方法 - Google Patents
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
ーンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してArF光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波を除去できる反射防止用の有機物質に関する。より詳しくは、64M、256M、1G、4G、16G DRAMの超微細パターンの形成時に、使用できる有機反射防止重合体およびその製造方法に関する。更に、本発明はこのような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法に関する。
、下部層からの後面回折および反射光の影響を除去するために、特定波長に対する光吸収度の大きい有機反射防止物質の使用および開発が必要とされる。
R1〜R9はそれぞれ水素、ヒドロキシ、メトキシカルボニル、カルボキシル、ヒドロキシメチル、またはC1〜C5の置換若しくは非置換された直鎖若しくは分岐鎖のアルキル、アルコキシアルキル、
w、x、y、zはそれぞれ0.01〜0.99のモル比
m、nはそれぞれ1乃至5の定数を示している。
また、前記化学式1または化学式2の重合体と、下記表に記載のアントラセン誘導体から成るグループの中から選択されたいずれか1つまたは2つ以上の添加剤とを含んでなる反射防止膜の組成物を提供する。
キシメチル、またはC1〜C5の置換若しくは非置換された直鎖若しくは分岐鎖のアルキル、アルコキシアルキルを示している。
グリコールメチルエーテルアセテートから成るグループの中から選択された少なくともいずれか1つである。また使用量は、反射防止膜樹脂重合体の重量当たり200〜5000重量%が望ましい。
実施例1
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレートの合成
9-アントラアルデヒドオキシム0.5モルとピリジン0.5モルをテトラヒドロフランに溶解させた後、アクリロイルクロリド0.5モルを加えた。反応溶液を濾過した後、またエチルアセテートで抽出した後、蒸溜水で何度も洗って減圧蒸留器を利用して乾燥させると、下記の化学式21で表される9-アントラアルデヒドオキシムアクリレートが得られた。この時、歩留り率は80%であった。
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.5モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全
に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰
囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式22のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]共重合体の合成
実施例1で合成した9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.5モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)
300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜
3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式23のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は78%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.5モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全
に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰
囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式24のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.5モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全
に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰
囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式25のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレー
ト)−グリシジルアクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.5モル、4-ヒドロキシブチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に
混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲
気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式26のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレートの合成
9-アントラアルデヒドオキシム0.5モルとピリジン0.5モルをテトラヒドロフランに溶解させた後、メタクリロイルクロリド0.5モルを加えた。反応溶液を濾過した後、またエチルアセテートで抽出した後、蒸溜水で何度も洗って減圧蒸留器を利用して乾燥させると、下記の化学式27で表される9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレートが得られた。この時、歩留り率は82%であった。
ート)−グリシジルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.5モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完
全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素
雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式28のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は78%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]共重合体の合成
実施例6で合成した9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.5モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF
)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1
〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式29のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.5モル、(4-ヒドロキシブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合
し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下
で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式30のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.5モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全
に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰
囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式31のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は78%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.5モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完
全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素
雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式32のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.5モル、4-ヒドロキシブチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全
に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰
囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式33のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.3モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式34のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.3モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式35のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は79%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.3モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を
0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式36のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.3モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式37のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は79%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート単量体0.3モル、4-ヒドロキシブチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式38のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムアクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.3モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式39のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.3モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式40のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は78%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.3モル、(4-ヒドロキシブチルアクリレート0.3モル、グリシジルメタクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AI
BN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式41のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルメタクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.3モル、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式42のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(2-ヒドロキシエチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は79%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.3モル、3-ヒドロキシプロピルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式43のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(3-ヒドロキシプロピルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は81%であった。
ポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]共重合体の合成
9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート単量体0.3モル、4-ヒドロキシブチルアクリレート0.3モル、グリシジルアクリレート0.2モル、メチルメタクリレート0.2モルを500mlの丸底フラスコに入れて攪拌しながら、予め用意したテトラヒドロフラン(THF)300gを入れて完全に混合し、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を0.1〜3g入れた後、窒素雰囲気下で60〜75℃温度で5〜20時間反応させた。反応終了後、この溶液をエチルエーテルまたはノーマルヘキサン溶媒に沈殿させた後、濾過して乾燥させると、化学式44のポリ[9-アントラアルデヒドオキシムメタクリレート−(4-ヒドロキシブチルアクリレート)−グリシジルアクリレート−メチルメタクリレート]樹脂が得られた。この時の歩留り率は80%であった。
反射防止膜の製造
化学式1または化学式2を基本構造とする実施例1乃至22で得られた樹脂から選択されたいずれか1つを樹脂重合体の重量当たり200乃至5000重量%のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)に溶解させた後、この溶液を単独に用いるか
または前記表1の化学式3乃至20から選択されたいずれか1種の添加剤を0.1〜30重量%加えて完全に溶解させた後、濾過した溶液をワイパーに塗布して100−300℃の温度で10〜1000秒の間ハードベーキングを行った。次に、感光膜を塗布して微細パターンの形成工程を行った。
みならず、光およびフォトレジスト自体の厚さの変化による定在波を除去することによって64M、256M、1G、4G、16G DRAMの安定した超微細パターンを形成することができるので、製品の歩留り率が増大される。
Claims (11)
- 請求項1に記載の化学式1の化合物または請求項2に記載の化学式2の化合物のうちのいずれかを有機溶媒に溶解させた後、この溶液を濾過して下部層に塗布してハードベーキングして形成される反射防止膜の製造方法。
- 前記有機溶媒はエチル−3-エトキシプロピオネート、メチル−3-メトキシプロピオネート、シクロヘキサノン、およびプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから成るグループの中から選択された少なくともいずれか1つを使用し、前記有機溶媒は反射防止膜
樹脂の200〜5000重量%の量で使用する請求項4に記載の反射防止膜の製造方法。 - ハードベーキング時の温度は100〜300℃である請求項4に記載の反射防止膜の製造方法。
- 請求項1に記載の化学式1の化合物または請求項2に記載の化学式2の化合物の中でいずれかを有機溶媒に溶解させた後、請求項3に記載の表1から選択された1または2以上の添加剤を添加した溶液を濾過して下部層に塗布してハードベーキングして形成される反射防止膜の製造方法。
- 前記有機溶媒はエチル3-エトキシプロピオネート、メチル3-メトキシプロピオネート、シクロヘキサノン、およびプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから成るグループの中から選択された少なくともいずれか1つを使用し、前記有機溶媒は反射防止膜樹脂の200〜5000重量%の量で使用する請求項7に記載の反射防止膜の製造方法。
- 前記ハードベーキングは、100〜300℃の温度で行う請求項7に記載の反射防止膜の製造方法。
- 前記添加剤は0.1〜30重量%を使用する請求項7に記載の反射防止膜の製造方法。
- 請求項1または請求項2に記載の組成物を使用して製造される半導体素子。
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