JP4670693B2 - 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 - Google Patents
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Families Citing this family (22)
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---|---|---|---|---|
EP1942150B1 (en) * | 2005-10-28 | 2018-08-22 | Toray Industries, Inc. | Siloxane resin composition and method for producing same |
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JP4766268B2 (ja) * | 2007-03-01 | 2011-09-07 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP4849251B2 (ja) * | 2007-01-18 | 2012-01-11 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP5353011B2 (ja) * | 2007-01-26 | 2013-11-27 | 東レ株式会社 | シロキサン系樹脂組成物、これを用いた光学デバイスおよびシロキサン系樹脂組成物の製造方法 |
JP5241280B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2013-07-17 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP5003375B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2012-08-15 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP5509675B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2014-06-04 | 東レ株式会社 | シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス |
KR101580854B1 (ko) * | 2008-09-05 | 2015-12-30 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 경화성 수지 조성물, 수지 경화막을 형성하기 위한 세트, 보호막 및 보호막의 형성 방법 |
JP5397607B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-01-22 | Jsr株式会社 | 硬化性樹脂組成物、保護膜および保護膜の形成方法 |
JP5752832B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2015-07-22 | 東京応化工業株式会社 | 化合物及びそれからなる酸発生剤 |
JP5540509B2 (ja) * | 2008-12-09 | 2014-07-02 | Jsr株式会社 | 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 |
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CN102472964B (zh) * | 2009-09-29 | 2013-08-07 | 东丽株式会社 | 正型感光性树脂组合物、使用其的固化膜及光学设备 |
JP5659561B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2015-01-28 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP5736718B2 (ja) * | 2010-10-18 | 2015-06-17 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法 |
JP2012199098A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 封止ガラス、封止ガラスを備えた有機el表示装置および有機el表示装置の製造方法 |
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WO2015002183A1 (ja) | 2013-07-02 | 2015-01-08 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、それを硬化させてなる硬化膜およびそれを具備する光学デバイス |
JP6372212B2 (ja) * | 2013-11-19 | 2018-08-15 | Jsr株式会社 | 有機el素子および水分捕獲フィルム |
KR102300782B1 (ko) | 2014-01-24 | 2021-09-13 | 도레이 카부시키가이샤 | 네거티브형 감광성 수지 조성물, 그것을 경화시켜서 이루어지는 경화막과 그 제조 방법 및 그것을 구비하는 광학 디바이스, 그리고 이면 조사형 cmos 이미지 센서 |
KR102443985B1 (ko) * | 2014-09-30 | 2022-09-16 | 도레이 카부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자 및 반도체 장치의 제조 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02108053A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | パターン形成材料及びパターン形成方法 |
JP2003255546A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-09-10 | Fujitsu Ltd | アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法 |
JP2004004733A (ja) * | 2002-04-15 | 2004-01-08 | Sharp Corp | 感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法 |
JP2004177683A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Clariant (Japan) Kk | 超高耐熱ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP2004333964A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Jsr Corp | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および/またはスペーサーの形成に好適な感放射線性樹脂組成物 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02108053A (ja) * | 1988-10-18 | 1990-04-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | パターン形成材料及びパターン形成方法 |
JP2003255546A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-09-10 | Fujitsu Ltd | アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法 |
JP2004004733A (ja) * | 2002-04-15 | 2004-01-08 | Sharp Corp | 感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法 |
JP2004177683A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Clariant (Japan) Kk | 超高耐熱ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP2004333964A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Jsr Corp | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および/またはスペーサーの形成に好適な感放射線性樹脂組成物 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180116742A (ko) | 2017-04-17 | 2018-10-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 박막 트랜지스터 기판, 액정 표시 소자, 유기 el 소자, 감방사선성 수지 조성물 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 |
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