JP4667637B2 - 電子部品の接合方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、鉛を含有しないはんだを介して電子部品を接合する方法に係り、特に電子部品の電極上に形成される無電解ニッケルめっき層と鉛を含有しないはんだ層との接合に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、携帯用通信機器、パソコン、オーディオ機器等の電子機器の小型化・高密度化に伴い、電子部品も小型で軽量のものが望まれている。この電子部品の小型化により、端子電極の面積も小面積化したため、接合における信頼性を高めることが必要となってきている。
【0003】
この接合信頼性を高めるには、電極のはんだ濡れ性とはんだ/電極間の密着強度を高める必要がある。従来、はんだ濡れ性を高めるため、電極の表面処理に無電解Ni/Auめっきを使用する技術がある。この無電解Ni/Auめっきは、電極端子上へりんを含む無電解Niめっきを施し、その上に0.1〜0.5μm程度のフラッシュAuめっきを行うものである。これは、保管時に表層のAuが下層のNiの酸化を防ぎ、はんだ接合時にはすばやくはんだ内部に拡散しフレッシュなNiが露出するため、非常に良好なはんだ濡れ性を示すものである。
【0004】
しかし、ここで使われているはんだはSn−Pbはんだが使われていたが、Sn−Pbはんだ等の鉛含有はんだを使用した機器は、廃棄されると、廃棄後雨雪や風化によりそのPb成分が土壌や飲料水を汚染し、環境に重大な悪影響を与えることが指摘されるようになった。そのため、電子部品にはPbを含有しないPbフリーはんだによる接合に切り替えが急がれている。
そして、無電解Niめっき被膜の場合、接合はSn−Pb/Niにより行われてきたが、鉛フリーはんだと無電解Niめっきとの接合性については歴史が浅いためほとんど研究がなされておらず、開発が進んでいない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、電子部品電極端子の無電解Niめっきの接合について検討したところ、無電解Niめっき層とSn−Agはんだ、Snはんだ等の鉛を含有しないはんだ層とを接合させる場合には、▲1▼その密着力は鉛含有はんだに比べ鉛を含有しないはんだではかなり低下する(図4参照)、▲2▼鉛を含有しないはんだとの接合では、リフローを繰り返すことによりNiめっき層が溶解し消失してしまう(Niめっき層とはんだ層との接合面の顕微鏡写真(倍率:800倍)で調べると、リフロー条件:250℃3分、Sn−Agはんだで、1回目で1/2程度、リフロー3回目で2/3程度、リフロー5回目で4/5以上消失)、▲3▼また、Auめっき層が薄層である場合にはNiめっき層表面が酸化されやすいといった欠点があり、特に、これらの欠点はCSP(チップサイズパッケージ)やウエハ表面などの300μm以下の電極の接合の場合に顕著に現れ、電気的な接続が不良となる。
これらの現象の中ではんだとの密着力の低下に関しては、従来から0.5μm以上のAuめっきの厚みにより密着力の低下が知られているが、この現象とは異なっている。今回問題となっている密着力の低下した領域は0.5μm以下である。また、従来問題となっている不良原因は、Sn−Au合金の生成によるものであるが、今回のものは密着力が低下し剥離した界面を測定してもSn−Auは存在しない。
この新たに発生した問題により、接合部での信頼性を大きく損なう結果を招くことになる。この問題に対し、本発明は、このような欠点をもたない電子部品の接合法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記の課題のもとに研究に鋭意取り組んだ結果、無電解Niめっき層とはんだとの接合部では、Ni金属とはんだとの間で拡散が生起し、[無電解Niめっき/はんだ]の拡散層が生成する。この拡散層と密着性との関係および拡散層の生成過程に着目し、Niめっき層とはんだ層との接合に際し、▲1▼Niめっき層の上に0.04μmより厚いAuめっき層を形成しない、▲2▼Niめっき層の上にAuめっき層以外の酸化防止膜を形成する、▲3▼はんだ層の形成をAuめっき層の形成の直後に行う、ことによりその密着性およびNiめっき層の溶解に顕著な効果があることを確認し本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち本発明は、
(1)ウエハの電極上に鉛を含有しないはんだ層を介して電子部品を接合するにあたり、前記電極上には無電解ニッケルめっきからなる第1の金属層および前記第1の金属層上に無電解金めっきからなる第2の金属層が形成され、前記第2の金属層の厚さが0.005μm〜0.01μmであることを特徴とする電子部品の接合方法、
(2)鉛を含有しないはんだが、Snはんだ、Sn−Agはんだ、Sn−Biはんだ、Sn−Ag−Cuはんだから選ばれるものであることを特徴とする(1)記載の電子部品の接合方法、
(3)鉛を含有しないはんだ層が、第2の金属層の形成直後に形成されるものであることを特徴とする(1)又は(2)記載の電子部品の接合方法、および、
(4)第2の金属層に加え、さらに酸化防止層を形成することを特徴とする(1)、(2)又は(3)記載の電子部品の接合方法、
を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の電子部品を接合する一実施の形態について、図1によって無電解Niめっきからなる第1の金属層1と、無電解Auめっきからなる第2の金属層2と、鉛を含有しないはんだからなるはんだ層3を有する電極構造について説明する。半導体素子の半導体基板5上には、Al又はCu等の電極4が形成されている。6は樹脂からなる絶縁膜である。電極4上に自然酸化膜が生じるので脱脂処理をした後、酸又はアルカリをエッチング液として表面の自然酸化膜を除去する。エッチング液を洗い流した後、すぐ市販のジンケート処理液を用いて、電極4の表面層をZnに置換させ再酸化するのを防止する。その後純水で洗浄した後、50℃〜90℃程度に加熱した一般に使用されている無電解Niめっき液の中に漬けて電極4の上にのみ第1の金属層であるNiめっき層1を形成していく。厚さが約0.5〜10μm程度の所定の厚さまでNiめっき層を形成した後、めっき液を水洗し、Niめっき層1上にのみ第2の金属層である無電解Auめっき層2を形成する。
【0009】
次いで、溶融させたはんだ槽内に浸漬して選択的にAuめっき層があるところの上に電極上層のはんだ層3を形成させる。この時使用するはんだは、Sn−Agはんだ、Snはんだ、Sn−Biはんだ、Sn−Ag−Cuはんだ等の鉛を含有しないはんだである。このうち、特にニッケル拡散効果の点から、Sn−Agはんだ、Snはんだ、Sn−Biはんだが好ましい。はんだ槽内温度は、そのはんだの融点〜融点+30℃程度が好ましい。
【0010】
こうして作製するAuめっき層の層厚と無電解Niめっき層−Pb無含有はんだ層との密着の度合いを調べるため、電極4として80μm角のAlパッド上に5μmの無電解Niめっき層を形成し、その上面に各種厚さのAuめっき層を形成し、次いでその上にSn−3.5Ag(Ag3.5質量%、残部Sn)はんだの150μmのボールを250℃、3分で搭載した。そして、そのシェア強度と破壊状態とを調べ、その結果を図2に示した。Auめっき厚が0.04μm以下である場合には、そのシェア強度は約50gf以上であり、その破壊状態をみると、はんだ内部での破壊率が60%以上となりNiめっき層とはんだとの接合がきわめて良好であることが理解できる。
【0011】
また、鉛を含有しないはんだを用いた場合の無電解Niめっき層の溶解とリフローとの関係について、前記と同様なパッド上に同様に無電解Niめっき層を形成し、その上面に各種厚さのAuめっき層を形成し、同様にはんだ層を設けたものでAuめっき層の層厚の影響について考察した。そして、リフロー条件:250℃、3分、リフロー回数:5回、はんだ:Sn−3.5Agで、無電解Niめっき層とはんだ層との接合面の顕微鏡写真(倍率:800倍)を見ると、Auめっき層のない場合には、Niめっき層の溶解はほとんど認められない。しかし、鉛含有はんだの場合に形成するAuめっき層の通常の厚さ0.40μmでは、鉛無含有のはんだの場合にはNiめっき層の約4/5以上が溶解していることが明らかとなった。
以上のことから、本発明の接合方法にあたっては、電極は無電解ニッケルめっきからなる第1の金属層と、鉛を含有しないはんだからなるはんだ層との間に、厚さが0.04μm以下、好ましくは0.03μm以下、さらに好ましくは0.01μm以下であり、少なくとも0.005μmの金めっき層を形成するものである。
【0012】
さらに、第2の金属層であるAuめっき層が薄い層になればなるほど、続いてPbを含有しないはんだ層を形成するとき、第1の金属層であるNiめっき表面が酸化されやすくなり、はんだの濡れ性が低下し接合が不充分なものとなる。したがって、本発明の電極のPbを含有しないはんだ層は、Auめっき層の形成後すぐに形成されたものであることが好ましい。その時間は、約60分以内であり、好ましくは約30分以内、さらに好ましくは約10分以内である。
【0013】
さらにまた、第2の金属層であるAuめっき層が薄い層になればなるほど、続いてPbを含有しないはんだ層を形成するとき、第1の金属層であるNiめっき表面が酸化され易くなり、はんだの濡れ性が低下し接合しにくくなる。そこで、本発明はその第1の金属層の酸化を防止するために、Niめっき層表面にAuめっき層に加えて、さらに酸化防止膜を形成することもできるものである。勿論、酸化防止膜の形成は、薄層のAuめっき層の上もしくは下のどちらに形成してもよい。
酸化防止膜としては、薄層のPdやAgの無電解めっき膜、はんだ層、ロジン、有機酸等の有機高分子膜のうち少なくとも1つのものから形成し、その膜厚は酸化防止膜として使用される材料により適宜選択できる。
このような酸化防止膜が無電解Niめっき層とPb無含有はんだ層の間に介在されていても、両者の接合には格別の悪影響をもたらすことはない。
【0014】
なお、シェア強度は、めっき層上に搭載したはんだをそのめっき層から引き剥がすのに必要な力であり、その測定方法を模式図でもって図3の(a)に示す。
その破壊時の破壊界面がはんだ内部で生起した場合の状態を模式的に図示したのが図3の(b)であり、このような破壊状態の場合には、界面の密着が良いものと判断した。また、その破壊界面がNiめっき面とはんだ面との界面で生起した場合の状態を模式的に図示したのが図3の(c)であり、このような破壊状態の場合には、界面の密着が悪いものと判断した。はんだ内部破壊率は、その破壊時の破壊界面がはんだ内部で生起した割合を示すものである。
【0015】
本発明の使用される接合方法は、高密度基板、半導体パッケージのインターポーザ、ウエハの電極のパッドであるのが好ましい。これらの分野はますます微小化してきているが、本発明の方法はどのような大きさの電極にも適用できるものであり、その電極の長辺または長軸が300μm以下のものでも良く、更に100μm以下、更には50μm程度のものでも良好な接合が可能である。
【0016】
【実施例】
次に本発明を実施例に基づいて、さらに詳細に説明する。
実施例1
下記のAlパッドをもつウエハを準備した。
ウエハ上のAlパッド
材質 :Si1質量%含有のAl
サイズ :100×100μm(形状 角型)
厚さ :1.0μm
このパッド上へ下記の方法で、無電解Niめっき層を形成した。
先ず、パッドを21℃で1分間界面活性機能のある脱脂液で脱脂処理を行い、濃度3%のふっ化水素酸を用いてAl電極表面に生じた酸化膜を除去した。次いで、ふっ水素酸液を洗い流した後すぐ市販のアルカリジンケート液(奥野製薬製サブスターZN111(商品名))を用いて21℃2分でZnに置換し、酸化を防止した。
続いて、純水でジンケート液を洗い流した後、85℃に加熱した市販の中りんタイプの無電解Niめっき液(奥野製薬製 無電解NiめっきニコロンZ(商品名))中に30分浸漬してAlパッド上にNiめっき層を形成した。得られた層厚は、8.0μmであった。
次に純水で洗浄後、90℃に加熱した市販の無電解Auめっき液(上村工業製TKK−51(商品名))を使用して1分、3分、8分の各めっき処理時間で無電解Auめっき層を形成した。
【0017】
こうして作製した電極の下層金属層であるAuめっき層の厚さを蛍光X線で測定したところ、1分処理のものは0.01μm、3分処理のものは0.03μmであり、8分処理のものは0.05μmであった。
そのAuめっき層の上に、30分以内にSn−3.5Agはんだを搭載した。
下記の表1に示すように、Pb無含有はんだに対するNiめっき層の密着力、溶解は、Auめっき層を薄くすることにより改善されている。
【0018】
【表1】
【0019】
実施例2
下記のパッド上へめっき層を形成した。
パッド
パッド表面 :電解銅
サイズ :φ300μm(形状 丸型)
パッド周辺部:ソルダーレジスト(エポキシ)
このパッド上へ次のようにしてめっき層を形成した。
先ず、パッドを60℃で5分間界面活性機能をもつ脱脂液で脱脂処理を行い、過酸化水素−硫酸からなるエッチング液で1分間処理して表面に生じた酸化膜を除去した。続いて、3%硫酸で30秒間酸洗いし、水洗浄後、市販のPd濃度3mg/lのPd触媒溶液を用い30℃で2分間触媒溶液処理を行い、表面にPdの触媒核を付与した。次に、市販の中リンタイプの無電解Niめっき液(奥野製薬製 無電解NiめっきニコロンZ(商品名))85℃中に30分浸漬してパッド上にNiめっき層を形成した。得られた層厚は、8.0μmであった。純水で洗浄後、さらに無電解Pdめっき液(日本リロナール製 パラマースSMT(商品名))を使用して66℃、3分でPdめっき膜を形成した。
純水で洗浄後、無電解Auめっき液(上村工業製 TKK−51(商品名))を使用して90℃、3分で置換無電解Auめっき層を形成した。
こうして形成しためっき層上に搭載したSn−3.5Agはんだに対して、良好な接合界面を得ることができ、3回のリフローの繰り返しでもNiめっき層の溶解はほとんど認められなかった。
【0020】
【発明の効果】
本発明の電子部品の電極は、無電解ニッケルめっき層と鉛を含有しないはんだ層の接合部に0.005〜0.04μmの層厚のAuめっき層を介在させることを特徴とするもので、Niめっき面とはんだ面との密着性が良好でシェア強度が極めて強く、破壊が生じてもはんだ内部で生起する。また、繰り返しリフローしても無電解Niめっきが溶解して消失することはない。そして、特に電極が300μm以下の小さなものであってもその効果は充分に発揮でき、したがって、その接続部の信頼性は大幅に高まった。
また、無電解めっき層上に鉛を含有しないはんだを被着させたものであるので、この電極をもつ部品を実装した電子機器が廃棄処分をされても環境汚染の心配をする必要が無いものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の電子部品の電極構造の断面図である。
【図2】Auめっき層の厚さと密着度合との関係を示すグラフである。
【図3】(a)はシェア強度の測定方法を示す模式説明図であり、(b)は破壊時の破壊界面がはんだ内部で生起したものの模式説明図であり、(c)は破壊時の破壊界面がNiめっき面とはんだ面との界面で生起したものの模式説明図である。
【図4】Pbを含有しないはんだと無電解Niめっき界面の密着力の低下を示すグラフである。
【符号の説明】
1 第1の金属層(無電解Niめっき層)
2 第2の金属層(無電解Auめっき層)
3 はんだ層(Pbを含有しないはんだ層)
4 電極
5 半導体基板
6 絶縁膜
Claims (4)
- ウエハの電極上に鉛を含有しないはんだ層を介して電子部品を接合するにあたり、前記電極上には無電解ニッケルめっきからなる第1の金属層および前記第1の金属層上に無電解金めっきからなる第2の金属層が形成され、前記第2の金属層の厚さが0.005μm〜0.01μmであることを特徴とする電子部品の接合方法。
- 鉛を含有しないはんだが、Snはんだ、Sn−Agはんだ、Sn−Biはんだ、Sn−Ag−Cuはんだから選ばれるものであることを特徴とする請求項1記載の電子部品の接合方法。
- 鉛を含有しないはんだ層が、第2の金属層の形成直後に形成されるものであることを特徴とする請求項1又は2記載の電子部品の接合方法。
- 第2の金属層に加え、さらに酸化防止層を形成することを特徴とする請求項1、2又は3記載の電子部品の接合方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05206620A (ja) * | 1992-01-24 | 1993-08-13 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属ベース回路基板 |
JPH10251860A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-09-22 | Kobe Steel Ltd | 金/ニッケル/ニッケル3層めっき銅合金電子部品およびその製造方法 |
JP2000252380A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Mitsui Chemicals Inc | はんだ接続用パッドおよびそのはんだ接続用パッドを用いた半導体搭載用基板 |
JP2001015539A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-19 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05206620A (ja) * | 1992-01-24 | 1993-08-13 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 金属ベース回路基板 |
JPH10251860A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-09-22 | Kobe Steel Ltd | 金/ニッケル/ニッケル3層めっき銅合金電子部品およびその製造方法 |
JP2000252380A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-14 | Mitsui Chemicals Inc | はんだ接続用パッドおよびそのはんだ接続用パッドを用いた半導体搭載用基板 |
JP2001015539A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-01-19 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
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