JP4648146B2 - 耐クラック性に優れた付加硬化型シリコーン組成物 - Google Patents

耐クラック性に優れた付加硬化型シリコーン組成物 Download PDF

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Description

本発明は、耐クラック性に優れた高硬度の付加硬化型シリコーン組成物に関する。
従来、LED等の光デバイスの封止材料には、耐熱性および耐紫外線性を有するシリコーン組成物として提案されているもの(特許文献1〜3)が使用されている。しかし、いずれも例えばエポキシ樹脂と比較すると、熱または紫外線に対する耐久性は向上するものの、複雑なデバイスを封止するために用いた場合には、リフロー条件や−40℃と100℃または125℃との温度サイクル条件において、光デバイスの構成材料の線膨張係数の違いからクラックが発生することがあり、用途が限定されてしまうという問題がある。
特許第3344286号公報 特開2002−265787号公報 特開2004−186168号公報
そこで、本発明は、耐クラック性に優れた高硬度の付加硬化型シリコーン組成物を提供することを目的とする。
この様な状況に鑑み、本発明者らは鋭意努力した結果、アリール基を有する予め三次元架橋されたオルガノシロキサン中に、直鎖状セグメントとしてアリール基を有する線状構造のシロキサンを組み込むことにより、硬化物の硬度を低下させることなく耐クラック性を向上させることが可能であることを見出した。
即ち、本発明は第一に、
(A)下記平均組成式(1):
1 nSiZ[(4-n)/2] (1)
(式中、R1は独立に、非置換もしくは置換の一価炭化水素基、アルコキシ基または水酸基であり、但し、全R1の5〜50モル%がアルケニル基であり、かつ全R1の10〜80モル%がアリール基であり、Zは酸素原子もしくは炭素原子数が2〜10の二価炭化水素基であり、但し、全Zの80モル%以上が酸素原子であり、nは1≦n<2を満たす数である。)
で表され、全ケイ素原子の5〜50モル%が下記平均式(2):
−SiR2 2−X−(SiR2 2O)lSiR2 2−X−SiR2 2O− (2)
(式中、R2は独立に、非置換もしくは置換の一価炭化水素基であり、但し、全R2の10〜80モル%がアリール基であり、Xは酸素原子もしくは炭素原子数が2〜10の二価炭化水素基であり、lは3以上の整数である。)
で表される構造中に存在する、25℃での粘度が10mPa・s以上である液状または固体状のオルガノポリシロキサン、
(B)下記平均組成式(3):
3 abSiO[(4-a-b)/2] (3)
(式中、R3は独立に、脂肪族不飽和結合を有しない非置換または置換の一価炭化水素基であり、aは0.7≦a≦2.1を満たす数であり、bは0.001≦b≦1.0を満たす数であり、但し、a+bは0.8≦a+b≦3を満たす数である。)
で表され、ケイ素原子に結合した水素原子を一分子中に少なくとも2個有し、25℃での粘度が1000mPa・s以下であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン: (A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子の割合が0.7〜5モルの範囲となる量、ならびに
(C)付加反応触媒: 有効量
を含む付加反応硬化型シリコーン組成物、及び該組成物に更に(D)接着性付与剤を配合してなる組成物
を提供する。
本発明は第二に、前記組成物を硬化させてなる硬化物を提供する。
本発明の組成物は、熱衝撃のストレスにより発生する歪みによるクラックに対して、優れた耐久性(耐クラック性)を示し、かつ硬質プラスチックのような高硬度の硬化物を得ることができるものである。更に、好ましい実施形態では、硬化物の光透過性が著しく優れたものとなる。従って、本発明の組成物は、LED等の光デバイスの封止材料として特に有用であり、更にはレンズ材料、ハードコート剤等として有用である。本発明の組成物は自己接着性を有するので、耐熱性に優れた高強度接着剤等としても有用である。
以下、本発明の組成物を詳細に説明する。
<(A)オルガノポリシロキサン>
(A)成分のオルガノポリシロキサンは、組成物のベースポリマーとなる成分である。(A)成分のオルガノポリシロキサンは、上記平均組成式(1)で表され、全ケイ素原子の5〜50モル%、好ましくは10〜40モル%が上記平均式(2)で表される構造中に存在する、通常、25℃での粘度が10mPa・s以上である液状または固体状のものである。
上記平均式(2)で表される構造中に存在するケイ素原子が(A)成分のオルガノポリシロキサン中に存在する全ケイ素原子に対して5モル%未満の場合には、良好な耐クラック性が得られないことがあり、50モル%を超える場合には、非常に高粘度になると共に、硬度が低下してしまい、所期の物性を得ることが困難になることがある。
(A)成分のオルガノポリシロキサンは、通常、樹脂であり、具体的にはT単位(三官能性シロキサン単位)および/またはQ単位(SiO4/2単位)を主とする三次元網状構造中にD単位(二官能性シロキサン単位)を主とする直鎖状構造を有する樹脂である。
上記平均組成式(1)中、R1で表される一価炭化水素基は、炭素原子数が、通常、1〜15、好ましくは1〜10のものであり、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ノルボルニル基等のビシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基;フェニル基等のアリール基;これらの基の水素原子をハロゲン原子等で置換したトリフルオロプロピル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、ビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基である。R1で表されるアルコキシ基は、炭素原子数が、通常、1〜8、好ましくは1〜3のものであり、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
上記平均組成式(1)中、全R1の5〜50モル%がアルケニル基であることが必要であり、5〜40モル%、特には10〜30モル%がアルケニル基であることが好ましい。アルケニル基の量が5モル%未満の場合には、硬化物が十分な架橋密度を有さず、高温時の硬度低下が著しくなり、所期の特性が得られないことがある。アルケニル基の量が50モル%を超える場合には、必要とされる(B)成分の添加量が増加するため、三次元架橋されたオルガノポリシロキサンの割合が低下し、所期の特性が得られないことがある。
上記平均組成式(1)中、全R1の10〜80モル%がアリール基であることが必要であり、25〜70%、特には30〜60%がアリール基であることが好ましい。アリール基の量が10モル%未満の場合には、硬化物が脆くなり、所期の特性が得られないことがある。アリール基の量が80モル%を超える場合には、オルガノポリシロキサンの粘度が著しく高くなり、作業性が極端に低下することがある。
上記平均組成式(1)中、全Zの80モル%以上(即ち、80〜100モル%)、好ましくは90〜100モル%、より好ましくは95〜99.9モル%が酸素原子である。その他の残余の基として、全Zの20モル%以下(即ち、0〜20モル%)、好ましくは0〜10モル%、より好ましくは0.1〜5モル%が二価炭化水素基である。
上記平均組成式(1)中、Zで表される二価炭化水素基は、炭素原子数が2〜10であることが必要であり、好ましくは2〜6であり、具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基等のアルキレン基;シクロヘキシレン基等のシクロアルキレン基;フェニレン基等のアリーレン基等が挙げられ、好ましくはエチレン基、プロピレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基である。
上記平均組成式(1)中、nは1≦n<2を満たす数であることが必要であり、好ましくは1.1〜1.9の数である。
(A)成分のオルガノポリシロキサンにおいて、上記平均式(2)で表される構造(即ち、直鎖状のオルガノシロキサン、オルガノシルアルキレンもしくはオルガノシルアリーレン、またはこれらの組み合わせからなる構造)は、該オルガノポリシロキサン中のソフトセグメントとなり、得られる硬化物の耐クラック性を著しく向上させる。
上記平均式(2)中、R2で表される一価炭化水素基は、上記平均組成式(1)におけるR1で表される一価炭化水素基として説明したものと同種のものであり、R1として例示したものと同じものを挙げることができる。
上記平均式(2)中、全R2の10〜80モル%、好ましくは20〜70モル%、より好ましくは30〜60モル%がアリール基である。かかる範囲を満たすと、耐久性(耐クラック性)の著しい向上が認められる。アリール基の割合が10モル%未満である場合には、アリール基を含まないものと同様の特性しか得られないことがある。アリール基の割合が80モル%を超える場合には、合成が困難であり、また粘度が著しく上昇するため、作業性が悪くなることがある。
上記平均式(2)中、Xで表される二価炭化水素基は、上記平均組成式(1)におけるZで表される二価炭化水素基として説明したものと同種のものであり、Zとして例示したものと同じものを挙げることができる。
上記平均式(2)中、lは3以上の整数であることが必要であり、好ましくは4〜30、更に好ましくは4〜20の範囲を満たす整数である。lが3未満の場合には、目的とするソフトセグメントとしての働きが不十分であることがある。lが大きすぎる場合には、合成が困難な上、硬さが低下し、所望の高硬度材料を得ることができないことがある。
上記平均式(2)で表される構造の具体例としては、
Figure 0004648146
等が挙げられる。
(A)成分のオルガノポリシロキサンの具体例としては、
[(C)SiO3/20.6[(CH=CH)(CH)SiO1/20.2[(CH)SiO1/2(C)1/2]0.07[(C)SiO2/2]0.07[(CH)SiO2/2]0.06
[(C)SiO3/20.6[(CH=CH)(CH)SiO1/20.1[(CH)SiO1/2(C)1/2]0.1[(C)SiO2/2]0.1[(CH)SiO2/2]0.1
[(C)SiO3/20.6[(CH=CH)(CH)SiO1/20.2[(CH)SiO1/2(C)1/2]0.04[(C)SiO2/2]0.02[(CH)SiO2/2]0.14
[(C)SiO3/20.6[(CH=CH)(CH)SiO1/20.2[(CH)SiO1/2(C)1/2]0.08[(C)SiO2/2]0.04[(CH)SiO2/2]0.08
[(C)SiO3/20.6[(CH=CH)(CH)SiO1/20.2[(C)SiO2/2]0.07[(CH)SiO2/2]0.13
(但し、上記各単位式中、(C)は−CHCH−基を示す。)
等が挙げられる。
(A)成分のオルガノポリシロキサンは、一般的には、塩素原子(通常、ケイ素原子に結合した塩素原子)を有するケイ素化合物を加水分解・縮合する方法、アルコキシ基を有するケイ素化合物を加水分解・縮合する方法、あるいは塩素原子(通常、ケイ素原子に結合した塩素原子)を有するケイ素化合物とアルコキシ基を有するケイ素化合物を加水分解・縮合する方法により得ることができる。また、上記平均式(2)で表される構造を有するセグメント部分は、アルカリもしくは酸による平衡化反応、分子鎖両末端にケイ素原子に結合した水素原子を有するケイ素化合物と、分子鎖両末端にケイ素原子に結合した不飽和結合を有する基(例えば、アルケニル基等)を有するケイ素化合物との付加反応等により得られる。
(A)成分のオルガノポリシロキサンは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
<(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン>
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、(A)成分を架橋させるための架橋剤となる成分である。(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、上記平均組成式(3)で表され、ケイ素原子に結合した水素原子を一分子中に少なくとも2個、好ましくは2〜100個、より好ましくは2〜50個、特に好ましくは2〜15個有し、25℃での粘度が1000mPa・s以下、好ましくは0.5〜500mPa・s、より好ましくは0.9〜100mPa・sであり、通常、1分子中のケイ素原子数(又は重合度)が2〜200個、好ましくは3〜100個、より好ましくは4〜50個程度のものであればよい。(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの構造は特に限定されないが、通常、直鎖状、環状、これらの一部が分岐鎖を有する構造や三次元網状構造等が挙げられる。
上記平均組成式(3)中、R3で表される脂肪族不飽和結合を有しない一価炭化水素基は、炭素原子数が、通常、1〜20、好ましくは1〜10のものであり、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ノルボルニル基等のビシクロアルキル基;フェニル基等のアリール基;これらの基の一部を置換したトリフルオロプロピル基、グリシジルプロピル基、トリメトキシシリルエチル基等が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ノルボルニル基、グリシジルプロピル基、トリメトキシシリルエチル基であり、(A)成分のオルガノポリシロキサンとの相溶性を向上させるのに特に有効であるので、より好ましくはフェニル基である。(B)成分がR3としてフェニル基を有する場合の適切なフェニル基量は、(A)成分中のアリール基量によって左右されるため一概には定義できないが、(B)成分の全R3中のフェニル基の割合(モル%)が、(A)成分の全R1中のアリール基の割合(モル%)に近いことが望ましい。
上記平均組成式(3)中、aは0.7≦a≦2.1を満たす数であることが必要であり、好ましくは0.9≦a≦2.0を満たす数であり、bは0.001≦b≦1.0を満たす数であることが必要であり、好ましくは0.1≦b≦1を満たす数であり、但し、a+bは0.8≦a+b≦3を満たす数であることが必要であり、好ましくは1.5≦a+b≦2.7を満たす数である。
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの具体例としては、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン等のアルキルハイドロジェンシクロシロキサン等の環状シロキサン化合物;下記一般式:
Me3SiO(SiMeHO)dSiMe3
Me3SiO(SiMeHO)d(SiMe2O)eSiMe3
Me3SiO(SiMeHO)d(SiPh2O)eSiMe3
Me3SiO(SiMeHO)d(SiPhMeO)eSiMe3
Me3SiO(SiMeHO)d(SiMe2O)e(SiPh2O)fSiMe3
HMe2SiO(SiMeHO)dSiMe2
HMe2SiO(SiMeHO)d(SiMe2O)eSiMe2
HMe2SiO(SiMeHO)d(SiPh2O)eSiMe2
HMe2SiO(SiMeHO)d(SiMe2O)e(SiPh2O)fSiMe2
(式中、dは2〜20、好ましくは2〜10の整数であり、eは0〜20、好ましくは0〜10の整数であり、fは0〜20、好ましくは0〜10の整数であり、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す。以下、同じ。)
等の直鎖状シロキサン化合物;これらの直鎖状シロキサン化合物の一部がMeSiO3/2単位、PhSiO3/2単位もしくはSiO4/2単位またはこれらの二種以上で置換された分岐状シロキサン化合物、[HMe2SiO1/2]単位と[SiO4/2]単位とからなる三次元網状構造のオルガノハイドロジェンポリシロキサン樹脂などが挙げられる。
(B)成分の配合量は、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)の割合が0.7〜5モルの範囲となる量であることが必要であり、好ましくは0.7〜3モル、更に好ましくは0.8〜2モルとなる量である。かかる割合が0.7モル未満である場合には、十分な架橋が得られないだけでなく、硬化物中に不飽和結合が残留し、これが高温に曝されると酸化し黄変を引き起こし、外観を損なうことがある。かかる割合が5モルを超える場合には、(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサン自体もソフトセグメントとして働くため、所望の高硬度が得られないことがある。
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
<(C)付加反応触媒>
(C)成分の付加反応触媒は、(A)成分中のアルケニル基と(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子とを反応させるために使用される。(C)成分の付加反応触媒の具体例としては、白金、パラジウム、ロジウム系の触媒等が挙げられるが、触媒効率の高さの面から通常白金触媒が使用される。白金触媒としては、塩化白金酸およびこれから誘導される化合物が通常使用される。特にジビニルテトラメチルジシロキサンで置換基が置換された化合物は、金属を腐食させる恐れのある塩素原子含有量も少なく、電気電子用途に適している。
(C)成分の付加反応触媒の配合量は、触媒として作用する有効量であれば特に限定されないが、通常、(A)成分に対して、白金(あるいはパラジウム、ロジウム)原子量(質量基準)で0.1〜500ppm、好ましくは3〜100ppmである。
(C)成分の付加反応触媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
<その他の成分>
(A)〜(C)成分を含有する本発明の組成物は通常、それ自体で各種基材に対する良好な自己接着性を有するものであるが、更に良好な接着性を要求される用途においては、下記に示す(D)成分の接着性付与剤を、更に配合することが望ましい。
この(D)成分は、本発明の組成物に優れた自己接着性を与える接着性付与剤であり、当該自己接着性は、特に、金属および有機樹脂に対して良好であることが好ましい。前記(D)成分としては、例えば、ビニル基等のアルケニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ヒドロシリル基(SiH基)、エポキシ基、アルコキシ基、カルボニル基およびフェニル基からなる群から選択される少なくとも1種、好ましくは2種以上の官能基を有するシラン、ケイ素原子数が2〜30個、好ましくは4〜20個程度の、環状または直鎖状のシロキサン等の有機ケイ素化合物を挙げることができる。
(D)成分は1種単独でも2種以上を組み合わせても使用することができ、(A)成分100質量部に対して、通常、15質量部以下(即ち、0〜15質量部)、好ましくは0.5〜10質量部程度配合することができるが、(D)成分が分子中にヒドロシリル基(SiH基)を有するものである場合には、(A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対して、前記(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)と(D)成分中のケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)との合計のモル比が0.7〜5、特に0.8〜2となる量で(D)成分を配合することが好ましい。
(D)成分の具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
Figure 0004648146
本発明の組成物には、所期の特性を損なわない限り、更に機能を付与する添加剤を添加してもよい。その例としては、エチニルシクロヘキサノール等の反応抑制剤;エポキシ基および/またはアルコキシシリル基を有するカーボンファンクショナルシラン、その部分加水分解縮合物もしくはシロキサン化合物等の接着性向上剤;煙霧状シリカ(ポリエーテルを併用してもよい)等のチクソ性付与剤;銀、銅、アルミニウム等の金属粉、各種カーボン等の導電性付与剤;顔料、染料等の色調調整剤等が挙げられる。これらは、二種以上を併用してもよい。
<組成物の調製・硬化>
組成物の調製方法は特に限定されないが、通常、上記(A)〜(C)成分およびその他の成分を攪拌して混合することによって行うことができる。こうして得られた組成物は、通常、60〜200℃で10分〜5時間加熱することにより硬化させることができる。また、60〜100℃で1〜2時間加熱した後、120〜200℃で1〜5時間加熱することにより、ステップキュアを行ってもよい。
<好ましい実施形態>
特に、LED(発光ダイオード素子)やフォトカプラーなど光デバイスの用途においては赤外線、可視光における光の透過率が重要であり、このような用途には、各成分の屈折率、相溶性が透明性に大きく影響する。この点に留意することにより、本発明の組成物は、厚さ2mmの板状硬化物に対する400nmの波長の光の透過性が80%以上、典型的には85%以上の硬化物を製造することができる。
以下、実施例を用いて本発明をより具体的に説明する。これらの実施例は本発明を何ら制限するものではない。なお、Me、Ph、Viはそれぞれ、メチル基、フェニル基、ビニル基を示す。
<合成例1>(フェニル基含有直鎖状セグメントの合成)
下記構造式:
HMe2SiO(SiPh2O)2(SiMe2O)2SiMe2
で表される分子鎖両末端にケイ素原子に結合した水素原子を有する化合物100g(0.38mol)に、ジビニルテトラメチルジシロキサンを配位子として有する白金触媒のトルエン溶液を白金原子量(質量)に換算して5ppm添加した。得られたトルエン溶液を90℃に加熱し、そこへビニルジメチルクロルシラン48.3g(0.40mol)を滴下して反応させた。得られた反応溶液を90℃にて5時間放置した後、10mmHg以下の圧力下で減圧し、過剰のビニルジメチルクロルシランを除去して、下記構造式:
ClMe2SiC24SiMe2O(SiPh2O)2(SiMe2O)2SiMe224SiMe2Cl
で表される直鎖状セグメントを得た。
<合成例2>(レジン1の合成)
フェニルトリクロロシラン116.4g(0.55mol)、ビニルジメチルクロルシラン24.1g(0.2mol)および直鎖状セグメント38.6gを混合した後、得られた混合液をトルエンと水との懸濁液中に滴下し、加水分解を行った。こうして得られた溶液を水洗して中性にした後、有機層のみを取り出し、そこに水酸化カリウム0.05gを添加し、リフラックス温度下で10時間攪拌して縮合させた。その後、得られた反応溶液にトリメチルクロルシランを添加し、中和を行った後、減圧ストリップにより過剰なトルエンを除去し、次いでろ過を行い、50質量%の不揮発性成分を有するレジン1(平均組成式:[PhSiO3/20.55[ViMeSiO1/20.2[MeSiO1/2(C1/20.13[PhSiO2/20.06[MeSiO2/20.06のトルエン溶液を得た。
<合成例3>(レジン2の合成)
合成例2において、フェニルトリクロロシラン116.4gおよび直鎖状セグメント38.6gに代えて、フェニルトリクロロシラン127g(0.6mol)および直鎖状セグメント25.7gを用いた以外は合成例2と同様にして、50質量%の不揮発性成分を有するレジン2(平均組成式:[PhSiO3/20.6[ViMeSiO1/20.2[MeSiO1/2(C1/20.1[PhSiO2/20.05[MeSiO2/20.05)のトルエン溶液を得た。
<合成例4>(レジン3の合成)
合成例2において、ビニルジメチルクロルシラン24.1gおよび直鎖状セグメント38.6gに代えて、ビニルジメチルクロルシラン18.1g(0.15mol)および直鎖状セグメント32.1gを用いた以外は合成例2と同様にして、50質量%の不揮発性成分を有するレジン3(平均組成式:[PhSiO3/20.55[ViMeSiO1/20.15[MeSiO1/2(C1/20.15[PhSiO2/20.075[MeSiO2/20.075)のトルエン溶液を得た。
<合成例5>(レジン4の合成)
合成例2において、ビニルジメチルクロルシラン24.1gおよび直鎖状セグメント38.6gに代えて、ビニルメチルジクロルシラン28.2g(0.2mol)およびジメチルジクロロシラン32.3g(0.25mol)を用いた以外は合成例2と同様にして、50質量%の不揮発性成分を有するレジン4(平均組成式:[PhSiO3/20.55[ViMeSiO2/20.2[MeSiO2/20.25)のトルエン溶液を得た。
<合成例6>(レジン5の合成)
合成例2において、直鎖状セグメント38.6gに代えて、下記構造式:
ClMe2SiO(SiMe2O)17SiMe2Cl
で表される、分子鎖両末端にケイ素原子に結合した塩素原子を有するジメチルシロキサン19.3gを用いた以外は合成例2と同様にして、50質量%の不揮発性成分を有するレジン5(平均組成式:[PhSiO3/20.55[ViMeSiO1/20.2[MeSiO2/20.25)のトルエン溶液を得た。
<実施例1〜5、比較例1〜2>
・組成物の調製
表1に示す種類および配合量で、レジン1〜5(合成例2〜6で調製したトルエン溶液の状態のもの)をフラスコに取り、120℃に加熱し、10mmHg以下の減圧下でトルエンを除去した。その後、フラスコ内の温度を90℃まで低下させた後、フラスコ内にシロキサン1〜3および反応制御剤を添加し混合物を得た。こうして得られた混合物にジビニルテトラメチルジシロキサンを配位子として有する白金触媒のトルエン溶液を、レジン1〜5に対して白金原子量(質量)に換算して20ppm添加し、よく撹拌して混合した。その後、減圧状態にて組成物中の泡を除去した。こうして組成物を調製した。
・試験体の作成
得られた組成物を鋳型に流し込み、100℃で1時間、さらに150℃で1時間加熱して厚さ2mmの板状硬化物を作製した。
また、ポリフタルアミド製の直径3mmのカップ状ケースにLED素子およびワイヤーボンディングが施された表面実装型LEDを150℃で10分間乾燥させた後、該ケース内に組成物を流し込み、80℃で1時間、さらに150℃で1時間加熱して組成物を硬化させ、LED封止サンプルを作製した。
・試験方法
上記のとおり作製した板状硬化物またはLED封止サンプルを用いて以下の試験を行った。その結果は表1に示す。
1.硬さ:Shore D硬度計を使用して23℃にて板状硬化物の硬さを測定した。
2.光透過率:厚さ2mmの板状硬化物を分光光度計に装着し、波長が400nmの直進光の透過率を測定した。
3.クラック試験:LED封止サンプルを劣化条件下に置いた(リフロー条件:260℃で3分間加熱した。温度サイクル:100℃の加熱と−40℃の冷却を30分ずつ5回または100回繰り返した。)。その後、光学顕微鏡を用いて150倍の解像度で、劣化条件下に置いた後のLED封止サンプルのクラックの有無を確認した。具体的な評価基準は次のとおりである。
A:クラックは認められなかった。
B:ワイヤーボンディング周辺に小さいクラックが認められた。
C:カップ状ケース内の硬化物の表面を縦断するような大きなクラックが認められた。
Figure 0004648146
*表中のレジン1〜5の配合量はトルエン溶液を含まない量である。
*表中の(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサン、(D)成分の接着性付与剤および反応制御剤は、以下のとおりである。
(D)成分
・シロキサン1(25℃における粘度:12mPa・s):
Figure 0004648146
(B)成分
・シロキサン2(25℃における粘度:25mPa・s):
Figure 0004648146
(B)成分
・シロキサン3(25℃における粘度:0.9mPa・s):テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン
・反応抑制剤:エチニルシクロヘキサノール
*「H/Vi」は、(A)成分中のケイ素原子に結合したビニル基1モルに対する(B)成分及び(D)成分の合計中のケイ素原子に結合した水素原子の割合(モル)を表す。
*比較例1のクラック試験は、温度サイクル5回で大きなクラックが認められたので(C評価)、温度サイクル100回の評価は行わなかった。

Claims (4)

  1. (A)下記平均組成式(1):
    1 nSiZ[(4-n)/2] (1)
    (式中、R1は独立に、非置換の一価炭化水素基、トリフルオロプロピル基、アルコキシ基または水酸基であり、但し、全R1の5〜50モル%がアルケニル基であり、かつ全R1の10〜80モル%がアリール基であり、Zは酸素原子もしくは炭素原子数が2〜10の二価炭化水素基であり、但し、全Zの80モル%以上が酸素原子であり、nは1≦n<2を満たす数である。)
    で表され、全ケイ素原子の5〜50モル%が下記平均式(2):
    −SiR2 2−X−(SiR2 2O)lSiR2 2−X−SiR2 2O− (2)
    (式中、R2は独立に、非置換の一価炭化水素基またはトリフルオロプロピル基であり、但し、全R2の10〜80モル%がアリール基であり、Xは酸素原子もしくは炭素原子数が2〜10の二価炭化水素基であり、lは3〜30の整数である。)
    で表される構造中に存在する、25℃での粘度が10mPa・s以上である液状または固体状のオルガノポリシロキサン、
    (B)下記平均組成式(3):
    3 abSiO[(4-a-b)/2] (3)
    (式中、R3は独立に、脂肪族不飽和結合を有しない非置換の一価炭化水素基、トリフルオロプロピル基、グリシジルプロピル基またはトリメトキシシリルエチル基であり、aは0.7≦a≦2.1を満たす数であり、bは0.001≦b≦1.0を満たす数であり、但し、a+bは0.8≦a+b≦3を満たす数である。)
    で表され、ケイ素原子に結合した水素原子を一分子中に少なくとも2個有し、25℃での粘度が1000mPa・s以下であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン: (A)成分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対する(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子の割合が0.7〜5モルの範囲となる量、ならびに
    (C)付加反応触媒: 有効量
    を含む付加反応硬化型シリコーン組成物。
  2. 更に、(D)接着性付与剤を含有する請求項1に係る組成物。
  3. 請求項1又は2に記載の組成物を硬化させてなる硬化物。
  4. 厚さ2mmの板状硬化物に対する400nmの波長の光の透過性が80%以上である請求項3に係る硬化物。
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DE200660003163 DE602006003163D1 (de) 2005-09-26 2006-09-22 Additionshärtende Silikonzusammensetzung mit der ein gehärtetes Produkt mit guter Rissbeständigkeit hergestellt werden kann
EP20060019915 EP1767580B1 (en) 2005-09-26 2006-09-22 Addition curing silicone composition capable of producing a cured product with excellent crack resistance
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US11/534,694 US7615387B2 (en) 2005-09-26 2006-09-25 Addition curing silicone composition capable of producing a cured product with excellent crack resistance
KR1020060093078A KR101266635B1 (ko) 2005-09-26 2006-09-25 균열 내성이 우수한 경화물을 제공할 수 있는 부가 경화형실리콘 조성물

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Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4816951B2 (ja) * 2005-12-06 2011-11-16 信越化学工業株式会社 シリコーン組成物及びその硬化物
EP1820824B1 (en) * 2006-02-20 2008-08-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Heat curable silicone composition
KR20090091200A (ko) * 2006-12-21 2009-08-26 다우 코닝 코포레이션 이중 경화 중합체 및 이의 제조 방법 및 용도
JP4927019B2 (ja) * 2007-04-10 2012-05-09 信越化学工業株式会社 蛍光体含有接着性シリコーン組成物、該組成物からなる組成物シート、及び該シートを使用する発光装置の製造方法
DE102007040030A1 (de) * 2007-08-24 2009-02-26 Hella Kgaa Hueck & Co. Optische Bauteile auf Basis von Siloxanen
KR101471232B1 (ko) * 2007-09-19 2014-12-09 도레이 카부시키가이샤 전자 부품용 접착제 조성물 및 이를 이용한 전자 부품용 접착제 시트
JP5628474B2 (ja) 2008-03-31 2014-11-19 東レ・ダウコーニング株式会社 オルガノポリシロキサン、その製造方法、硬化性シリコーン組成物、およびその硬化物
JP5972511B2 (ja) * 2008-03-31 2016-08-17 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物
JP5972512B2 (ja) * 2008-06-18 2016-08-17 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
KR101030019B1 (ko) 2009-12-31 2011-04-20 제일모직주식회사 봉지재용 투광성 수지 및 이를 포함하는 전자 소자
JP5426482B2 (ja) * 2010-05-31 2014-02-26 信越化学工業株式会社 発光ダイオード用付加硬化型シリコーン樹脂組成物
KR101277722B1 (ko) * 2010-07-14 2013-06-24 제일모직주식회사 하이브리드 실록산 중합체, 상기 하이브리드 실록산 중합체로부터 형성된 봉지재 및 상기 봉지재를 포함하는 전자 소자
CN102464887B (zh) * 2010-11-18 2013-09-04 达兴材料股份有限公司 发光二极管元件用可硬化硅氧烷树脂组合物
JP5553018B2 (ja) * 2010-12-16 2014-07-16 信越化学工業株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光学素子封止材及び光学素子
JP6300218B2 (ja) 2010-12-31 2018-03-28 サムスン エスディアイ カンパニー, リミテッドSamsung Sdi Co., Ltd. 封止材用透光性樹脂組成物、該透光性樹脂を含む封止材および電子素子
US8895662B2 (en) * 2010-12-31 2014-11-25 Eternal Chemical Co., Ltd. Curable composition and method for manufacturing the same
JP5889399B2 (ja) 2011-05-11 2016-03-22 ヘンケル・チャイナ・カンパニー・リミテッドHenkel Chinaco. Ltd. 改善されたバリア性を有するシリコーン樹脂
EP2784124B1 (en) * 2011-11-25 2016-06-29 LG Chem, Ltd. Curable composition
JP5575820B2 (ja) 2012-01-31 2014-08-20 信越化学工業株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光学素子封止材および光学素子
KR102071013B1 (ko) 2012-05-14 2020-01-29 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 인크. 고굴절률 물질
DE102012104363A1 (de) * 2012-05-21 2013-11-21 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2014019188A1 (en) 2012-08-02 2014-02-06 Henkel (China) Company Limited Polycarbosilane and curable compositions for led encapsulants comprising same
CN104662098A (zh) 2012-08-02 2015-05-27 汉高股份有限公司 用于led封装剂的包含聚碳硅烷和含氢聚硅氧烷的可固化组合物
CN103408945B (zh) * 2013-02-18 2016-01-20 永信新材料有限公司 可应用于发光二极管元件的聚硅氧烷组合物、基座配方及其发光二极管元件
TWI616489B (zh) * 2013-02-18 2018-03-01 可應用於發光二極體元件之聚矽氧烷組合物、基座配方及其發光二極體元件
CN105263990B (zh) 2013-03-14 2019-04-23 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 高折射率硅氧烷
JP5913537B2 (ja) * 2014-11-20 2016-04-27 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法
JP6586555B2 (ja) * 2014-12-26 2019-10-09 ダウ・東レ株式会社 硬化性シリコーン組成物、それからなる半導体用封止剤および半導体装置
US9416273B1 (en) * 2015-04-30 2016-08-16 Eternal Materials Co., Ltd. Curable composition and method for manufacturing the same
CN107760253B (zh) * 2016-08-16 2020-07-28 北京康美特科技股份有限公司 太阳能电池用密封剂、太阳能电池组件及其密封方法
CN108219472B (zh) * 2016-12-13 2021-02-02 北京科化新材料科技有限公司 一种液态硅树脂组合物及其制备方法和应用
JP2020007537A (ja) * 2018-06-29 2020-01-16 信越化学工業株式会社 硬化性有機ケイ素樹脂組成物及び半導体装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4830800A (ja) * 1971-08-25 1973-04-23
JP2004292714A (ja) * 2003-03-28 2004-10-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 硬化性組成物、硬化物、その製造方法およびその硬化物により封止された発光ダイオード
JP2004359756A (ja) * 2003-06-03 2004-12-24 Wacker Asahikasei Silicone Co Ltd Led用封止剤組成物
JP2005089671A (ja) * 2003-09-19 2005-04-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性シリコーン樹脂組成物

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW296400B (ja) * 1994-11-17 1997-01-21 Shinetsu Chem Ind Co
JP3344286B2 (ja) 1997-06-12 2002-11-11 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーン樹脂組成物
US6696538B2 (en) * 1999-07-27 2004-02-24 Lg Chemical Ltd. Semiconductor interlayer dielectric material and a semiconductor device using the same
RU2303611C2 (ru) * 2000-10-16 2007-07-27 Акцо Нобель Н.В. Термоклеящаяся композиция краски
JP4009067B2 (ja) * 2001-03-06 2007-11-14 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーン樹脂組成物
JP4409160B2 (ja) * 2002-10-28 2010-02-03 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP2004186168A (ja) * 2002-11-29 2004-07-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4830800A (ja) * 1971-08-25 1973-04-23
JP2004292714A (ja) * 2003-03-28 2004-10-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 硬化性組成物、硬化物、その製造方法およびその硬化物により封止された発光ダイオード
JP2004359756A (ja) * 2003-06-03 2004-12-24 Wacker Asahikasei Silicone Co Ltd Led用封止剤組成物
JP2005089671A (ja) * 2003-09-19 2005-04-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性シリコーン樹脂組成物

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Publication number Publication date
TW200732422A (en) 2007-09-01
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