JP4564362B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 180
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 174
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 63
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 45
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 148
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 45
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 38
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 37
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 29
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 29
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 28
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 22
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 20
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 16
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009279 wet oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000004129 N-Type Calcium Channels Human genes 0.000 description 2
- 108090000699 N-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
- H01L29/7802—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
- H01L29/7813—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors with trench gate electrode, e.g. UMOS transistors
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- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
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- H01L29/0611—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices
- H01L29/0615—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices by the doping profile or the shape or the arrangement of the PN junction, or with supplementary regions, e.g. junction termination extension [JTE]
- H01L29/0619—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for increasing or controlling the breakdown voltage of reverse biased devices by the doping profile or the shape or the arrangement of the PN junction, or with supplementary regions, e.g. junction termination extension [JTE] with a supplementary region doped oppositely to or in rectifying contact with the semiconductor containing or contacting region, e.g. guard rings with PN or Schottky junction
- H01L29/0623—Buried supplementary region, e.g. buried guard ring
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
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- H01L29/0607—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration
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- H01L29/063—Reduced surface field [RESURF] pn-junction structures
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- H01L29/66666—Vertical transistors
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Description
図1は、第1の実施形態に係る半導体装置の上面図であり、図2,3は、夫々図1中の2−2線、3−3線に沿った断面図である。なお、断面線に添えられた、例えば2−2線とは、その断面が図2に示されることを表わすものとする。本明細書及び図面においては、多くの断面線が存在するので、以下の図面においても、同様な断面線の記載をするものとする。
まず、図22のA部に示すように、トレンチ底部に形成されたゲート絶縁膜8の一部にヴィアホールを形成し、第1の電界緩和層11(p型領域)と、ゲート領域5(トレンチ領域埋め込みのポリシリコン)をコンタクトさせる。但し、このゲート領域5のポリシリコンはトレンチ部分に埋め込まれているのみで、B部に示すようにゲートコンタクト13には引き出されていない。また、ヴィアホールを形成していないトレンチ領域に埋め込まれたポリシリコンは、C部に示すようにゲートコンタクト13にまで引き出されている。
第1の電界緩和層11の引き出し方法を以下のようにしてもよい。即ち、図25に示すように、トレンチに埋め込んだポリシリコンをゲートコネクション47を通じてゲート配線酸化膜8の上まで引き出す。次に、図26に示すようにポリシリコン表面を酸化した後、CVD酸化膜41を成膜し、ゲートコネクション47上の酸化膜41をエッチングしゲートコンタクトホール43を形成すると同時に、ソース領域6の上の酸化膜41をエッチングし、ソースコンタクトホール45を形成する。
変形例3は、斜めイオン注入を行った第1の実施形態や、ヴィアホールを形成した変形例1よりも、より簡便に第1の電界緩和層11から放電されるホールをソースパッド16に流し込むことができる構成を提供するものである。
図41は、本発明の第2の実施形態の半導体装置のゲート領域1対分を示した摸式的な断面図である。但し、エピタキシャル層10の下部以下の図示は省略している。第2の実施形態と第1の実施形態との違いは、ゲート領域5の底部にゲート絶縁膜8がなく、代わりにp型領域25が形成されているところにある。そして、p型領域25と第1の電界緩和層11とは離間して設けてある。その他の部分については、第1の実施形態と同様であるため、説明を省略する。
図42は本発明の実施形態3の半導体装置のゲート領域1対分を示した模式的な断面図である。但し、エピタキシャル層10の下部以下の図示は省略している。第3の実施形態と第2の実施形態との違いは、第2の実施形態ではゲート領域5底面にのみp型領域25が形成されているが、第3の実施形態ではゲート領域5底面のみでなく、ゲート電極5側面にもp型領域25´が形成されており、ゲート領域5全面に亘りゲート絶縁膜8が形成されていないところにある。その他の部分については、第1の実施形態と同様であるため、説明を省略する。第3の実施形態の半導体装置の耐圧は、p型領域25´の面積が増えた分、第2の実施形態の半導体装置のそれよりもさらに向上する。
(第4の実施形態)
図43は、本発明の第4の実施形態の半導体装置のゲート領域1対分を示した摸式的な断面図である。第1乃至第3の実施形態では、ゲート領域5は不純物を含んだポリシリコンからなっていたが、第4の実施形態のゲート領域5´はイオン注入により形成された不純物領域である点で前述の実施形態と異なる。第4の実施形態の構造では溝を形成せず、電界緩和層を予め形成したn型SiC基板上に低濃度n型層10をエピタキシャル成長させ、その表面にゲート領域5、ソース領域6を作りトランジスタを形成することになるため、リソグラフィー工程を含めた溝を形成する工程を省略することができる。
図44は、本発明の第5の実施形態の半導体装置の上面図、図45は図44のの45−45線に沿った断面図である。第5の実施形態と第1の実施形態と異なる点は、第1、第2の電界緩和層11、12とゲート領域5との配置関係が異なる点、ソース領域の構造が異なる点である。
本発明における電界緩和層領域の形状は図46(a)〜(d)のどれか1つ、またはこれらの組み合わせによって形成される。
図50は、本発明の第6の実施形態の半導体装置の上面図である。第6の実施形態が第5の実施形態と異なる点は、ソース領域6の平面パターンが異なる点である。
図51は、本発明の第7の実施形態の半導体装置の上面図である。第7の実施形態が第6の実施形態と異なる点は、p型領域6bの中央部分がn型領域6aとなっており、p型領域6bが2つの領域に分断された点である。
これまで述べたように、本発明の縦型半導体装置では、対向するゲート領域5に挟まれたエピタキシャル領域10cがチャネルになる。ゲート領域5から横方向に延びる空乏層がチャネルのピンチオフ能を決めるので、簡便なMOSダイオードのモデルを用いて、ゲートバイアス(Vg),酸化膜厚(Ox)、不純物濃度(D)を変化させた時の空乏層の延びを調べてみた。
これまでの実施形態ではエピタキシャル層10の不純物濃度は均一であったが、図54に示すようにエピタキシャル層10の領域を分けてエピタキシャル層濃度の最適化を図ることができる。第9の実施形態ではこのような例を説明する。
第9の実施形態では、エピタキシャル層3を3つの領域59,61,63に分けたが、これに伴い、終端構造部(ガードリング21b)の底部の位置のバリエーションが増える。
上記の実施形態で例示した半導体装置は、チャネル層深さ方向中央部を横切るp型領域を加えることにより、トレンチMOSFETとすることができ、このトレンチMOSFETのドレインコンタクト層(n型)をp型に変えることにより、IGBTとすることができる。
上述の実施形態では、縦形素子について説明したが、本発明はこれに限られず、横型素子に適用することができる。
2…反転層
3…ドレイン領域
4…ドレイン電極
5…ゲート領域(ゲート電極)
6…ソース領域
7…ソースコンタクト用p型領域
8…ゲート絶縁膜
9…Si酸化膜
10…エピタキシャル層
10a…活性領域
10c…チャネル部
10p…p型領域
10pl…トレンチ側壁底部横長p型部
11…第1の電界緩和層
12…第2の電界緩和層
13…ゲートコンタクト
14…ソースコンタクト
15…ゲートパッド
15ex…ゲート引出し電極
16…ソースパッド
16ex…ソース引出し電極
16el…ソース電極延長部
17…ソース配線コンタクト
18…シリコン酸化膜
19…ゲート側壁絶縁膜
21a…ガードリング
21b…リサーフ
22…シリコン酸化膜
23…絶縁膜
25…p型領域
25´…p型領域
26…ポリシリコン膜
27…Si酸化膜
28…Si酸化膜
31…マスク(Al)
32…マスク(Mo)
33…メタルマスク
34…メタルマスク
41…絶縁膜
43…ゲートコンタクトホール
45…ソースコンタクトホール
47…ゲート接続
49…ヴィアホール
51…一方の電極
53…シリコン酸化膜
55…エピタキシャル層
57…他方の電極
59…第1の領域
61…第2の領域
63…第3の領域
65…ポリシリコン層
67…シリコン酸化膜
70…ソース電極
71…ソースコンタクト
72…ソース領域
73…p型領域層
74…ゲート絶縁膜
75…ゲート領域(ゲート電極)
76…ドリフト領域
77…ドレインコンタクト
78…ドレイン電極
80…エミッタ電極
81…エミッタコンタクト
82…エミッタ領域
83…ベース領域
84…ゲート絶縁膜
85…ゲート領域(ゲート電極)
86…ドリフト領域
87…コレクタコンタクト
88…コレクタ電極
91…p型エピタキシャル層
92…n型領域
93…メタルマスク
94…メタルマスク
100…ドリフト層
101…ゲート領域
101a…ゲート電極
101b…ゲート端子
102…ソース領域
102a…ソース電極
102b…ソース端子
103…基板、ドレイン領域
103a…ドレイン電極
103b…ドレイン端子
105…ゲート領域
108…ゲート絶縁膜
109…p型電界緩和層
Claims (11)
- 第1の主面と第2の主面を有する第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の前記第1の主面上に形成された第1導電型の低濃度半導体層と、
前記低濃度半導体層の表面の島状領域の頂部に形成された第1導電型の第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域の周囲を取り囲むように形成され、前記第1の半導体領域よりも深く前記低濃度半導体層に埋め込み形成された第1の電極と、
前記半導体基板の前記第2の主面上に形成された第2の半導体領域と、
前記第1の電極の底面とこの底面に対向する前記第2の半導体領域の間に介在する前記低濃度半導体層中に、前記第1の電極と離隔して形成され、第2導電型の第1の電界緩和層と、前記第1の電界緩和層の両端に形成された第1導電型の第2の電界緩和層からなる埋込電界緩和層と、
前記第1の主面の前記第1の半導体領域上に形成された第2の電極と、
前記第2の主面の前記第2の半導体領域上に形成された第3の電極と、
を具備することを特徴とする半導体装置。 - 第1の主面と第2の主面を有する第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の前記第1の主面上に形成された第1導電型の第1の低濃度半導体層と、
前記第1の低濃度半導体層の上に形成された第1導電型の第2の低濃度半導体層と、
前記第2の低濃度半導体層の上に形成された第1導電型の第3の低濃度半導体層と、
前記第3の低濃度半導体層の表面の島状領域の頂部に形成された第1導電型の第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域の周囲を取り囲むように形成され、前記第1の半導体領域よりも深く前記第3の低濃度半導体層を貫通するように埋め込み形成された第1の電極と、
前記半導体基板の前記第2の主面上に形成された第2の半導体領域と、
前記第1の電極の底面とこの底面に対向する前記第2の半導体領域の間に介在する前記第2の低濃度半導体層に前記第1の電極と離間して形成され、第2導電型の第1の電界緩和層と、前記第1の電界緩和層の両端に形成された第1導電型の第2の電界緩和層とからなる埋込電界緩和層と、
前記第1の主面の前記第1の半導体領域上に形成された第2の電極と、
前記第2の主面の前記第2の半導体領域上に形成された第3の電極と、
を具備する半導体装置。 - 前記第1の半導体領域の側面と前記第1の電極の間、前記低濃度半導体層若しくは前記第3の低濃度半導体層と前記第1の電極の間に形成された第1の絶縁膜を更に具備することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第1の電界緩和層と前記第2の電界緩和層の少なくとも1つが前記第1の電極に前記第1の絶縁膜を介して接触していることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第1の電極の側面と前記第1の半導体領域、前記第1の電極の側面と前記低濃度半導体層若しくは第3の低濃度半導体層の間に形成された第2の絶縁膜と、前記第1の電極の底面と前記低濃度半導体層若しくは第2の低濃度半導体層の間に形成された第2導電型の第1の不純物層をさらに具備することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体領域と前記第1の電極及び前記低濃度半導体層若しくは前記第3の低濃度半導体層と前記第1の電極との間に形成された第2導電型の第2の不純物層を具備することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第1の電極は、第2導電型の第3の不純物層若しくは金属からなる請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体領域は、その両端に第2導電型の第4の不純物層を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の電界緩和層と前記第2の電極を結ぶ第3の半導体領域をさらに具備することを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第2の電界緩和層の不純物濃度は、前記低濃度半導体層若しくは前記第2の低濃度半導体層の不純物濃度よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1の電極に取り囲まれた前記低濃度半導体層の柱状領域の上面に垂直方向の柱状領域中央部を横切るように設けられた第2導電型の第4の半導体領域をさらに具備することを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005000796A JP4564362B2 (ja) | 2004-01-23 | 2005-01-05 | 半導体装置 |
US11/038,043 US6969887B2 (en) | 2004-01-23 | 2005-01-21 | Semiconductor device |
US11/230,492 US7368783B2 (en) | 2004-01-23 | 2005-09-21 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004015944 | 2004-01-23 | ||
JP2005000796A JP4564362B2 (ja) | 2004-01-23 | 2005-01-05 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005236267A JP2005236267A (ja) | 2005-09-02 |
JP4564362B2 true JP4564362B2 (ja) | 2010-10-20 |
Family
ID=34797785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005000796A Expired - Fee Related JP4564362B2 (ja) | 2004-01-23 | 2005-01-05 | 半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6969887B2 (ja) |
JP (1) | JP4564362B2 (ja) |
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---|---|
US6969887B2 (en) | 2005-11-29 |
JP2005236267A (ja) | 2005-09-02 |
US20050161732A1 (en) | 2005-07-28 |
US7368783B2 (en) | 2008-05-06 |
US20060011973A1 (en) | 2006-01-19 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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