JP4520787B2 - 半波長以下リソグラフィ模様付けの改良型散乱バーopc適用方法 - Google Patents
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Description
− この特別なケースでは放射線ソースLAも備えた、放射線の投影ビームPBを供給する放射線ソースEx、ILと、
− マスクMA(例えばレクチル)を保持するマスクホルダを備え、かつ、品目PLに対して正確にマスクの位置決めを行う第一位置決め手段PMに連結を行った第一オブジェクトテーブル(マスクテーブル)MTと、
− 基板W(例えばレジストを塗布したシリコンウェハ)を保持する基板ホルダ2を備え、かつ、品目PLに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め手段PWに連結を行った第二オブジェクトテーブル(基板テーブル)WTと、
− マスクMAの照射部分を、基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に描像する投影システム(「レンズ」)PLとにより構成されている。
− ステップモードにおいては、マスクテーブルMTは基本的に静止状態に保たれている。そして、マスクの像全体が1回の作動(すなわち1回の「フラッシュ」)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBにより照射され得る。
− 走査モードにおいては、基本的に同一シナリオが適用されるが、但し、ここでは、所定の目標部分Cは1回の「フラッシュ」では露光されない。代わって、マスクテーブルMTが、速度vにて所定方向(いわゆる「走査方向」、例えばy方向)に運動可能であり、それによってビームPBがマスクの像を走査する。これと同時に、基板テーブルWTが速度V=Mvで、同一方向あるいは反対方向に運動する。ここで、MはレンズPLの倍率(一般的にM=1/4あるいは1/5)である。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きな目標部分Cを露光することが可能となる。
Claims (18)
- 描像すべき形態と、光学的近位補正形態とを備えるマスクを形成する方法で、
第一方向に延在する第一補助形態と第二方向に延在する第二補助形態とを形成するステップであって、前記描像すべき形態の隅形態に隣接して、前記第一補助形態と前記第二補助形態とを相互に交差させるステップと、
前記第一補助形態と前記第二補助形態とが少なくとも交差しなくなるまで、前記第一補助形態と前記第二補助形態のそれぞれの端部を引き戻すステップと、
前記第一補助形態を前記第二補助形態に接続する面取り補助形態を形成するステップとを含み、
前記面取り補助形態が、前記第一補助形態および前記第二補助形態との両方に対してある角度で配置される方法。 - 前記面取り補助形態が、前記第一補助形態の主軸、および前記第二補助形態の主軸に対して約45°の角度で配置された主軸を有する、請求項1に記載のマスク形成方法。
- 前記面取り補助形態が三角形の形状を有する、請求項1に記載のマスク形成方法。
- 前記面取り補助形態が、ほぼ45°、45°および90°の角度を有する直角三角形を形成する形状を有する、請求項3に記載のマスク形成方法。
- 前記面取り補助形態が台形の形状を有する、請求項1に記載のマスク形成方法。
- 描像すべき形態と、光学的近位補正形態とを備えるマスクを形成する方法で、
それぞれが第一方向に延在する複数の第一補助形態とそれぞれが第二方向に延在する複数の第二補助形態を形成するステップであって、前記描像すべき形態の隅形態に隣接して、前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態とを相互に交差させるステップと、
前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態とが少なくとも交差しなくなるまで、前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態のそれぞれの端部を引き戻すステップと、
それぞれが前記第一補助形態の一つを前記複数の第二補助形態の一つに接続する複数の面取り補助形態を形成するステップとを含み、
前記面取り補助形態がそれぞれ、前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態との両方に対してある角度で配置される方法。 - 前記複数の第一補助形態の少なくとも一部、前記複数の第二補助形態の少なくとも一部、および前記面取り補助形態の少なくとも一部が、描像すべき形態をほぼ囲むように配置構成される、請求項6に記載のマスク形成方法。
- 前記複数の面取り補助形態がそれぞれ、前記複数の第一補助形態それぞれの主軸、および前記複数の第二補助形態それぞれの主軸に対して約45°の角度配置された主軸を有する、請求項6に記載のマスク形成方法。
- 前記複数の面取り補助形態がそれぞれ、三角形の形状および台形の形状のうち少なくとも一つを有する、請求項6に記載のマスク形成方法。
- 少なくとも1つの機械で読み取り可能な媒体によって転送することができる実行可能なコードを備えるプログラム製品で、少なくとも1つのプログラム可能なコンピュータでコードを実行すると、少なくとも1つのプログラム可能なコンピュータが、前記マスクに形成された模様を基板に光学的に転送するために、描像すべき形態と光学的近位補正形態とを備えるマスクを形成するステップのシーケンスを実行し、前記ステップが、
第一方向に延在する第一補助形態と第二方向に延在する第二補助形態とを形成することであって、前記描像すべき形態の隅形態に隣接して、前記第一補助形態と前記第二補助形態とを相互に交差させることと、
前記第一補助形態と前記第二補助形態とが少なくとも交差しなくなるまで、前記第一補助形態と前記第二補助形態のそれぞれの端部を引き戻すことと、
前記第一補助形態を前記第二補助形態に接続する面取り補助形態を形成することとを含み、
前記面取り補助形態が、前記第一補助形態および前記第二補助形態との両方に対してある角度で配置されるプログラム。 - 前記面取り補助形態が、前記第一補助形態の主軸、および前記第二補助形態の主軸に対して約45°の角度で配置された主軸を有する、請求項10に記載のプログラム。
- 前記面取り補助形態が三角形の形状を有する、請求項10に記載のプログラム。
- 前記面取り補助形態が、ほぼ45°、45°および90°の角度を有する直角三角形を形成する形状を有する、請求項11に記載のプログラム。
- 前記面取り補助形態が台形の形状を有する、請求項12に記載のプログラム。
- 少なくとも1つの機械で読み取り可能な媒体によって転送することができる実行可能なコードを備えるプログラム製品で、少なくとも1つのプログラム可能なコンピュータでコードを実行すると、少なくとも1つのプログラム可能なコンピュータが、前記マスクに形成された模様を基板に光学的に転送するために、描像すべき形態と光学的近位補正形態とを備えるマスクを形成するステップのシーケンスを実行し、前記ステップが、
それぞれが第一方向に延在する複数の第一補助形態と、それぞれが第二方向に延在する複数の第二補助形態とを形成することであって、前記描像すべき形態の隅形態に隣接して、前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態とを相互に交差させることと、
前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態とが少なくとも交差しなくなるまで、前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態のそれぞれの端部を引き戻すことと、
それぞれが前記第一補助形態の一つを前記複数の第二補助形態の一つに接続する複数の面取り補助形態を形成することとを含み、
前記面取り補助形態がそれぞれ、前記複数の第一補助形態と前記複数の第二補助形態との両方に対してある角度で配置され、
前記複数の第一補助形態の少なくとも一部、前記複数の第二補助形態の少なくとも一部、および前記面取り補助形態の少なくとも一部が、前記描像すべき形態をほぼ囲むように配置構成されるプログラム。 - 描像すべき形態と、光学的近位補正形態とを備えるマスクを形成する方法で、
第一方向に延在する第一補助形態と前記第一方向に平行な方向に延在する第二補助形態とを形成するステップと、
前記第一補助形態を前記第二補助形態に接続する面取り補助形態を形成するステップとを含み、
前記面取り補助形態が、前記第一補助形態と前記第二補助形態との両方に対してある角度で配置される方法。 - 前記面取り補助形態が、前記第一補助形態の主軸、および前記第二補助形態の主軸に対して約45°の角度で配置された主軸を有する、請求項16に記載のマスク形成方法。
- 前記面取り補助形態が台形の形状を有する、請求項16に記載のマスク形成方法。
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