JP2007240949A - マスクデータ作成方法及びマスク - Google Patents
マスクデータ作成方法及びマスク Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007240949A JP2007240949A JP2006064224A JP2006064224A JP2007240949A JP 2007240949 A JP2007240949 A JP 2007240949A JP 2006064224 A JP2006064224 A JP 2006064224A JP 2006064224 A JP2006064224 A JP 2006064224A JP 2007240949 A JP2007240949 A JP 2007240949A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- auxiliary
- line
- auxiliary pattern
- opc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/36—Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
- G03F1/32—Attenuating PSM [att-PSM], e.g. halftone PSM or PSM having semi-transparent phase shift portion; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【課題】 最近の超解像技術をもちいるリソグラフィ技術においては付加されるOPCの補正量が大きく、OPC補正前に配置される補助パターンとの間隔が適切でなくなるという問題が発生している。そのため最適な補助パターンと、OPCパターンが得られないという問題がある。
【解決手段】 本発明のマスクデータの作成方法においては、デバイスパターンに補助パターンを配置する際に、デバイスパターン先端部分は他の部分と異なる配置ルールとする。デバイスパターン先端等のOPC処理で大きく補正の掛かる部分は、補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くする。デバイスパターン先端における補助パターンとの間隔をデバイスパターンの長辺における補助パターンとの間隔より広くすることで、OPC後のデバイスパターンと補助パターンの間隔を適切な範囲とすることができる。最適な補助パターンとOPCパターンが得られる。
【選択図】 図5
【解決手段】 本発明のマスクデータの作成方法においては、デバイスパターンに補助パターンを配置する際に、デバイスパターン先端部分は他の部分と異なる配置ルールとする。デバイスパターン先端等のOPC処理で大きく補正の掛かる部分は、補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くする。デバイスパターン先端における補助パターンとの間隔をデバイスパターンの長辺における補助パターンとの間隔より広くすることで、OPC後のデバイスパターンと補助パターンの間隔を適切な範囲とすることができる。最適な補助パターンとOPCパターンが得られる。
【選択図】 図5
Description
本発明は半導体装置を製造するときのリソグラフィ工程に用いられるマスクに係り、特に補助パターンを有するマスクにおけるマスクデータ作成方法およびそのマスクに関する。
半導体装置の高集積化にともない、素子パターンの微細化が進んでいる。例えば、ダイナミック型ランダムアクセスメモリ(以下、DRAMと称する。)においては、最小寸法100nm以下、1ギガビットの容量の製品が実用化されている。この微細化の牽引力の一つが光リソグラフィ技術である。
光リソグラフィの分野では、近年の超解像技術の適用により波長の1/2以下の微細パターンの形成が可能となってきた。特に密集パターン(例えばライン・アンド・スペースパターン:ラインとスペースの一定ピッチの繰り返しパターン、以下L/Sパターンと略す)では、斜入射照明法の適用により十分な焦点深度が得られるようになっている。斜入射照明法とはマスク照明光のうち垂直入射成分をカットして、マスクを斜め入射で照明する方法である。通常の結像状態は、マスクパターンからの0次回折光と±1次回折光の3光束を投影レンズで集めている(3光束干渉の結像)。
これに対して斜入射照明では±1次回折光の一方を捨てて(投影レンズに入らずカットされ)、0次光と±1次回折光の片方の2光束で像を形成する(2光束干渉の結像)。3光束干渉と2光束干渉の結像状態をベストフォーカスで比較すると、±1次回折光の一方を捨てている分、2光束干渉の方がコントラストは低下する。しかし、結像面(半導体基板)上での入射角度を考えると、2光束干渉の結像は3光束干渉の1/2になっている。そのため、焦点がずれた時の像のぼけ方は小さくなり、広い焦点範囲でレジストパターンの形成に十分な光強度分布を得ることができる。
また、ハーフトーン位相シフトマスクを用いるとさらに焦点深度(レジストパターンが得られる焦点範囲)を拡大できることが知られている。ハーフトーン位相シフトマスクとは、遮光領域であるマスク上パターンを半透明領域で形成し2〜20%程度の光を漏らしかつその漏れた光と周辺の透明領域の光と位相を180度反転させた位相シフトマスクである。回折光の生じるライン・アンド・スペースパターンであれば、ハーフトーンマスクにして、かつ斜入射照明を用いると、0次回折光と+1次(あるいは−1次)回折光とのバランスが改善されてコントラストが向上する。
しかし、これらの手法は回折光の生じない孤立パターンには変形照明法の効果は少なく焦点深度はあまり拡大しない。反対に、孤立パターンの焦点深度を拡大するには、低NA化や小σ化(照明光学系の低NA化:マスクを垂直成分に近い光にみで照明すること)の方が効果は高い。そして、ハーフトーン位相シフトマスクを用いる場合にも、小σ照明の方が焦点深度は向上する。これら孤立パターンの焦点深度を拡大する条件は、いずれも密集パターンの解像度を下げる結果となってしまう。そのため、密集した微細パターンと孤立パターンの露光特性を両立させるのが困難となっていた。そこで、補助パターンと呼ばれるそれ自体は解像しない微細パターンを用いる手法が、密集パターンと孤立パターンの焦点深度を両立させるため検討されてきた。
補助パターンに関しては、例えば特許文献1(特開平4−268714)に示されている。特許文献1では、斜入射照明を用いて微細ホールパターンおよびスリットパターンを形成する際に、補助パターンを配置することで周期パターンに近づき、焦点深度が拡大することが示されている。また、ラインパターンにおいても同様の効果があることも示されている。補助パターンを配置したマスクを変形照明条件下で用いることにより、2光束干渉の結像状態に近づき、焦点深度が拡大する。補助パターンの配置においては、その位置および寸法がデバイスパターンの焦点深度に影響する。補助パターンとメインパターンの間隔の最適値は、それらの寸法および用いられる光学条件により異なるが、光学条件の限界解像寸法(形成できるL/Sパターンのピッチの1/2)以上からその1.5倍程度が適切な範囲となっている。
また、特許文献2(特開平5−002261)においては、斜入射照明とハーフトーン位相シフトマスクを組み合わせることにより、2光束での結像状態のコントラスト低下を改善できることが示されている。2光束結合では“+”あるいは“−”の一方をカットしているため、平均の明るさの情報を持った0次回折光が、ピッチの情報を持った+1(あるいは−1)次回折光に比べ相対的に強くなりすきとなってしまう。そのため、光強度分布ではピーク/ボトムの振幅の大きさが平均値にくらべて小さくなることになり、光強度のコントラストが低下する。ハーフトーン位相シフトマスクを用いることで、0次回折光の強さを小さくすることができ、0次と+1次(あるいは−1次)の強さを適切に調節し、光強度のコントラストを改善することができる。
さらに解像度を向上させるために下記特許文献がある。特許文献3(特開平3−071133)では、孤立パターンに隣接した位相変換層からなる補助パターンが使用されている。特許文献4(特開平6−242594)では、孤立パターンからの距離Sに、最小線幅P/2以下の幅SWの補助パターンをP/2<S<(P−SW)の関係を満足させるように配置している。特許文献5(特開2004−348118)ではホールパターンに対する補助パターンが開示されている。しかし、微細化が進んだ現在の光リソグラフィにおいては、これらの補助パターンとOPC(Optical Proximity Correction)との両者が同時に採用されている。微細化パターンを実現するために、補助パターンとOPCとの両者を最適化する方法が求められているという問題がある。
マスクデータの作成方法としては、デバイスパターンが入力されたCADデータに対し補助パターンが配置され、その後OPCの補正が行われる。補助パターンの配置方法は、まずすべてのデバイスパターンの辺に対して、あらかじめ決められたルールに従い補助パターンを発生させ、その後補助パターンとデバイスパターンおよび補助パターン同士が近接した箇所を消去するという手順が一般的である。そして、補助パターンが配置されたデバイスパターンに対してOPCを行い、半導体基板上に転写されるパターンが所望の寸法となるような最終的なマスクデータを作成している。
OPCは主にルールベースとモデルベースと呼ばれる方法に分けられる。現在は、モデルベースOPCが一般的になっている。モデルベースOPCではデバイスパターンの辺を分割し、各分割した辺に評価ポイントを設定し、シミュレーションを行いそのポイントがウエハ上に転写された際の寸法を求める。そして、各評価パターンが所望の寸法になるようにおのおのの分割された辺を移動させる。よって、マスクを作成する最終的なデータでは、デバイスパターンと補助パターンの間隔はOPC処理で変化していた。特にラインパターンの先端は半導体基板上に転写する際に細り易い箇所のため、OPCの補正量が大きく付加される。そのため、OPC補正前に配置される補助パターンとの間隔が小さくなりすぎ、適切でなくなる場合が発生している。
輪帯照明や位相シフトマスク等の超解像技術を用いない場合には、補助パターンを配置するだけで外周のパターンを所望の寸法に形成できる。そのため、補助パターン配置後のデータにOPCを行ってもライン先端の補正は僅かしか付かないため、補助パターンとの間隔もあまり変わらす、ライン先端を考慮する必要は無かった。しかし、光リソグラフィの延命のため、斜入射照明等の超解像技術を用いると外周パターンの細りおよびラインエンドの縮みが極端に増大するようになる。そのため最近の超解像技術を用いると付加されるOPCの補正量が大きく、OPC補正前に配置される補助パターンとの間隔が適切でなくなるという問題が発生している。そのため最適な補助パターンと、OPCパターンが得られないという問題がある。
本発明の目的は、これらの問題に鑑み、最適な補助パターンとOPCパターンが得られるマスクデータ作成方法およびマスクを提供することにある。本発明によれば、デバイスパターンに補助パターンを配置する際に、デバイスパターン先端部分は他の部分と異なる配置ルールとする。デバイスパターン先端等のOPC処理で大きく補正の掛かる部分は、補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くする。すなわちデバイスパターンの辺に配置する補助パターンの間隔よりデバイスパターン先端に配置される補助パターンの間隔を広くする。このように補助パターンの間隔を異ならせることで、OPC後のデバイスパターンと補助パターンの間隔を適切な範囲とすることができる。この補助パターン配置により最適な補助パターンと、最適なOPCパターンが得られる。
本願は上記した課題を解決するため、基本的には下記に記載される技術を採用するものである。またその技術趣旨を逸脱しない範囲で種々変更できる応用技術も、本願に含まれることは言うまでもない。
本発明のマスクデータ作成方法は、デバイスパターンに隣接して補助パターンを配置する補助パターン配置工程と、OPC処理を行うOPC工程とを有し、前記補助パターン配置工程においては前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンと前記デバイスパターンの短辺との間隔を、前記デバイスパターンの長辺に対して配置される補助パターンと前記デバイスパターンの長辺との間隔より広くすることを特徴とする。
本発明のマスクデータ作成方法においては、前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、短辺の寸法により異なることを特徴とする。
本発明のマスクデータ作成方法においては、前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、テーブルルックアップ手法として短辺の寸法により予め決められたことを特徴とする。
本発明のマスクデータ作成方法においては、前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、最小寸法以上、最小寸法の1.6倍以下であることを特徴とする。
本発明のマスクデータ作成方法においては、前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、補助パターン無しでOPC処理したときのOPCパターン位置からさらに最小分離寸法離すことを特徴とする。
本発明のマスクは、上記したいずれか1つに記載されたマスクデータ作成方法により作成されたことを特徴とする。
本発明においてはデバイスパターンに補助パターンを配置する際に、デバイスパターン先端部分は他の部分と異なる配置ルールとする。デバイスパターン先端等のOPC処理で大きく補正の掛かる部分は、補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くする。すなわちデバイスパターンの長辺に配置する補助パターンの間隔よりデバイスパターン先端(短辺)に配置される補助パターンの間隔を広くする。このように補助パターンの間隔を異ならせることで、OPC後のデバイスパターンと補助パターンの間隔を適切な範囲とすることができる。この補助パターン配置により最適な補助パターンと、最適なOPCパターンが得られる効果がある。最適な補助パターンとOPCパターンを配置することで焦点深度を拡大させ、デフォーカスした際の寸法変化が小さくできる。その結果微細化に適したマスクデータ作成方法及びその作成方法で製作されたマスクが得られる。
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
本発明の実施例1について、図1〜図7を参照して詳細に説明する。図1にラインパターンとOPCパターンとのパターン図、図2にはラインパターンと補助パターンとの間隔120nmにおいてOPC処理したパターン図を示す。図3にラインパターン幅180nm、ラインパターンと補助パターンとの間隔120nmにおいてOPC処理した場合の線X上の光強度分布、図4にはラインパターン幅220nm、ラインパターン短辺と補助パターンとの間隔120nmにおいてOPC処理した場合の線X上の光強度分布を示す。図5にはラインパターン幅120nm、ラインパターン短辺と補助パターン間隔150nmにおいてOPC処理した場合のパターン図を示す。図6にラインパターン幅120nm、ラインパターンと補助パターンとの間隔120nmにおいてOPC処理した場合の線X上の光強度分布、図7にはラインパターン幅120nm、ラインパターン短辺と補助パターンとの間隔150nmにおいてOPC処理した場合の線X上の光強度分布を示す。
本実施例では、100nmのライン・アンド・スペースをKrF(波長248nm)露光で形成するため、開口数(NA)=0.85、コヒーレント・ファクター(σ)=0.85の遮光率=3/4の輪帯照明を用いるものとして説明する。そして、補助パターンを配置する孤立パターンの寸法は、100nmから400nmとする。また、マスクは透過率6%、位相差180度のハーフトーン位相シフトマスクを用いるとして説明する。ここでは最小寸法は100nmとする。最小寸法とは量産的にも、十分な焦点深度で形成できるL/Sパターンのピッチの1/2である。
表1に補助パターンを配置せずにOPC処理を行った場合の補正量を示す。OPCのしきい値(レジスト形状を求める際の光強度)は100nmのライン・アンド・スペースパターンが寸法どおりとなるように設定した。パターンはライン寸法を最小寸法100nmから400nm、長さ5000nmの孤立パターンとした。OPC処理ではパターンを細かな辺(セグメント)に分割し、そのセグメントの中央にターゲットポイントを設ける。ターゲットポイントで光強度を計算して、ターゲットポイントが設計の位置になるようにセグメントの位置を移動させる。本実施例では最小線幅100nmですので、先端のセグメントとしてL=150nmに設定した。
図1に示すようにライン先端においてはラインの細りが大きいため、補正量はライン先端(短辺)の補正量Δ1と長辺中央分の補正量Δ2及び先端(長辺)の補正量Δ3に分けて表示している。ライン先端部の短辺に対する補正量Δ1は大きく、順にライン先端部の長辺に対する補正量Δ3、ライン長辺中央分の補正量Δ2と小さくなっている。また図1においては先端部として片方のみOPCパターンを示しているが、図示していないが他方の先端にも同様にOPCパターンがある。以下の図においても反対側のパターンは省略することがある。以下の説明においてはデバイスパターンの長辺を単に辺、先端の短辺を単に先端とも称する。
次に、図2に示すようにラインパターンに補助パターンを暫定的に配置させて、OPC処理を行う。補助パターンの寸法は、補助パターン自体は転写されないように60nm幅、長さはラインパターンよりも長くした。また、補助パターンとラインパターンとの間隔は、最小寸法の100nmのライン・アンド・スペースのピッチ200nmと同じピッチになるように120nmと設定した。そして、補助パターンはライン左右および上下の先端にも配置した。表2に補助パターンをラインパターンとの間隔120nmに配置した場合のOPC処理による補正量を示す。補正量はライン先端(短辺)の補正量Δ1と長辺中央分の補正量Δ2に分けて表示している。図1における先端(長辺)の補正量Δ3は説明を簡略にするために以下省略する。
ラインパターンの辺では補助パターン配置により設計寸法に近づき、OPCでの補正量Δ2が大幅に低下している。一方、細いライン先端では補助パターンを付加しても、寸法がほとんど変化せず、OPC処理にて大きな補正量Δ1を付加しないと設計どおりの形状が得られないことがわかる。そのためにライン幅100nmのライン先端においては、補助パターンとOPCパターンの間隔は120−54=66nmと非常に小さな値となり、不適切な寸法となってしまう。
図3および図4に表2の幅180nmおよび220nmのライン先端の光強度分布を示す。図2のX軸上の光強度分布であり、ライン先端のエッジがX=0で、X座標のマイナス側がラインパターン内、プラス側がパターン外としている。ライン幅180nm及び220nmにおける補助パターンとOPCパターンの間隔は93nm及び99nmとなる。図3に示すライン寸法180nmの光強度分布ではラインパターンと補助パターンの像が分離できていない。一方、図4に示すライン寸法220nmの光強度分布ではラインパターンの暗部と補助パターンの暗部の間にピークが出て、2つのパターンが分離できている。ラインパターンと補助パターンとの間にピークがあり、2つのパターンが分離される最小のラインパターンと補助パターンとの間隔を分離最小寸法と称する。間隔93nmの場合には2つのパターンは分離されていず、間隔99nmでは分離されていることから分離最小寸法は約95nmとなる。
図3のようにラインパターンと補助パターンが光強度分布で分離できていなければ、周期パターンに近づけてデフォーカス時の寸法変化を低減させるという補助パターンを配置する目的が達成できないことになる。よって補助パターンを配置してOPC処理をした際に、ラインパターンと補助パターンの間隔は最小分離寸法である95nm以上確保する必要がある。しかしここでは最小寸法100nmを確保することにする。表2に示すライン先端の補正量を10nmの単位で切り上げ、それを最小寸法100nmに足した値を、ライン先端への補助パターンを配置する間隔(D)とする。表3に本発明でのライン先端への補助パターン配置の際の各ライン寸法での間隔(D)を示す。この間隔(D)は十分な焦点深度で安定的に形成できる最小寸法(ここでは100nm)以上から、その1.6倍程度となっている。
図5には幅120nmの孤立ライン先端部から間隔(D)150nmの位置に補助パターンを配置し、幅400nmでは間隔(D)110nmの位置に補助パターンを配置している。このように細いライン寸法では先端部の補助パターンを対象パターンからより大きな距離を離して配置してOPC処理を行う。このようにライン先端の補助パターンを配置した後に、OPC処理を行った際の補正量を表4に示す。補正量はライン先端(短辺)の補正量Δ1と長辺中央分の補正量Δ2に分けて表示している。
次に、本発明のマスクデータ作成方法により作成したマスクの効果について説明する。図6および図7に120nmライン先端の光強度分布を示す。図6は図2に示すようにライン先端も長辺側と同様に120nmの間隔で補助パターンを配置してOPC処理を行った場合である。また、図7は図5に示すようにライン先端から150nmの間隔で補助パターンを配置した場合である。図7に示すように補助パターンを配置する間隔を広げることでラインパターンと補助パターンの像が分離できる。これによってOPC後の光強度分布を周囲パターンに近づけることが出来ている。
補助パターンをライン先端から120nmの間隔で補助パターンを配置した場合、デフォーカス=0.1/0.2μmの場合のライン端の縮は13/57nmとなる。一方、ライン先端から150nmの間隔で補助パターンを配置した場合、デフォーカス=0.1/0.2μmでのライン端縮は9/49nmであった。ここではライン端の縮は次のようにして測定した。最初にデフォーカス=0μmの光強度波形においてライン端X=0の光強度(I)を読み取る。次にデフォーカス状態で光強度を測定し、この波形から光強度(I)となるX位置を読み取る。このX位置の変化がライン端の縮となる。
デフォーカス=0.1/0.2μmのいずれの場合のパターン先端の縮は、ライン先端からの間隔120nmよりも、間隔150nmの状態が小さい。ライン先端からの間隔150nmに補助パターンを配置し、OPC処理した場合がデフォーカス時の寸法変化を低減できることになる。このようにライン先端の光強度分布を周期パターンに近づけることで、デフォーカス時の寸法変化を低減できる。
一般的には図2及び表2に示すようにライン長辺、短辺とも同じ距離に補助パターンが配置される。本発明においては、ライン長辺、短辺に対し配置される補助パターンの間隔を異ならせる。ライン短辺に対する補助パターンを配置する間隔をライン長辺に対する間隔よりも大きくする。補助パターンを遠くに配置してOPCを実行した場合の補正量は表2の補正量Δ1より大きくなる。そのために最低確保したい最小分離寸法(95nm)より大きい最小寸法(100nm)を加算し、表3の距離とする。
またこのライン短辺に対して配置する補助パターンの間隔は、次の方法により求めることもできる。その方法としては、表1に示す補助パターンを配置せずにOPC処理を行った場合の補正量Δ1を用いる方法である。補助パターンが無い場合のOPC補正量は、補助パターンを配置した場合の補正量より必ず大きい。この補正量Δ1に最低限必要な最小分離寸法(95nm)を加えた値をライン先端(短辺)の補助パターンの配置間隔とすることも出来る。
本実施例においては、デバイスパターンに補助パターンを配置する際に、ラインパターン先端部分は他の部分と異なる配置ルールとする。ラインパターン先端等のOPC処理で大きく補正の掛かる部分は、補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くする。長辺側の補助パターンの間隔よりライン先端の短辺に配置される補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くすることで、OPC後のデバイスパターンと補助パターンの間隔を適切な範囲にできる。この補助パターン配置により最適な補助パターンと、最適なOPCパターンが得られる。最適な補助パターンとOPCパターンを配置することで焦点深度を拡大させ、デフォーカスした際の寸法変化が小さくできる。その結果微細化に適したマスクデータ作成方法及びその作成方法で製作されたマスクが得られる。
実施例2として図8、9、10、11を参照して説明する。本実施例はスリットパターンに適用した実施例である。図8にスリットパターンと補助パターンのパターン図、図9にはスリットパターンと補助パターン及びOPCパターンのパターン図を示す。図10にスリットパターン短辺と補助パターン間隔145nmにおける線X上の光強度分布、図11にはスリットパターン短辺と補助パターン間隔115nmにおける線X上の光強度分布を示す。
本実施例においても実施例1と同様に、KrFエキシマレーザー(波長248nm)を用いる光リソグラフィを用いている。その光学条件は、開口数(NA)=0.85、コヒーレント・ファクター(σ)=0.85の遮光率=3/4の輪帯照明を用いる。また、マスクは透過率6%、位相差180度のハーフトーン位相シフトマスクを用いるものとして説明する。
図8に、短辺140nm/長辺420nmのスリットパターン11に対する補助パターン12の配置を示す。補助パターン12は幅70nmの微細スリットとした。長辺に対する補助パターン12は、スリットパターン11と補助パターン12のピッチが220nmとなるように、間隔は115nmとした。一方、先端の短辺に対する補助パターンは長辺より30nm間隔を広くし、145nm間隔で配置した。図9に図8に示す補助パターン付きデータにOPC処理を行った結果を示す。スリットパターンにおいてもパターン先端部のOPC処理による補正量が大きい。そのためスリットパターン先端部には、大きなOPCパターン13が付加されている。
スリットパターン11に対するOPCパターン13の概略を説明する。図1と同様にスリット先端(短辺)においては細りが大きいため、スリット先端の補正量は大きい。スリット先端の140nmをセグメントとし、この先端の補正量を大きくする。図9に示すように各部における補正量を、先端の補正量△1、長辺中央分の補正量Δ2、長辺端部分の補正量Δ3とする。補助パターンなしの場合には補正量Δ1=47nm、Δ2=―6nm、Δ3=―4nmとなる。スリットパターンと補助パターンとの間隔を短辺、長辺とも等間隔115nmの場合には補正量Δ1=44nm、Δ2=―10nm、Δ3=―12nmとなる。スリットパターンと補助パターンとの間隔を短辺145nm、長辺115nmの場合には補正量Δ1=32nm、Δ2=―11nm、Δ3=―10nmとなる。
このOPC後のマスクデータの光強度分布を図10、図11に示す。図9の線X上での光強度分布を示しており、スリットパターン11のセンターが位置X=0となっている。図10にはスリットパターンと補助パターンとの間隔を短辺145nm、長辺115nmの場合の光強度分布、図11にはスリットパターンと補助パターンとの間隔を短辺、長辺とも115nmの場合の光強度分布を示している。図11のスリットパターンと補助パターンとの間隔を短辺115nmの場合には、OPCデータと補助パターンの間隔は71nmであり、分離最小寸法以下となっている。図10に示す光強度分布は図11に比べ、光強度分布にボトム/ピークの振幅が発生し、周期パターンに近づいていることが分かる。そのため実施例1のラインパターンと同様に、デフォーカスした際の寸法変化が小さくなるという効果が得られる。
本実施例はデバイスパターンとしてスリットパターンを用いた実施例である。スリットパターンに補助パターンを配置する際に、スリットパターン先端部分は他の部分と異なる配置ルールとする。スリットパターン先端等のOPC処理で大きく補正の掛かる部分は、補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くする。長辺側の補助パターンの間隔よりライン先端に配置される補助パターンとデバイスパターンの間隔を広くすることで、OPC後のデバイスパターンと補助パターンの間隔を適切な範囲とすることができる。この補助パターン配置により最適な補助パターンと、最適なOPCパターンが得られる。最適な補助パターンとOPCパターンを配置することで焦点深度を拡大させ、デフォーカスした際の寸法変化が小さくできる。その結果微細化に適したマスクデータ作成方法及びその作成方法で製作されたマスクが得られる。
以上本願発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変更して実施することが可能であり、本願に含まれることはいうまでもない。例えば上記説明は、KrFエキシマレーザー(波長248nm)を用いる光リソグラフィついて説明したが、露光波長はArF(193nm)あるいは水銀ランプのI線(波長365nm)等他の波長でも同様に適用出来る。また、マスクタイプとしてはハーフトーン位相シフト以外にも、他の位相シフトマスクあるいは遮光マスクにも同様に適用出来る。また、透過型以外にも反射型のマスクでも同様に適用することが出来る。
1 ラインパターン
11 スリットパターン
2、12 補助パターン
3、13 OPCパターン
11 スリットパターン
2、12 補助パターン
3、13 OPCパターン
Claims (6)
- マスクデータ作成方法において、デバイスパターンに隣接して補助パターンを配置する補助パターン配置工程と、OPC処理を行うOPC工程とを有し、前記補助パターン配置工程においては前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンと前記デバイスパターンの短辺との間隔を、前記デバイスパターンの長辺に対して配置される補助パターンと前記デバイスパターンの長辺との間隔より広くすることを特徴とするマスクデータ作成方法。
- 前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、短辺の寸法により異なることを特徴とする請求項1に記載のマスクデータ作成方法。
- 前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、テーブルルックアップ手法として短辺の寸法により予め決められたことを特徴とする請求項1に記載のマスクデータ作成方法。
- 前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、最小寸法以上、最小寸法の1.6倍以下であることを特徴とする請求項1に記載のマスクデータ作成方法。
- 前記デバイスパターンの短辺に対して配置される補助パターンとの間隔は、補助パターン無しでOPC処理したときのOPCパターン位置からさらに最小分離寸法離すことを特徴とする請求項1に記載のマスクデータ作成方法。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のマスクデータ作成方法により作成されたことを特徴とするマスク。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006064224A JP2007240949A (ja) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | マスクデータ作成方法及びマスク |
US11/715,463 US7681173B2 (en) | 2006-03-09 | 2007-03-08 | Mask data generation method and mask |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006064224A JP2007240949A (ja) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | マスクデータ作成方法及びマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007240949A true JP2007240949A (ja) | 2007-09-20 |
Family
ID=38479329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006064224A Pending JP2007240949A (ja) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | マスクデータ作成方法及びマスク |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7681173B2 (ja) |
JP (1) | JP2007240949A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100895938B1 (ko) | 2007-12-27 | 2009-05-07 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 마스크 제작 방법 |
JP2010026416A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Fujitsu Microelectronics Ltd | フォトマスクパターンの作成方法 |
KR101087874B1 (ko) | 2009-06-29 | 2011-11-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 광학 근접 효과 보상 방법 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007240949A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Elpida Memory Inc | マスクデータ作成方法及びマスク |
CN103186030B (zh) * | 2011-12-27 | 2015-07-01 | 无锡华润上华科技有限公司 | 光学邻近修正方法 |
US9009633B2 (en) * | 2013-05-06 | 2015-04-14 | United Microelectronics Corp. | Method of correcting assist feature |
CN104423172A (zh) * | 2013-08-27 | 2015-03-18 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 一种散射条模拟成像的检测方法 |
KR102343850B1 (ko) | 2015-05-06 | 2021-12-28 | 삼성전자주식회사 | 광 근접 보정에서 공통의 바이어스 값을 이용하여 마스크를 제작하는 방법 |
JP6964029B2 (ja) * | 2017-06-06 | 2021-11-10 | Hoya株式会社 | フォトマスク、及び、表示装置の製造方法 |
CN114578650A (zh) * | 2020-11-30 | 2022-06-03 | 无锡华润上华科技有限公司 | 光学邻近效应校正方法、掩膜版及可读存储介质 |
CN113643963B (zh) * | 2021-06-30 | 2024-05-14 | 长江存储科技有限责任公司 | 3d存储器件的栅线缝隙图案化方法及曝光掩模 |
CN116107154B (zh) * | 2023-04-13 | 2023-09-05 | 长鑫存储技术有限公司 | 掩膜版数据生成方法、装置、设备及介质 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH117120A (ja) * | 1997-06-18 | 1999-01-12 | Sony Corp | マスクパターン作成方法およびマスクパターン作成装置並びにマスク作成装置 |
JP2000330258A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-30 | United Microelectronics Corp | 光学的近接修正方法 |
JP2001100390A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-13 | Toshiba Microelectronics Corp | 露光用マスクのパターン補正方法 |
JP2005031690A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-02-03 | Asml Masktools Bv | 半波長以下リソグラフィ模様付けの改良型散乱バーopc適用方法 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0371133A (ja) | 1989-08-11 | 1991-03-26 | Fujitsu Ltd | 半導体装置用マスク |
JP2694707B2 (ja) | 1991-06-24 | 1997-12-24 | 日本電信電話株式会社 | 投影露光方法及び投影露光装置 |
JPH06242594A (ja) | 1993-02-15 | 1994-09-02 | Sharp Corp | 変形照明露光装置用マスク |
KR100236075B1 (ko) * | 1997-09-29 | 1999-12-15 | 김영환 | 마스크 패턴 |
JP2000162758A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的近接効果補正方法 |
JP3278057B2 (ja) * | 1998-12-14 | 2002-04-30 | 日本電気株式会社 | 半導体製造プロセスの光近接効果補正方法およびマスクデータ形成方法 |
JP2001337440A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-12-07 | Toshiba Corp | 半導体集積回路のパターン設計方法、フォトマスク、および半導体装置 |
US6416907B1 (en) * | 2000-04-27 | 2002-07-09 | Micron Technology, Inc. | Method for designing photolithographic reticle layout, reticle, and photolithographic process |
US6792590B1 (en) * | 2000-09-29 | 2004-09-14 | Numerical Technologies, Inc. | Dissection of edges with projection points in a fabrication layout for correcting proximity effects |
US6453457B1 (en) * | 2000-09-29 | 2002-09-17 | Numerical Technologies, Inc. | Selection of evaluation point locations based on proximity effects model amplitudes for correcting proximity effects in a fabrication layout |
US6625801B1 (en) * | 2000-09-29 | 2003-09-23 | Numerical Technologies, Inc. | Dissection of printed edges from a fabrication layout for correcting proximity effects |
US6539521B1 (en) * | 2000-09-29 | 2003-03-25 | Numerical Technologies, Inc. | Dissection of corners in a fabrication layout for correcting proximity effects |
US6574784B1 (en) * | 2001-06-14 | 2003-06-03 | George P. Lippincott | Short edge management in rule based OPC |
JP2003017390A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Toshiba Corp | パターン形成方法及びパターン形成に用いるマスク |
US7000208B2 (en) * | 2002-07-29 | 2006-02-14 | Synopsys,Inc. | Repetition recognition using segments |
US6857109B2 (en) * | 2002-10-18 | 2005-02-15 | George P. Lippincott | Short edge smoothing for enhanced scatter bar placement |
JP2004348118A (ja) | 2003-04-30 | 2004-12-09 | Toshiba Corp | フォトマスク及びそれを用いた露光方法、データ発生方法 |
JP3746497B2 (ja) * | 2003-06-24 | 2006-02-15 | 松下電器産業株式会社 | フォトマスク |
JP4620942B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2011-01-26 | 川崎マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路のレイアウト方法、そのレイアウト構造、およびフォトマスク |
JP3993545B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2007-10-17 | 株式会社東芝 | パターンの作製方法、半導体装置の製造方法、パターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 |
JP2005181523A (ja) * | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Toshiba Corp | 設計パターン補正方法、マスクパターン作成方法、半導体装置の製造方法、設計パターン補正システム、及び設計パターン補正プログラム |
TW200535653A (en) * | 2004-02-10 | 2005-11-01 | Japan Science & Tech Agency | Designing method of integrated circuit, designing-aided program for integrated circuit, designing system of integrated circuit, bulk mask, maskless apparatus, and method of manufacturing integrated circuit |
US8095903B2 (en) * | 2004-06-01 | 2012-01-10 | Pulsic Limited | Automatically routing nets with variable spacing |
JP4499616B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2010-07-07 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 露光用マスクとその製造方法、及び半導体装置の製造方法 |
WO2007017947A1 (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-15 | Fujitsu Limited | 露光用マスク、その製造方法、パターン転写方法、パターン形成方法、及びsramの製造方法 |
JP2007240949A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-20 | Elpida Memory Inc | マスクデータ作成方法及びマスク |
-
2006
- 2006-03-09 JP JP2006064224A patent/JP2007240949A/ja active Pending
-
2007
- 2007-03-08 US US11/715,463 patent/US7681173B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH117120A (ja) * | 1997-06-18 | 1999-01-12 | Sony Corp | マスクパターン作成方法およびマスクパターン作成装置並びにマスク作成装置 |
JP2000330258A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-30 | United Microelectronics Corp | 光学的近接修正方法 |
JP2001100390A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-13 | Toshiba Microelectronics Corp | 露光用マスクのパターン補正方法 |
JP2005031690A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-02-03 | Asml Masktools Bv | 半波長以下リソグラフィ模様付けの改良型散乱バーopc適用方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100895938B1 (ko) | 2007-12-27 | 2009-05-07 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 마스크 제작 방법 |
JP2010026416A (ja) * | 2008-07-24 | 2010-02-04 | Fujitsu Microelectronics Ltd | フォトマスクパターンの作成方法 |
KR101087874B1 (ko) | 2009-06-29 | 2011-11-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | 광학 근접 효과 보상 방법 |
US8181127B2 (en) | 2009-06-29 | 2012-05-15 | Hynix Semiconductor Inc. | Standardization of assist pattern inserted into outermost pattern for enhancing depth of focus margin |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7681173B2 (en) | 2010-03-16 |
US20070212620A1 (en) | 2007-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007240949A (ja) | マスクデータ作成方法及びマスク | |
JP4389222B2 (ja) | マスクデータ作成方法 | |
JP2988417B2 (ja) | フォトマスク | |
CN101322072B (zh) | 光掩膜、其制造方法、使用该光掩膜的图形形成方法、以及光掩膜的数据生成方法 | |
JP5020616B2 (ja) | 短波長を持つ電磁放射を用いたリソグラフ方法および装置 | |
JP2004069841A (ja) | マスクパターンおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法 | |
JP2007013088A (ja) | 二重露光技術を用いた二重露光方法及びこの二重露光方法のためのフォトマスク | |
JP2008046210A (ja) | レチクル及びこれを用いた露光方法及び装置、並びにレチクルのパターン作成方法、パターン形成方法及び半導体装置 | |
US8986912B2 (en) | Method for generating mask pattern | |
KR100285006B1 (ko) | 노광에사용되는포토마스크및그생산방법 | |
JP2003177511A (ja) | 位相エッジをサブ解像度アシスト・フィーチャとして用いる光近接効果補正方法 | |
JP2008116862A (ja) | フォトマスク | |
US6558853B1 (en) | Method for manufacturing exposure mask, exposure apparatus and semiconductor device | |
JP4689471B2 (ja) | 回路パターン露光方法及びマスク | |
JP5524447B2 (ja) | 露光用マスク、パターン形成方法及び露光用マスクの製造方法 | |
JP2007305972A (ja) | 露光条件設定方法及び半導体デバイスの製造方法 | |
US6994940B2 (en) | Phase shift mask, method for forming pattern using phase shift mask and manufacturing method for electronic device | |
JP2005157022A (ja) | 補助パターン付きマスクの製造方法 | |
JP3303077B2 (ja) | マスクおよびパタン形成方法 | |
JP4345821B2 (ja) | 露光用マスク及びパターン形成方法 | |
JP2008020734A (ja) | 半導体装置の設計パターン作成方法、プログラム、及び半導体装置の製造方法 | |
JP2006210928A (ja) | 像面にパターンを投影するための構造体 | |
JP3938694B2 (ja) | パターン形成方法 | |
JP2008191364A (ja) | マスクパターンの設計方法 | |
JP2923905B2 (ja) | フォトマスク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110817 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111214 |