JP4508317B2 - ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、半導体製造工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ジメチルスルホキシドを処理する方法として、好気性条件下で生物分解する方法が知られている。この方法によると、生物処理槽で嫌気条件となった一部から毒性悪臭物質であるメチルメルカプタンヤ硫化水素などが発生する。この対策として、あらかじめジメチルスルホキシドを酸化してジメチルスルホンやメタンスルホン酸などとしたのちに生物分解する方法があり、この方法によれば生物処理槽で嫌気反応がおこっても、毒性悪臭物質の発生を抑えることができる。
ジメチルスルホキシドの物理化学的な酸化処理方法としては、フェントン処理酸化法や、オゾン酸化法、過酸化水素酸化法、紫外線照射酸化法などを単独で、あるいは組み合わせて用いて酸化する方法がある。しかし、フェントン処理酸化法によると、処理にあたって大量の鉄スラッジが発生するという問題がある。また、オゾン酸化法、過酸化水素酸化法、紫外線照射酸化法によると、ジメチルスルホキシド以外の有機物、例えば、イソプロピルアルコールなどが共存する場合、酸化剤が共存有機物の酸化に消費されてしまい、見かけ上ジメチルスルホキシドのジメチルスルホンへの酸化反応が阻害され、効率的にジメチルスルホキシドを酸化することができない。このために、高濃度の有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水を物理化学的に酸化処理しようとする場合、あらかじめ共存する有機物を除去する前処理を必要とした。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、半導体製造工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置を提供することを目的としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ジメチルスルホキシド含有排水のｐＨを９以上として過酸化水素を添加することにより、共存する有機物が酸化されることなく、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されてジメチルスルホンとなることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の処理方法において、排水のｐＨを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加することにより、共存有機物を酸化することなくジメチルスルホキシドを選択的にジメチルスルホンに酸化することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
（２）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する第１項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
（３）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、アルカリを添加して混合排水のｐＨを９〜１４に調整して、共存有機物を酸化することなくジメチルスルホキシドを選択的にジメチルスルホンに酸化することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
（４）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水のｐＨを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有することを特徴とする有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置、
（５）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を有する第４項記載の有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置、及び、
（６）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のｐＨを９〜１４に調整する機構と温度を４０〜９０℃に調整する機構を有することを特徴とする有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置、
を提供するものである。
さらに、本発明の好ましい態様として、
（７）過酸化水素水中の過酸化水素とジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドのモル比が、１：１〜３：１である第１項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、及び、
（８）過酸化水素含有排水中の過酸化水素とジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドのモル比が、１：１〜３：１である第３項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
を挙げることができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法の第１の態様においては、排水のpHを９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整して過酸化水素水を添加する。本発明方法によれば、ジメチルスルホキシドと他の有機物が共存する場合であっても、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化され、ジメチルスルホキシドを生物処理の容易なジメチルスルホンに効果的に変換することができる。排水のpHが９未満であると、ジメチルスルホキシドの酸化反応速度が遅く、ジメチルスルホキシドの効果的な除去が困難となるおそれがある。排水のpHが１４を超えると、過酸化水素が自己分解しやすくなり、過酸化水素の利用効率が低下するおそれがある。
本発明方法により、共存する有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンに変換することができるのは、次のような機構によるものと考えられる。すなわち、過酸化水素Ｈ2Ｏ2は、水中ではごく微弱な二塩基酸として存在し、水素イオンＨ+とヒドロペルオキシイオンＨＯ2 -とに解離して、式［１］に示す平衡が保たれる。２０℃における解離定数Ｋ＝１.５×１０-12である。
Ｈ2Ｏ2 ⇔ Ｈ+ ＋ ＨＯ2 - …［１］
したがって、pHが低いときは、水中のヒドロペルオキシイオンの濃度は低く、pHが高くなると、水中のヒドロペルオキシイオンの濃度は高くなる。
水中のヒドロペルオキシイオンは、式［２］に示すように互いに反応して自己分解する。
２ＨＯ2 - → ２ＯＨ- ＋ Ｏ2 …［２］
また、ヒドロペルオキシイオンは、触媒やオゾンＯ3の存在下でヒドロキシルラジカル・ＯＨを生成する。
ＨＯ2 - ＋ Ｏ3 → ・ＯＨ ＋ Ｏ2 - ＋ Ｏ2 …［３］
通常、有機物の酸化分解は、有機物とヒドロキシラジカルの反応によって起こる。しかし、ジメチルスルホキシドのジメチルスルホンへの酸化には、式［１］で生成するヒドロペルオキシイオンが有効であり、さらに、ヒドロペルオキシイオンは、他の有機物とはほとんど反応しない。このために、ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９以上に調整して過酸化水素水を添加し、ヒドロキシルラジカルの生成を抑えて、排水中のヒドロペルオキシイオンの濃度を高めることにより、排水中のジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができる。
【０００６】
本発明方法において、過酸化水素水の添加量は、過酸化水素水とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１であることが好ましい。過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比が１：１未満であると、ジメチルスルホキシドの酸化が十分に進行しないおそれがある。過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比３：１以下で十分な酸化反応が起こり、通常はモル比３：１を超える過酸化水素は不要である。ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシド濃度をあらかじめ分析し、過酸化水素水の添加量を選定することができる。
本発明方法においては、ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整することが好ましく、５０〜７０℃に調整することがより好ましい。ジメチルスルホキシド含有排水を加熱して反応温度を４０〜９０℃とすることにより、ジメチルスルホキシドの酸化反応速度を高めて、ジメチルスルホキシドの除去率を向上することができる。反応温度が４０℃未満であると、ジメチルスルホキシドの酸化反応に長時間を要するおそれがある。反応温度が９０℃を超えると、過酸化水素の自己分解速度が大となり、過酸化水素が無駄に失われるおそれがある。
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法の第２の態様においては、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整する。混合排水のpHを９〜１４に調整することにより、ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加した場合と同様に、排水中のヒドロペルオキシイオンの濃度が高くなり、共存する有機物が酸化されることなく、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されてジメチルスルホンに変換される。本態様は、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の両者が排出される半導体工場などにおいて、特に好適に実施することができる。過酸化水素含有排水中の過酸化水素と、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドは、モル比で１：１〜３：１であることが好ましい。過酸化水素含有排水中の過酸化水素の量が不足する場合は、過酸化水素含有排水の混合と過酸化水素水の添加を併用することができる。本態様によれば、過酸化水素含有排水を有効に利用し得るのみならず、過酸化水素含有排水の処理費を節減することができる。
【０００７】
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理装置の第１の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水のpHを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有するものである。さらに、本発明装置は、ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を有することが好ましい。図１は、本発明装置の一態様の系統図である。撹拌機１を備えた反応槽２に、ジメチルスルホキシド含有排水が導入される。反応槽にはpHセンサー３が設けられ、pHセンサーから制御器４に信号が送られ、さらに制御器からポンプ５に信号が送られて、反応槽中のジメチルスルホキシド含有排水のpHが９〜１４の間の所定の値となるように、アルカリ貯槽６に貯留されたアルカリが反応槽に供給される。過酸化水素水は、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの量に応じて、所定量の過酸化水素が反応槽に添加されるように、ポンプ７により供給される。また、反応槽には温度センサー８が設けられ、温度センサーから制御器９に信号が送られ、さらに制御器から調節弁１０に信号が送られて、反応槽中のジメチルスルホキシド含有排水の温度が４０〜９０℃の間の所定の値となるように、蒸気が反応槽に供給される。
ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調整するためのアルカリ添加機構には特に制限はなく、例えば、pHが所定の値となるようにあらかじめポンプの吐出流量を調整して一定量を注入する機構とすることができ、反応槽にpHセンサーを設け、その計測結果に基づいてポンプの起動と停止により制御する機構とすることもでき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽へ導入するための自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御することもでき、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設けpHセンサーによるＰＩＤ制御をすることもできる。これらの機構の中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と停止により制御する機構は、設備費が安価で、制御が容易なので、特に好適に用いることができる。
過酸化水素水を添加する機構に特に制限はなく、例えば、過酸化水素水貯槽より過酸化水素水ポンプを使用して反応槽に添加する機構とすることができる。過酸化水素水の添加量は、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの濃度をあらかじめ分析し、反応槽内における過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１になるような添加量を算出し、その算出結果に基づいた注入量を一定注入することが好ましい。
ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構に特に制限はなく、例えば、温度センサーと制御器と調節弁を用いて、反応槽に供給する蒸気の量を制御する機構とすることができ、ジャケット付きの反応槽を用いて熱媒体により加熱する機構とすることもでき、あるいは、電気的に加熱する機構とすることもできる。
本発明装置においては、必要に応じて、反応速度を向上させるための触媒又は触媒添加装置、過酸化水素の濃度を監視するための過酸化水素濃度計又は酸化還元電位計、反応速度を向上させるための電磁波装置、超音波発振器、加圧装置などを設けることができる。
【０００８】
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理装置の第２の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水と過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを９〜１４に調整する機構を有するものである。図２は、本発明装置の他の態様の系統図である。撹拌機１１を備えた反応槽１２に、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水が導入され、撹拌により混合される。反応槽にはpHセンサー１３が設けられ、pHセンサーから制御器１４に信号が送られ、さらに制御器からポンプ１５に信号が送られて、反応槽中の混合排水のpHが９〜１４の間の所定の値となるように、アルカリ貯槽１６に貯留されたアルカリが反応槽に供給される。また、反応槽には温度センサー１７が設けられ、温度センサーから制御器１８に信号が送られ、さらに制御器から調節弁１９に信号が送られて、反応槽中の混合排水の温度が４０〜９０℃の間の所定の値となるように、蒸気が反応槽に供給される。
本態様においては、過酸化水素含有排水とジメチルスルホキシド含有排水は、各排水に含まれる過酸化水素とジメチルスルホキシドの濃度を分析し、反応槽内における過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１になるように混合することが好ましい。ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合比率の調整手段に特に制限はなく、例えば、各排水を反応槽に導入するための配管にそれぞれ流量計と流量調節弁を設け、各排水の導入流量を調節することができ、各排水を反応槽の前段で別々に貯留するタンクを設け、各タンクからポンプにより反応槽へ各排水を導入する際に、ポンプの稼働時間を制御して、各排水の導入量を制御することもでき、あるいは、各排水を反応槽の前段で別々に貯留するタンクを設け、各タンクからポンプにより反応槽へ各排水を導入する際に、反応槽に設けた水位検出器により各ポンプの起動と停止を制御して、各排水の導入量を制御することもできる。
【０００９】
図３は、本発明装置の他の態様の系統図である。本態様においては、反応槽２０の前段にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水貯留タンク２１と過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水貯留タンク２２が設けられ、各タンクからポンプ２３及び２４により反応槽へ各排水が導入される。反応槽には、受入開始レベルＬ、ジメチルスルホキシド含有排水受入レベルＭ及び過酸化水素含有排水受入レベルＨに水位検出器が設けられている。処理水を排出して水位が受入開始レベルＬまで下がると、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが起動して、ジメチルスルホキシド含有排水が反応槽に導入される。ジメチルスルホキシド含有排水が導入され、水位がジメチルスルホキシド含有排水受入レベルＭに達すると、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが停止し、過酸化水素含有排水ポンプが起動して、過酸化水素含有排水が反応槽に導入される。過酸化水素含有排水が導入され、水位が過酸化水素含有排水受入レベルＨに達すると過酸化水素含有排水ポンプが停止する。
ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合排水のpHを９〜１４に調整するためのアルカリ添加機構には特に制限はなく、例えば、pHが所定の値となるようにあらかじめポンプの吐出流量を調整して一定量を注入する機構とすることができ、反応槽にpHセンサーを設け、その計測結果に基づいてポンプの起動と停止により制御する機構とすることもでき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽へ導入するための自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御することもでき、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設けpHセンサーによるＰＩＤ制御をすることもできる。これらの機構の中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と停止により制御する機構は、設備費が安価で、制御が容易なので、特に好適に用いることができる。
本態様の装置においては、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を設けることができる。混合排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構に特に制限はなく、例えば、温度センサーと制御器と調節弁を用いて、反応槽に供給する蒸気の量を制御する機構とすることができ、ジャケット付きの反応槽を用いて熱媒体により加熱する機構とすることもでき、あるいは、電気的に加熱する機構とすることもできる。
本発明方法及び装置によれば、ジメチルスルホキシドと他の共存する有機物を含有する排水、例えば、高濃度のイソプロピルアルコールを含有するジメチルスルホキシド含有排水を処理して、共存する有機物を酸化分解することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるので、ジメチルスルホキシド含有排水を生物処理する際の前処理において、共存する有機物を除去する必要がなく、少ないエネルギーと薬品で処理することができ、装置の単純化とコストの低減を実現することができる。
【００１０】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
実施例１
図１に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド３,５００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH６.０の水質を有するジメチルスルホキシド含有排水の処理を行った。
反応槽にジメチルスルホキシド含有排水１２ｍ3を入れ、スチームを吹き込んで６０℃に昇温し、水酸化ナトリウム水溶液を供給して、pHを１０.０に調整した。次いで、３５重量％過酸化水素水１００kgを添加し、６０℃を保ったまま１時間撹拌することにより、酸化処理を行った。
処理水の水質は、過酸化水素０.０重量％、ジメチルスルホキシド０mg／Ｌ、ジメチルスルホン４,２００mg／Ｌ、メタンスルホン酸１０mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH１０.０であった。
実施例１における排水及び処理水の水質を、第１表に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】
第１表に見られるように、処理水中にジメチルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタンスルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化されている。また、ジメチルスルホキシド含有排水中のイソプロピルアルコールの濃度と、処理水中のイソプロピルアルコールの濃度が等しいことから、イソプロピルアルコールは酸化されず、ジメチルスルホキシドのみが選択的に酸化されていることが分かる。
実施例２
図２に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド含有排水の処理を行った。
反応槽にジメチルスルホキシド含有排水１０ｍ3／ｈと過酸化水素含有排水３ｍ3／ｈを導入し、処理水１３ｍ3／ｈを抜き出した。反応槽中の水量は１３ｍ3なので、反応時間は１時間である。
ジメチルスルホキシド含有排水の水質は、ジメチルスルホキシド３,５００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH６.０であった。過酸化水素含有排水の水質は、過酸化水素１.０重量％、硫酸１,０００mg／Ｌ、pH２.２であった。
反応槽内に設けたpHセンサーにより混合排水のpHを測定し、制御器よりポンプに信号を送って水酸化ナトリウム水溶液の供給量を制御し、混合排水のpHを１０.０に保った。また、反応槽内に設けた温度センサーにより混合排水の温度を測定し、制御器より調節弁に信号を送って蒸気の供給量を制御し、混合排水の温度を６０℃に保った。
反応槽より抜き出した処理水の水質は、過酸化水素０.０重量％、ジメチルスルホキシド０mg／Ｌ、ジメチルスルホン３,２００mg／Ｌ、メタンスルホン酸８mg／Ｌ、イソプロピルアルコール２.３重量％、pH１０.０であった。
実施例２における各排水及び処理水の水質を、第２表に示す。
【００１３】
【表２】
【００１４】
第２表に見られるように、処理水中にジメチルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタンスルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化されている。また、導入されたジメチルスルホキシド含有排水中のイソプロピルアルコールの総量と、抜き出された処理水中のイソプロピルアルコールの総量がほぼ等しいことから、イソプロピルアルコールはほとんど酸化されず、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されていることが分かる。
実施例３
ジメチルスルホキシド含有水のpHと、ジメチルスルホキシド除去率の関係をしらべた。
ジメチルスルホキシド５.００ｇに水を加えて全量を１Ｌとし、塩酸によりpHを２に調整した。この溶液に３５重量％過酸化水素水１２.５ｇを加え、６０℃で１０分撹拌したのち、ジメチルスルホキシドの濃度を分析した。ジメチルスルホキシドの濃度は４.７６ｇ／Ｌであり、ジメチルスルホキシドの除去率４.８％であった。
塩酸又は水酸化ナトリウム水溶液によりpHを３〜１４に調整して、同じ操作を繰り返した。pH９のとき、ジメチルスルホキシドの濃度３.９０ｇ／Ｌ、除去率２２.０％、pH１０のとき、ジメチルスルホキシドの濃度３.００ｇ／Ｌ、除去率４０.０％、pH１１のとき、ジメチルスルホキシドの濃度０.９６ｇ／Ｌ、除去率８０.８％、pH１２のとき、ジメチルスルホキシドの濃度０.１２ｇ／Ｌ、除去率９７.６％であった。
実施例３におけるpHとジメチルスルホキシドの濃度及び除去率の関係を、第３表に示す。
【００１５】
【表３】
【００１６】
第３表に見られるように、ジメチルスルホキシドを含有する水が酸性である場合は、過酸化水素水を加えてもジメチルスルホキシドの酸化はあまり進まないが、ジメチルスルホキシド含有水のpHが９以上になると、効果的に酸化が起こってジメチルスルホキシドが除去されることが分かる。
【００１７】
【発明の効果】
本発明方法及び装置によれば、有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水であっても、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明装置の一態様の系統図である。
【図２】図２は、本発明装置の他の態様の系統図である。
【図３】図３は、本発明装置の他の態様の系統図である。
【符号の説明】
１ 撹拌機
２ 反応槽
３ pHセンサー
４ 制御器
５ ポンプ
６ アルカリ貯槽
７ ポンプ
８ 温度センサー
９ 制御器
１０ 調節弁
１１ 撹拌機
１２ 反応槽
１３ pHセンサー
１４ 制御器
１５ ポンプ
１６ アルカリ貯槽
１７ 温度センサー
１８ 制御器
１９ 調節弁
２０ 反応槽
２１ ジメチルスルホキシド含有排水貯留タンク
２２ 過酸化水素含有排水貯留タンク
２３ ポンプ
２４ ポンプ
【発明の属する技術分野】
本発明は、ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、半導体製造工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ジメチルスルホキシドを処理する方法として、好気性条件下で生物分解する方法が知られている。この方法によると、生物処理槽で嫌気条件となった一部から毒性悪臭物質であるメチルメルカプタンヤ硫化水素などが発生する。この対策として、あらかじめジメチルスルホキシドを酸化してジメチルスルホンやメタンスルホン酸などとしたのちに生物分解する方法があり、この方法によれば生物処理槽で嫌気反応がおこっても、毒性悪臭物質の発生を抑えることができる。
ジメチルスルホキシドの物理化学的な酸化処理方法としては、フェントン処理酸化法や、オゾン酸化法、過酸化水素酸化法、紫外線照射酸化法などを単独で、あるいは組み合わせて用いて酸化する方法がある。しかし、フェントン処理酸化法によると、処理にあたって大量の鉄スラッジが発生するという問題がある。また、オゾン酸化法、過酸化水素酸化法、紫外線照射酸化法によると、ジメチルスルホキシド以外の有機物、例えば、イソプロピルアルコールなどが共存する場合、酸化剤が共存有機物の酸化に消費されてしまい、見かけ上ジメチルスルホキシドのジメチルスルホンへの酸化反応が阻害され、効率的にジメチルスルホキシドを酸化することができない。このために、高濃度の有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水を物理化学的に酸化処理しようとする場合、あらかじめ共存する有機物を除去する前処理を必要とした。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、半導体製造工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置を提供することを目的としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ジメチルスルホキシド含有排水のｐＨを９以上として過酸化水素を添加することにより、共存する有機物が酸化されることなく、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されてジメチルスルホンとなることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の処理方法において、排水のｐＨを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加することにより、共存有機物を酸化することなくジメチルスルホキシドを選択的にジメチルスルホンに酸化することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
（２）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する第１項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
（３）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、アルカリを添加して混合排水のｐＨを９〜１４に調整して、共存有機物を酸化することなくジメチルスルホキシドを選択的にジメチルスルホンに酸化することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
（４）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水のｐＨを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有することを特徴とする有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置、
（５）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を有する第４項記載の有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置、及び、
（６）有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のｐＨを９〜１４に調整する機構と温度を４０〜９０℃に調整する機構を有することを特徴とする有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置、
を提供するものである。
さらに、本発明の好ましい態様として、
（７）過酸化水素水中の過酸化水素とジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドのモル比が、１：１〜３：１である第１項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、及び、
（８）過酸化水素含有排水中の過酸化水素とジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドのモル比が、１：１〜３：１である第３項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、
を挙げることができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法の第１の態様においては、排水のpHを９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整して過酸化水素水を添加する。本発明方法によれば、ジメチルスルホキシドと他の有機物が共存する場合であっても、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化され、ジメチルスルホキシドを生物処理の容易なジメチルスルホンに効果的に変換することができる。排水のpHが９未満であると、ジメチルスルホキシドの酸化反応速度が遅く、ジメチルスルホキシドの効果的な除去が困難となるおそれがある。排水のpHが１４を超えると、過酸化水素が自己分解しやすくなり、過酸化水素の利用効率が低下するおそれがある。
本発明方法により、共存する有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンに変換することができるのは、次のような機構によるものと考えられる。すなわち、過酸化水素Ｈ2Ｏ2は、水中ではごく微弱な二塩基酸として存在し、水素イオンＨ+とヒドロペルオキシイオンＨＯ2 -とに解離して、式［１］に示す平衡が保たれる。２０℃における解離定数Ｋ＝１.５×１０-12である。
Ｈ2Ｏ2 ⇔ Ｈ+ ＋ ＨＯ2 - …［１］
したがって、pHが低いときは、水中のヒドロペルオキシイオンの濃度は低く、pHが高くなると、水中のヒドロペルオキシイオンの濃度は高くなる。
水中のヒドロペルオキシイオンは、式［２］に示すように互いに反応して自己分解する。
２ＨＯ2 - → ２ＯＨ- ＋ Ｏ2 …［２］
また、ヒドロペルオキシイオンは、触媒やオゾンＯ3の存在下でヒドロキシルラジカル・ＯＨを生成する。
ＨＯ2 - ＋ Ｏ3 → ・ＯＨ ＋ Ｏ2 - ＋ Ｏ2 …［３］
通常、有機物の酸化分解は、有機物とヒドロキシラジカルの反応によって起こる。しかし、ジメチルスルホキシドのジメチルスルホンへの酸化には、式［１］で生成するヒドロペルオキシイオンが有効であり、さらに、ヒドロペルオキシイオンは、他の有機物とはほとんど反応しない。このために、ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９以上に調整して過酸化水素水を添加し、ヒドロキシルラジカルの生成を抑えて、排水中のヒドロペルオキシイオンの濃度を高めることにより、排水中のジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができる。
【０００６】
本発明方法において、過酸化水素水の添加量は、過酸化水素水とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１であることが好ましい。過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比が１：１未満であると、ジメチルスルホキシドの酸化が十分に進行しないおそれがある。過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比３：１以下で十分な酸化反応が起こり、通常はモル比３：１を超える過酸化水素は不要である。ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシド濃度をあらかじめ分析し、過酸化水素水の添加量を選定することができる。
本発明方法においては、ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整することが好ましく、５０〜７０℃に調整することがより好ましい。ジメチルスルホキシド含有排水を加熱して反応温度を４０〜９０℃とすることにより、ジメチルスルホキシドの酸化反応速度を高めて、ジメチルスルホキシドの除去率を向上することができる。反応温度が４０℃未満であると、ジメチルスルホキシドの酸化反応に長時間を要するおそれがある。反応温度が９０℃を超えると、過酸化水素の自己分解速度が大となり、過酸化水素が無駄に失われるおそれがある。
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法の第２の態様においては、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整する。混合排水のpHを９〜１４に調整することにより、ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加した場合と同様に、排水中のヒドロペルオキシイオンの濃度が高くなり、共存する有機物が酸化されることなく、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されてジメチルスルホンに変換される。本態様は、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の両者が排出される半導体工場などにおいて、特に好適に実施することができる。過酸化水素含有排水中の過酸化水素と、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドは、モル比で１：１〜３：１であることが好ましい。過酸化水素含有排水中の過酸化水素の量が不足する場合は、過酸化水素含有排水の混合と過酸化水素水の添加を併用することができる。本態様によれば、過酸化水素含有排水を有効に利用し得るのみならず、過酸化水素含有排水の処理費を節減することができる。
【０００７】
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理装置の第１の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水のpHを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有するものである。さらに、本発明装置は、ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を有することが好ましい。図１は、本発明装置の一態様の系統図である。撹拌機１を備えた反応槽２に、ジメチルスルホキシド含有排水が導入される。反応槽にはpHセンサー３が設けられ、pHセンサーから制御器４に信号が送られ、さらに制御器からポンプ５に信号が送られて、反応槽中のジメチルスルホキシド含有排水のpHが９〜１４の間の所定の値となるように、アルカリ貯槽６に貯留されたアルカリが反応槽に供給される。過酸化水素水は、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの量に応じて、所定量の過酸化水素が反応槽に添加されるように、ポンプ７により供給される。また、反応槽には温度センサー８が設けられ、温度センサーから制御器９に信号が送られ、さらに制御器から調節弁１０に信号が送られて、反応槽中のジメチルスルホキシド含有排水の温度が４０〜９０℃の間の所定の値となるように、蒸気が反応槽に供給される。
ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調整するためのアルカリ添加機構には特に制限はなく、例えば、pHが所定の値となるようにあらかじめポンプの吐出流量を調整して一定量を注入する機構とすることができ、反応槽にpHセンサーを設け、その計測結果に基づいてポンプの起動と停止により制御する機構とすることもでき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽へ導入するための自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御することもでき、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設けpHセンサーによるＰＩＤ制御をすることもできる。これらの機構の中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と停止により制御する機構は、設備費が安価で、制御が容易なので、特に好適に用いることができる。
過酸化水素水を添加する機構に特に制限はなく、例えば、過酸化水素水貯槽より過酸化水素水ポンプを使用して反応槽に添加する機構とすることができる。過酸化水素水の添加量は、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの濃度をあらかじめ分析し、反応槽内における過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１になるような添加量を算出し、その算出結果に基づいた注入量を一定注入することが好ましい。
ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構に特に制限はなく、例えば、温度センサーと制御器と調節弁を用いて、反応槽に供給する蒸気の量を制御する機構とすることができ、ジャケット付きの反応槽を用いて熱媒体により加熱する機構とすることもでき、あるいは、電気的に加熱する機構とすることもできる。
本発明装置においては、必要に応じて、反応速度を向上させるための触媒又は触媒添加装置、過酸化水素の濃度を監視するための過酸化水素濃度計又は酸化還元電位計、反応速度を向上させるための電磁波装置、超音波発振器、加圧装置などを設けることができる。
【０００８】
本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処理装置の第２の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水と過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを９〜１４に調整する機構を有するものである。図２は、本発明装置の他の態様の系統図である。撹拌機１１を備えた反応槽１２に、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水が導入され、撹拌により混合される。反応槽にはpHセンサー１３が設けられ、pHセンサーから制御器１４に信号が送られ、さらに制御器からポンプ１５に信号が送られて、反応槽中の混合排水のpHが９〜１４の間の所定の値となるように、アルカリ貯槽１６に貯留されたアルカリが反応槽に供給される。また、反応槽には温度センサー１７が設けられ、温度センサーから制御器１８に信号が送られ、さらに制御器から調節弁１９に信号が送られて、反応槽中の混合排水の温度が４０〜９０℃の間の所定の値となるように、蒸気が反応槽に供給される。
本態様においては、過酸化水素含有排水とジメチルスルホキシド含有排水は、各排水に含まれる過酸化水素とジメチルスルホキシドの濃度を分析し、反応槽内における過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１になるように混合することが好ましい。ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合比率の調整手段に特に制限はなく、例えば、各排水を反応槽に導入するための配管にそれぞれ流量計と流量調節弁を設け、各排水の導入流量を調節することができ、各排水を反応槽の前段で別々に貯留するタンクを設け、各タンクからポンプにより反応槽へ各排水を導入する際に、ポンプの稼働時間を制御して、各排水の導入量を制御することもでき、あるいは、各排水を反応槽の前段で別々に貯留するタンクを設け、各タンクからポンプにより反応槽へ各排水を導入する際に、反応槽に設けた水位検出器により各ポンプの起動と停止を制御して、各排水の導入量を制御することもできる。
【０００９】
図３は、本発明装置の他の態様の系統図である。本態様においては、反応槽２０の前段にジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水貯留タンク２１と過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水貯留タンク２２が設けられ、各タンクからポンプ２３及び２４により反応槽へ各排水が導入される。反応槽には、受入開始レベルＬ、ジメチルスルホキシド含有排水受入レベルＭ及び過酸化水素含有排水受入レベルＨに水位検出器が設けられている。処理水を排出して水位が受入開始レベルＬまで下がると、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが起動して、ジメチルスルホキシド含有排水が反応槽に導入される。ジメチルスルホキシド含有排水が導入され、水位がジメチルスルホキシド含有排水受入レベルＭに達すると、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが停止し、過酸化水素含有排水ポンプが起動して、過酸化水素含有排水が反応槽に導入される。過酸化水素含有排水が導入され、水位が過酸化水素含有排水受入レベルＨに達すると過酸化水素含有排水ポンプが停止する。
ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合排水のpHを９〜１４に調整するためのアルカリ添加機構には特に制限はなく、例えば、pHが所定の値となるようにあらかじめポンプの吐出流量を調整して一定量を注入する機構とすることができ、反応槽にpHセンサーを設け、その計測結果に基づいてポンプの起動と停止により制御する機構とすることもでき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽へ導入するための自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御することもでき、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設けpHセンサーによるＰＩＤ制御をすることもできる。これらの機構の中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と停止により制御する機構は、設備費が安価で、制御が容易なので、特に好適に用いることができる。
本態様の装置においては、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を設けることができる。混合排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構に特に制限はなく、例えば、温度センサーと制御器と調節弁を用いて、反応槽に供給する蒸気の量を制御する機構とすることができ、ジャケット付きの反応槽を用いて熱媒体により加熱する機構とすることもでき、あるいは、電気的に加熱する機構とすることもできる。
本発明方法及び装置によれば、ジメチルスルホキシドと他の共存する有機物を含有する排水、例えば、高濃度のイソプロピルアルコールを含有するジメチルスルホキシド含有排水を処理して、共存する有機物を酸化分解することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるので、ジメチルスルホキシド含有排水を生物処理する際の前処理において、共存する有機物を除去する必要がなく、少ないエネルギーと薬品で処理することができ、装置の単純化とコストの低減を実現することができる。
【００１０】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
実施例１
図１に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド３,５００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH６.０の水質を有するジメチルスルホキシド含有排水の処理を行った。
反応槽にジメチルスルホキシド含有排水１２ｍ3を入れ、スチームを吹き込んで６０℃に昇温し、水酸化ナトリウム水溶液を供給して、pHを１０.０に調整した。次いで、３５重量％過酸化水素水１００kgを添加し、６０℃を保ったまま１時間撹拌することにより、酸化処理を行った。
処理水の水質は、過酸化水素０.０重量％、ジメチルスルホキシド０mg／Ｌ、ジメチルスルホン４,２００mg／Ｌ、メタンスルホン酸１０mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH１０.０であった。
実施例１における排水及び処理水の水質を、第１表に示す。
【００１１】
【表１】
第１表に見られるように、処理水中にジメチルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタンスルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化されている。また、ジメチルスルホキシド含有排水中のイソプロピルアルコールの濃度と、処理水中のイソプロピルアルコールの濃度が等しいことから、イソプロピルアルコールは酸化されず、ジメチルスルホキシドのみが選択的に酸化されていることが分かる。
実施例２
図２に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド含有排水の処理を行った。
反応槽にジメチルスルホキシド含有排水１０ｍ3／ｈと過酸化水素含有排水３ｍ3／ｈを導入し、処理水１３ｍ3／ｈを抜き出した。反応槽中の水量は１３ｍ3なので、反応時間は１時間である。
ジメチルスルホキシド含有排水の水質は、ジメチルスルホキシド３,５００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH６.０であった。過酸化水素含有排水の水質は、過酸化水素１.０重量％、硫酸１,０００mg／Ｌ、pH２.２であった。
反応槽内に設けたpHセンサーにより混合排水のpHを測定し、制御器よりポンプに信号を送って水酸化ナトリウム水溶液の供給量を制御し、混合排水のpHを１０.０に保った。また、反応槽内に設けた温度センサーにより混合排水の温度を測定し、制御器より調節弁に信号を送って蒸気の供給量を制御し、混合排水の温度を６０℃に保った。
反応槽より抜き出した処理水の水質は、過酸化水素０.０重量％、ジメチルスルホキシド０mg／Ｌ、ジメチルスルホン３,２００mg／Ｌ、メタンスルホン酸８mg／Ｌ、イソプロピルアルコール２.３重量％、pH１０.０であった。
実施例２における各排水及び処理水の水質を、第２表に示す。
【００１３】
【表２】
第２表に見られるように、処理水中にジメチルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタンスルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化されている。また、導入されたジメチルスルホキシド含有排水中のイソプロピルアルコールの総量と、抜き出された処理水中のイソプロピルアルコールの総量がほぼ等しいことから、イソプロピルアルコールはほとんど酸化されず、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されていることが分かる。
実施例３
ジメチルスルホキシド含有水のpHと、ジメチルスルホキシド除去率の関係をしらべた。
ジメチルスルホキシド５.００ｇに水を加えて全量を１Ｌとし、塩酸によりpHを２に調整した。この溶液に３５重量％過酸化水素水１２.５ｇを加え、６０℃で１０分撹拌したのち、ジメチルスルホキシドの濃度を分析した。ジメチルスルホキシドの濃度は４.７６ｇ／Ｌであり、ジメチルスルホキシドの除去率４.８％であった。
塩酸又は水酸化ナトリウム水溶液によりpHを３〜１４に調整して、同じ操作を繰り返した。pH９のとき、ジメチルスルホキシドの濃度３.９０ｇ／Ｌ、除去率２２.０％、pH１０のとき、ジメチルスルホキシドの濃度３.００ｇ／Ｌ、除去率４０.０％、pH１１のとき、ジメチルスルホキシドの濃度０.９６ｇ／Ｌ、除去率８０.８％、pH１２のとき、ジメチルスルホキシドの濃度０.１２ｇ／Ｌ、除去率９７.６％であった。
実施例３におけるpHとジメチルスルホキシドの濃度及び除去率の関係を、第３表に示す。
【００１５】
【表３】
第３表に見られるように、ジメチルスルホキシドを含有する水が酸性である場合は、過酸化水素水を加えてもジメチルスルホキシドの酸化はあまり進まないが、ジメチルスルホキシド含有水のpHが９以上になると、効果的に酸化が起こってジメチルスルホキシドが除去されることが分かる。
【００１７】
【発明の効果】
本発明方法及び装置によれば、有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水であっても、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明装置の一態様の系統図である。
【図２】図２は、本発明装置の他の態様の系統図である。
【図３】図３は、本発明装置の他の態様の系統図である。
【符号の説明】
１ 撹拌機
２ 反応槽
３ pHセンサー
４ 制御器
５ ポンプ
６ アルカリ貯槽
７ ポンプ
８ 温度センサー
９ 制御器
１０ 調節弁
１１ 撹拌機
１２ 反応槽
１３ pHセンサー
１４ 制御器
１５ ポンプ
１６ アルカリ貯槽
１７ 温度センサー
１８ 制御器
１９ 調節弁
２０ 反応槽
２１ ジメチルスルホキシド含有排水貯留タンク
２２ 過酸化水素含有排水貯留タンク
２３ ポンプ
２４ ポンプ
Claims (6)
- 有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の処理方法において、排水のｐＨを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加することにより、共存有機物を酸化することなくジメチルスルホキシドを選択的にジメチルスルホンに酸化することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法。
- 有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する請求項１記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法。
- 有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、アルカリを添加して混合排水のｐＨを９〜１４に調整して、共存有機物を酸化することなくジメチルスルホキシドを選択的にジメチルスルホンに酸化することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理方法。
- 有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水のｐＨを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を有することを特徴とする有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置。
- 有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を有する請求項４記載の有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置。
- 有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のｐＨを９〜１４に調整する機構と温度を４０〜９０℃に調整する機構を有することを特徴とする有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの選択的酸化処理装置。
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Citations (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49105775A (ja) * | 1973-02-12 | 1974-10-07 | ||
| JPS53128145A (en) * | 1977-04-14 | 1978-11-08 | Nippon Peroxide Co Ltd | Method of separating sludge materials |
| JPS54110650A (en) * | 1978-02-20 | 1979-08-30 | Sankyo Yuki Kk | Waste water disposal method |
| JPH0278487A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 廃水の連続処理方法 |
| JPH06508064A (ja) * | 1992-03-19 | 1994-09-14 | イーストマン コダック カンパニー | 有機化合物を含有する排液の処理方法 |
| JPH078971A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-13 | Kurita Water Ind Ltd | フッ化アンモニウム含有水の処理方法 |
| JPH07265890A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-17 | Sharp Corp | 有機硫黄化合物を含有する被処理水の処理方法とその装置 |
| JPH09271788A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Nec Corp | 有機物含有廃水の紫外線分解処理方法及び装置 |
| JPH10244280A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去装置 |
| JPH1142479A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Japan Organo Co Ltd | 排水処理方法 |
| JPH1199394A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去方法 |
| JPH11114584A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-04-27 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 水処理方法および水処理装置 |
| JPH11290878A (ja) * | 1998-02-16 | 1999-10-26 | Japan Organo Co Ltd | Ｔｏｃ成分除去の制御方法 |
| JPH11333473A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Nec Corp | スルホキシド類含有廃水の処理方法 |
| JP2000140865A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Nec Corp | スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 |
| JP2000279973A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-10 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有排水の酸化処理法 |
| JP2000279970A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Shinko Pantec Co Ltd | 有機硫黄化合物含有廃水の処理方法とその装置 |
| JP2000288495A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 洗浄方法 |
| JP2000317471A (ja) * | 1999-05-06 | 2000-11-21 | Kurita Water Ind Ltd | 有機性ｃｏｄ成分を含む水の処理方法 |
| JP2000343090A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-12-12 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
| JP2000350993A (ja) * | 1999-06-09 | 2000-12-19 | Kurita Water Ind Ltd | Ｄｍｓｏ含有水の処理装置及び半導体工場排水の処理設備 |
-
1999
- 1999-09-02 JP JP24927799A patent/JP4508317B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49105775A (ja) * | 1973-02-12 | 1974-10-07 | ||
| JPS53128145A (en) * | 1977-04-14 | 1978-11-08 | Nippon Peroxide Co Ltd | Method of separating sludge materials |
| JPS54110650A (en) * | 1978-02-20 | 1979-08-30 | Sankyo Yuki Kk | Waste water disposal method |
| JPH0278487A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 廃水の連続処理方法 |
| JPH06508064A (ja) * | 1992-03-19 | 1994-09-14 | イーストマン コダック カンパニー | 有機化合物を含有する排液の処理方法 |
| JPH078971A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-13 | Kurita Water Ind Ltd | フッ化アンモニウム含有水の処理方法 |
| JPH07265890A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-17 | Sharp Corp | 有機硫黄化合物を含有する被処理水の処理方法とその装置 |
| JPH09271788A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Nec Corp | 有機物含有廃水の紫外線分解処理方法及び装置 |
| JPH10244280A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去装置 |
| JPH1142479A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Japan Organo Co Ltd | 排水処理方法 |
| JPH1199394A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去方法 |
| JPH11114584A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-04-27 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 水処理方法および水処理装置 |
| JPH11290878A (ja) * | 1998-02-16 | 1999-10-26 | Japan Organo Co Ltd | Ｔｏｃ成分除去の制御方法 |
| JPH11333473A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Nec Corp | スルホキシド類含有廃水の処理方法 |
| JP2000140865A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Nec Corp | スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 |
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| JP2000343090A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-12-12 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
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