JP2001070950A - ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置 - Google Patents
ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体製造工場などにおいて発生する有機物が
共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存
有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選
択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジ
メチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置を
提供する。 【解決手段】ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法
において、排水のpHを９〜１４に調整して過酸化水素水
を添加する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水と
過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを９〜１４
に調整する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水の
pHを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加す
る機構を有する処理装置、及び、ジメチルスルホキシド
含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合
排水のpHを９〜１４に調整する機構を有する処理装置。
共存するジメチルスルホキシド含有排水について、共存
有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを選
択的に酸化してジメチルスルホンとすることができるジ
メチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置を
提供する。 【解決手段】ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法
において、排水のpHを９〜１４に調整して過酸化水素水
を添加する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水と
過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを９〜１４
に調整する処理方法、ジメチルスルホキシド含有排水の
pHを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加す
る機構を有する処理装置、及び、ジメチルスルホキシド
含有排水と過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合
排水のpHを９〜１４に調整する機構を有する処理装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジメチルスルホキ
シド含有排水の処理方法及び処理装置に関する。さらに
詳しくは、本発明は、半導体製造工場などにおいて発生
する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水に
ついて、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスル
ホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとするこ
とができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及
び処理装置に関する。
シド含有排水の処理方法及び処理装置に関する。さらに
詳しくは、本発明は、半導体製造工場などにおいて発生
する有機物が共存するジメチルスルホキシド含有排水に
ついて、共存有機物を酸化することなく、ジメチルスル
ホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとするこ
とができるジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及
び処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ジメチルスルホキシドを処理
する方法として、好気性条件下で生物分解する方法が知
られている。この方法によると、生物処理槽で嫌気条件
となった一部から毒性悪臭物質であるメチルメルカプタ
ンヤ硫化水素などが発生する。この対策として、あらか
じめジメチルスルホキシドを酸化してジメチルスルホン
やメタンスルホン酸などとしたのちに生物分解する方法
があり、この方法によれば生物処理槽で嫌気反応がおこ
っても、毒性悪臭物質の発生を抑えることができる。ジ
メチルスルホキシドの物理化学的な酸化処理方法として
は、フェントン処理酸化法や、オゾン酸化法、過酸化水
素酸化法、紫外線照射酸化法などを単独で、あるいは組
み合わせて用いて酸化する方法がある。しかし、フェン
トン処理酸化法によると、処理にあたって大量の鉄スラ
ッジが発生するという問題がある。また、オゾン酸化
法、過酸化水素酸化法、紫外線照射酸化法によると、ジ
メチルスルホキシド以外の有機物、例えば、イソプロピ
ルアルコールなどが共存する場合、酸化剤が共存有機物
の酸化に消費されてしまい、見かけ上ジメチルスルホキ
シドのジメチルスルホンへの酸化反応が阻害され、効率
的にジメチルスルホキシドを酸化することができない。
このために、高濃度の有機物が共存するジメチルスルホ
キシド含有排水を物理化学的に酸化処理しようとする場
合、あらかじめ共存する有機物を除去する前処理を必要
とした。
する方法として、好気性条件下で生物分解する方法が知
られている。この方法によると、生物処理槽で嫌気条件
となった一部から毒性悪臭物質であるメチルメルカプタ
ンヤ硫化水素などが発生する。この対策として、あらか
じめジメチルスルホキシドを酸化してジメチルスルホン
やメタンスルホン酸などとしたのちに生物分解する方法
があり、この方法によれば生物処理槽で嫌気反応がおこ
っても、毒性悪臭物質の発生を抑えることができる。ジ
メチルスルホキシドの物理化学的な酸化処理方法として
は、フェントン処理酸化法や、オゾン酸化法、過酸化水
素酸化法、紫外線照射酸化法などを単独で、あるいは組
み合わせて用いて酸化する方法がある。しかし、フェン
トン処理酸化法によると、処理にあたって大量の鉄スラ
ッジが発生するという問題がある。また、オゾン酸化
法、過酸化水素酸化法、紫外線照射酸化法によると、ジ
メチルスルホキシド以外の有機物、例えば、イソプロピ
ルアルコールなどが共存する場合、酸化剤が共存有機物
の酸化に消費されてしまい、見かけ上ジメチルスルホキ
シドのジメチルスルホンへの酸化反応が阻害され、効率
的にジメチルスルホキシドを酸化することができない。
このために、高濃度の有機物が共存するジメチルスルホ
キシド含有排水を物理化学的に酸化処理しようとする場
合、あらかじめ共存する有機物を除去する前処理を必要
とした。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、半導体製造
工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルス
ルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化するこ
となく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメ
チルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド
含有排水の処理方法及び処理装置を提供することを目的
としてなされたものである。
工場などにおいて発生する有機物が共存するジメチルス
ルホキシド含有排水について、共存有機物を酸化するこ
となく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメ
チルスルホンとすることができるジメチルスルホキシド
含有排水の処理方法及び処理装置を提供することを目的
としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ジメチルスルホキ
シド含有排水のpHを９以上として過酸化水素を添加する
ことにより、共存する有機物が酸化されることなく、ジ
メチルスルホキシドが選択的に酸化されてジメチルスル
ホンとなることを見いだし、この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。すなわち、本発明は、（１）ジメ
チルスルホキシドを含有する排水の処理方法において、
排水のpHを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加する
ことを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理
方法、（２）ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４
０〜９０℃に調整する第１項記載のジメチルスルホキシ
ド含有排水の処理方法、（３）ジメチルスルホキシド含
有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを
９〜１４に調整することを特徴とするジメチルスルホキ
シド含有排水の処理方法、（４）ジメチルスルホキシド
含有排水のpHを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素
水を添加する機構を有することを特徴とするジメチルス
ルホキシド含有排水の処理装置、（５）ジメチルスルホ
キシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を
有する第４項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処
理装置、及び、（６）ジメチルスルホキシド含有排水と
過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを
９〜１４に調整する機構を有することを特徴とするジメ
チルスルホキシド含有排水の処理装置、を提供するもの
である。さらに、本発明の好ましい態様として、（７）
過酸化水素水中の過酸化水素とジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドのモル比が、１：１〜
３：１である第１項記載のジメチルスルホキシド含有排
水の処理方法、及び、（８）過酸化水素含有排水中の過
酸化水素とジメチルスルホキシド含有排水中のジメチル
スルホキシドのモル比が、１：１〜３：１である第３項
記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、を挙
げることができる。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ジメチルスルホキ
シド含有排水のpHを９以上として過酸化水素を添加する
ことにより、共存する有機物が酸化されることなく、ジ
メチルスルホキシドが選択的に酸化されてジメチルスル
ホンとなることを見いだし、この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。すなわち、本発明は、（１）ジメ
チルスルホキシドを含有する排水の処理方法において、
排水のpHを９〜１４に調整して過酸化水素水を添加する
ことを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処理
方法、（２）ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４
０〜９０℃に調整する第１項記載のジメチルスルホキシ
ド含有排水の処理方法、（３）ジメチルスルホキシド含
有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpHを
９〜１４に調整することを特徴とするジメチルスルホキ
シド含有排水の処理方法、（４）ジメチルスルホキシド
含有排水のpHを９〜１４に調整する機構と、過酸化水素
水を添加する機構を有することを特徴とするジメチルス
ルホキシド含有排水の処理装置、（５）ジメチルスルホ
キシド含有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構を
有する第４項記載のジメチルスルホキシド含有排水の処
理装置、及び、（６）ジメチルスルホキシド含有排水と
過酸化水素含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを
９〜１４に調整する機構を有することを特徴とするジメ
チルスルホキシド含有排水の処理装置、を提供するもの
である。さらに、本発明の好ましい態様として、（７）
過酸化水素水中の過酸化水素とジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドのモル比が、１：１〜
３：１である第１項記載のジメチルスルホキシド含有排
水の処理方法、及び、（８）過酸化水素含有排水中の過
酸化水素とジメチルスルホキシド含有排水中のジメチル
スルホキシドのモル比が、１：１〜３：１である第３項
記載のジメチルスルホキシド含有排水の処理方法、を挙
げることができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のジメチルスルホキシド含
有排水の処理方法の第１の態様においては、排水のpHを
９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整して過酸化
水素水を添加する。本発明方法によれば、ジメチルスル
ホキシドと他の有機物が共存する場合であっても、ジメ
チルスルホキシドが選択的に酸化され、ジメチルスルホ
キシドを生物処理の容易なジメチルスルホンに効果的に
変換することができる。排水のpHが９未満であると、ジ
メチルスルホキシドの酸化反応速度が遅く、ジメチルス
ルホキシドの効果的な除去が困難となるおそれがある。
排水のpHが１４を超えると、過酸化水素が自己分解しや
すくなり、過酸化水素の利用効率が低下するおそれがあ
る。本発明方法により、共存する有機物を酸化すること
なく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチ
ルスルホンに変換することができるのは、次のような機
構によるものと考えられる。すなわち、過酸化水素Ｈ2
Ｏ2は、水中ではごく微弱な二塩基酸として存在し、水
素イオンＨ+とヒドロペルオキシイオンＨＯ2 -とに解離
して、式［１］に示す平衡が保たれる。２０℃における
解離定数Ｋ＝１.５×１０-12である。 Ｈ2Ｏ2 ⇔ Ｈ+ ＋ ＨＯ2 - …［１］ したがって、pHが低いときは、水中のヒドロペルオキシ
イオンの濃度は低く、pHが高くなると、水中のヒドロペ
ルオキシイオンの濃度は高くなる。水中のヒドロペルオ
キシイオンは、式［２］に示すように互いに反応して自
己分解する。 ２ＨＯ2 - → ２ＯＨ- ＋ Ｏ2 …［２］ また、ヒドロペルオキシイオンは、触媒やオゾンＯ3の
存在下でヒドロキシルラジカル・ＯＨを生成する。 ＨＯ2 - ＋ Ｏ3 → ・ＯＨ ＋ Ｏ2 - ＋ Ｏ2 …［３］ 通常、有機物の酸化分解は、有機物とヒドロキシラジカ
ルの反応によって起こる。しかし、ジメチルスルホキシ
ドのジメチルスルホンへの酸化には、式［１］で生成す
るヒドロペルオキシイオンが有効であり、さらに、ヒド
ロペルオキシイオンは、他の有機物とはほとんど反応し
ない。このために、ジメチルスルホキシド含有排水のpH
を９以上に調整して過酸化水素水を添加し、ヒドロキシ
ルラジカルの生成を抑えて、排水中のヒドロペルオキシ
イオンの濃度を高めることにより、排水中のジメチルス
ルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとする
ことができる。
有排水の処理方法の第１の態様においては、排水のpHを
９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整して過酸化
水素水を添加する。本発明方法によれば、ジメチルスル
ホキシドと他の有機物が共存する場合であっても、ジメ
チルスルホキシドが選択的に酸化され、ジメチルスルホ
キシドを生物処理の容易なジメチルスルホンに効果的に
変換することができる。排水のpHが９未満であると、ジ
メチルスルホキシドの酸化反応速度が遅く、ジメチルス
ルホキシドの効果的な除去が困難となるおそれがある。
排水のpHが１４を超えると、過酸化水素が自己分解しや
すくなり、過酸化水素の利用効率が低下するおそれがあ
る。本発明方法により、共存する有機物を酸化すること
なく、ジメチルスルホキシドを選択的に酸化してジメチ
ルスルホンに変換することができるのは、次のような機
構によるものと考えられる。すなわち、過酸化水素Ｈ2
Ｏ2は、水中ではごく微弱な二塩基酸として存在し、水
素イオンＨ+とヒドロペルオキシイオンＨＯ2 -とに解離
して、式［１］に示す平衡が保たれる。２０℃における
解離定数Ｋ＝１.５×１０-12である。 Ｈ2Ｏ2 ⇔ Ｈ+ ＋ ＨＯ2 - …［１］ したがって、pHが低いときは、水中のヒドロペルオキシ
イオンの濃度は低く、pHが高くなると、水中のヒドロペ
ルオキシイオンの濃度は高くなる。水中のヒドロペルオ
キシイオンは、式［２］に示すように互いに反応して自
己分解する。 ２ＨＯ2 - → ２ＯＨ- ＋ Ｏ2 …［２］ また、ヒドロペルオキシイオンは、触媒やオゾンＯ3の
存在下でヒドロキシルラジカル・ＯＨを生成する。 ＨＯ2 - ＋ Ｏ3 → ・ＯＨ ＋ Ｏ2 - ＋ Ｏ2 …［３］ 通常、有機物の酸化分解は、有機物とヒドロキシラジカ
ルの反応によって起こる。しかし、ジメチルスルホキシ
ドのジメチルスルホンへの酸化には、式［１］で生成す
るヒドロペルオキシイオンが有効であり、さらに、ヒド
ロペルオキシイオンは、他の有機物とはほとんど反応し
ない。このために、ジメチルスルホキシド含有排水のpH
を９以上に調整して過酸化水素水を添加し、ヒドロキシ
ルラジカルの生成を抑えて、排水中のヒドロペルオキシ
イオンの濃度を高めることにより、排水中のジメチルス
ルホキシドを選択的に酸化してジメチルスルホンとする
ことができる。
【０００６】本発明方法において、過酸化水素水の添加
量は、過酸化水素水とジメチルスルホキシドのモル比が
１：１〜３：１であることが好ましい。過酸化水素とジ
メチルスルホキシドのモル比が１：１未満であると、ジ
メチルスルホキシドの酸化が十分に進行しないおそれが
ある。過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比３：
１以下で十分な酸化反応が起こり、通常はモル比３：１
を超える過酸化水素は不要である。ジメチルスルホキシ
ド含有排水中のジメチルスルホキシド濃度をあらかじめ
分析し、過酸化水素水の添加量を選定することができ
る。本発明方法においては、ジメチルスルホキシド含有
排水の温度を４０〜９０℃に調整することが好ましく、
５０〜７０℃に調整することがより好ましい。ジメチル
スルホキシド含有排水を加熱して反応温度を４０〜９０
℃とすることにより、ジメチルスルホキシドの酸化反応
速度を高めて、ジメチルスルホキシドの除去率を向上す
ることができる。反応温度が４０℃未満であると、ジメ
チルスルホキシドの酸化反応に長時間を要するおそれが
ある。反応温度が９０℃を超えると、過酸化水素の自己
分解速度が大となり、過酸化水素が無駄に失われるおそ
れがある。本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処
理方法の第２の態様においては、ジメチルスルホキシド
含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpH
を９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整する。混
合排水のpHを９〜１４に調整することにより、ジメチル
スルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調整して過酸化
水素水を添加した場合と同様に、排水中のヒドロペルオ
キシイオンの濃度が高くなり、共存する有機物が酸化さ
れることなく、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化さ
れてジメチルスルホンに変換される。本態様は、ジメチ
ルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の両者が
排出される半導体工場などにおいて、特に好適に実施す
ることができる。過酸化水素含有排水中の過酸化水素
と、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホ
キシドは、モル比で１：１〜３：１であることが好まし
い。過酸化水素含有排水中の過酸化水素の量が不足する
場合は、過酸化水素含有排水の混合と過酸化水素水の添
加を併用することができる。本態様によれば、過酸化水
素含有排水を有効に利用し得るのみならず、過酸化水素
含有排水の処理費を節減することができる。
量は、過酸化水素水とジメチルスルホキシドのモル比が
１：１〜３：１であることが好ましい。過酸化水素とジ
メチルスルホキシドのモル比が１：１未満であると、ジ
メチルスルホキシドの酸化が十分に進行しないおそれが
ある。過酸化水素とジメチルスルホキシドのモル比３：
１以下で十分な酸化反応が起こり、通常はモル比３：１
を超える過酸化水素は不要である。ジメチルスルホキシ
ド含有排水中のジメチルスルホキシド濃度をあらかじめ
分析し、過酸化水素水の添加量を選定することができ
る。本発明方法においては、ジメチルスルホキシド含有
排水の温度を４０〜９０℃に調整することが好ましく、
５０〜７０℃に調整することがより好ましい。ジメチル
スルホキシド含有排水を加熱して反応温度を４０〜９０
℃とすることにより、ジメチルスルホキシドの酸化反応
速度を高めて、ジメチルスルホキシドの除去率を向上す
ることができる。反応温度が４０℃未満であると、ジメ
チルスルホキシドの酸化反応に長時間を要するおそれが
ある。反応温度が９０℃を超えると、過酸化水素の自己
分解速度が大となり、過酸化水素が無駄に失われるおそ
れがある。本発明のジメチルスルホキシド含有排水の処
理方法の第２の態様においては、ジメチルスルホキシド
含有排水と過酸化水素含有排水を混合し、混合排水のpH
を９〜１４、より好ましくは１０〜１２に調整する。混
合排水のpHを９〜１４に調整することにより、ジメチル
スルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調整して過酸化
水素水を添加した場合と同様に、排水中のヒドロペルオ
キシイオンの濃度が高くなり、共存する有機物が酸化さ
れることなく、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化さ
れてジメチルスルホンに変換される。本態様は、ジメチ
ルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水の両者が
排出される半導体工場などにおいて、特に好適に実施す
ることができる。過酸化水素含有排水中の過酸化水素
と、ジメチルスルホキシド含有排水中のジメチルスルホ
キシドは、モル比で１：１〜３：１であることが好まし
い。過酸化水素含有排水中の過酸化水素の量が不足する
場合は、過酸化水素含有排水の混合と過酸化水素水の添
加を併用することができる。本態様によれば、過酸化水
素含有排水を有効に利用し得るのみならず、過酸化水素
含有排水の処理費を節減することができる。
【０００７】本発明のジメチルスルホキシド含有排水の
処理装置の第１の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）含有排水のpHを９〜１４に調整する機構と、過酸
化水素水を添加する機構を有するものである。さらに、
本発明装置は、ジメチルスルホキシド含有排水の温度を
４０〜９０℃に調整する機構を有することが好ましい。
図１は、本発明装置の一態様の系統図である。撹拌機１
を備えた反応槽２に、ジメチルスルホキシド含有排水が
導入される。反応槽にはpHセンサー３が設けられ、pHセ
ンサーから制御器４に信号が送られ、さらに制御器から
ポンプ５に信号が送られて、反応槽中のジメチルスルホ
キシド含有排水のpHが９〜１４の間の所定の値となるよ
うに、アルカリ貯槽６に貯留されたアルカリが反応槽に
供給される。過酸化水素水は、ジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドの量に応じて、所定量
の過酸化水素が反応槽に添加されるように、ポンプ７に
より供給される。また、反応槽には温度センサー８が設
けられ、温度センサーから制御器９に信号が送られ、さ
らに制御器から調節弁１０に信号が送られて、反応槽中
のジメチルスルホキシド含有排水の温度が４０〜９０℃
の間の所定の値となるように、蒸気が反応槽に供給され
る。ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調
整するためのアルカリ添加機構には特に制限はなく、例
えば、pHが所定の値となるようにあらかじめポンプの吐
出流量を調整して一定量を注入する機構とすることがで
き、反応槽にpHセンサーを設け、その計測結果に基づい
てポンプの起動と停止により制御する機構とすることも
でき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽へ導入するた
めの自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御することもで
き、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設けpHセンサー
によるＰＩＤ制御をすることもできる。これらの機構の
中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と停止により制
御する機構は、設備費が安価で、制御が容易なので、特
に好適に用いることができる。過酸化水素水を添加する
機構に特に制限はなく、例えば、過酸化水素水貯槽より
過酸化水素水ポンプを使用して反応槽に添加する機構と
することができる。過酸化水素水の添加量は、ジメチル
スルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの濃度
をあらかじめ分析し、反応槽内における過酸化水素とジ
メチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１になるよ
うな添加量を算出し、その算出結果に基づいた注入量を
一定注入することが好ましい。ジメチルスルホキシド含
有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構に特に制限
はなく、例えば、温度センサーと制御器と調節弁を用い
て、反応槽に供給する蒸気の量を制御する機構とするこ
とができ、ジャケット付きの反応槽を用いて熱媒体によ
り加熱する機構とすることもでき、あるいは、電気的に
加熱する機構とすることもできる。本発明装置において
は、必要に応じて、反応速度を向上させるための触媒又
は触媒添加装置、過酸化水素の濃度を監視するための過
酸化水素濃度計又は酸化還元電位計、反応速度を向上さ
せるための電磁波装置、超音波発振器、加圧装置などを
設けることができる。
処理装置の第１の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）含有排水のpHを９〜１４に調整する機構と、過酸
化水素水を添加する機構を有するものである。さらに、
本発明装置は、ジメチルスルホキシド含有排水の温度を
４０〜９０℃に調整する機構を有することが好ましい。
図１は、本発明装置の一態様の系統図である。撹拌機１
を備えた反応槽２に、ジメチルスルホキシド含有排水が
導入される。反応槽にはpHセンサー３が設けられ、pHセ
ンサーから制御器４に信号が送られ、さらに制御器から
ポンプ５に信号が送られて、反応槽中のジメチルスルホ
キシド含有排水のpHが９〜１４の間の所定の値となるよ
うに、アルカリ貯槽６に貯留されたアルカリが反応槽に
供給される。過酸化水素水は、ジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドの量に応じて、所定量
の過酸化水素が反応槽に添加されるように、ポンプ７に
より供給される。また、反応槽には温度センサー８が設
けられ、温度センサーから制御器９に信号が送られ、さ
らに制御器から調節弁１０に信号が送られて、反応槽中
のジメチルスルホキシド含有排水の温度が４０〜９０℃
の間の所定の値となるように、蒸気が反応槽に供給され
る。ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜１４に調
整するためのアルカリ添加機構には特に制限はなく、例
えば、pHが所定の値となるようにあらかじめポンプの吐
出流量を調整して一定量を注入する機構とすることがで
き、反応槽にpHセンサーを設け、その計測結果に基づい
てポンプの起動と停止により制御する機構とすることも
でき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽へ導入するた
めの自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御することもで
き、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設けpHセンサー
によるＰＩＤ制御をすることもできる。これらの機構の
中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と停止により制
御する機構は、設備費が安価で、制御が容易なので、特
に好適に用いることができる。過酸化水素水を添加する
機構に特に制限はなく、例えば、過酸化水素水貯槽より
過酸化水素水ポンプを使用して反応槽に添加する機構と
することができる。過酸化水素水の添加量は、ジメチル
スルホキシド含有排水中のジメチルスルホキシドの濃度
をあらかじめ分析し、反応槽内における過酸化水素とジ
メチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１になるよ
うな添加量を算出し、その算出結果に基づいた注入量を
一定注入することが好ましい。ジメチルスルホキシド含
有排水の温度を４０〜９０℃に調整する機構に特に制限
はなく、例えば、温度センサーと制御器と調節弁を用い
て、反応槽に供給する蒸気の量を制御する機構とするこ
とができ、ジャケット付きの反応槽を用いて熱媒体によ
り加熱する機構とすることもでき、あるいは、電気的に
加熱する機構とすることもできる。本発明装置において
は、必要に応じて、反応速度を向上させるための触媒又
は触媒添加装置、過酸化水素の濃度を監視するための過
酸化水素濃度計又は酸化還元電位計、反応速度を向上さ
せるための電磁波装置、超音波発振器、加圧装置などを
設けることができる。
【０００８】本発明のジメチルスルホキシド含有排水の
処理装置の第２の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）含有排水と過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水を混合
する機構と、混合排水のpHを９〜１４に調整する機構を
有するものである。図２は、本発明装置の他の態様の系
統図である。撹拌機１１を備えた反応槽１２に、ジメチ
ルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水が導入さ
れ、撹拌により混合される。反応槽にはpHセンサー１３
が設けられ、pHセンサーから制御器１４に信号が送ら
れ、さらに制御器からポンプ１５に信号が送られて、反
応槽中の混合排水のpHが９〜１４の間の所定の値となる
ように、アルカリ貯槽１６に貯留されたアルカリが反応
槽に供給される。また、反応槽には温度センサー１７が
設けられ、温度センサーから制御器１８に信号が送ら
れ、さらに制御器から調節弁１９に信号が送られて、反
応槽中の混合排水の温度が４０〜９０℃の間の所定の値
となるように、蒸気が反応槽に供給される。本態様にお
いては、過酸化水素含有排水とジメチルスルホキシド含
有排水は、各排水に含まれる過酸化水素とジメチルスル
ホキシドの濃度を分析し、反応槽内における過酸化水素
とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１にな
るように混合することが好ましい。ジメチルスルホキシ
ド含有排水と過酸化水素含有排水の混合比率の調整手段
に特に制限はなく、例えば、各排水を反応槽に導入する
ための配管にそれぞれ流量計と流量調節弁を設け、各排
水の導入流量を調節することができ、各排水を反応槽の
前段で別々に貯留するタンクを設け、各タンクからポン
プにより反応槽へ各排水を導入する際に、ポンプの稼働
時間を制御して、各排水の導入量を制御することもで
き、あるいは、各排水を反応槽の前段で別々に貯留する
タンクを設け、各タンクからポンプにより反応槽へ各排
水を導入する際に、反応槽に設けた水位検出器により各
ポンプの起動と停止を制御して、各排水の導入量を制御
することもできる。
処理装置の第２の態様は、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）含有排水と過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水を混合
する機構と、混合排水のpHを９〜１４に調整する機構を
有するものである。図２は、本発明装置の他の態様の系
統図である。撹拌機１１を備えた反応槽１２に、ジメチ
ルスルホキシド含有排水と過酸化水素含有排水が導入さ
れ、撹拌により混合される。反応槽にはpHセンサー１３
が設けられ、pHセンサーから制御器１４に信号が送ら
れ、さらに制御器からポンプ１５に信号が送られて、反
応槽中の混合排水のpHが９〜１４の間の所定の値となる
ように、アルカリ貯槽１６に貯留されたアルカリが反応
槽に供給される。また、反応槽には温度センサー１７が
設けられ、温度センサーから制御器１８に信号が送ら
れ、さらに制御器から調節弁１９に信号が送られて、反
応槽中の混合排水の温度が４０〜９０℃の間の所定の値
となるように、蒸気が反応槽に供給される。本態様にお
いては、過酸化水素含有排水とジメチルスルホキシド含
有排水は、各排水に含まれる過酸化水素とジメチルスル
ホキシドの濃度を分析し、反応槽内における過酸化水素
とジメチルスルホキシドのモル比が１：１〜３：１にな
るように混合することが好ましい。ジメチルスルホキシ
ド含有排水と過酸化水素含有排水の混合比率の調整手段
に特に制限はなく、例えば、各排水を反応槽に導入する
ための配管にそれぞれ流量計と流量調節弁を設け、各排
水の導入流量を調節することができ、各排水を反応槽の
前段で別々に貯留するタンクを設け、各タンクからポン
プにより反応槽へ各排水を導入する際に、ポンプの稼働
時間を制御して、各排水の導入量を制御することもで
き、あるいは、各排水を反応槽の前段で別々に貯留する
タンクを設け、各タンクからポンプにより反応槽へ各排
水を導入する際に、反応槽に設けた水位検出器により各
ポンプの起動と停止を制御して、各排水の導入量を制御
することもできる。
【０００９】図３は、本発明装置の他の態様の系統図で
ある。本態様においては、反応槽２０の前段にジメチル
スルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水貯留タンク２１と過
酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水貯留タンク２２が設けら
れ、各タンクからポンプ２３及び２４により反応槽へ各
排水が導入される。反応槽には、受入開始レベルＬ、ジ
メチルスルホキシド含有排水受入レベルＭ及び過酸化水
素含有排水受入レベルＨに水位検出器が設けられてい
る。処理水を排出して水位が受入開始レベルＬまで下が
ると、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが起動し
て、ジメチルスルホキシド含有排水が反応槽に導入され
る。ジメチルスルホキシド含有排水が導入され、水位が
ジメチルスルホキシド含有排水受入レベルＭに達する
と、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが停止し、過
酸化水素含有排水ポンプが起動して、過酸化水素含有排
水が反応槽に導入される。過酸化水素含有排水が導入さ
れ、水位が過酸化水素含有排水受入レベルＨに達すると
過酸化水素含有排水ポンプが停止する。ジメチルスルホ
キシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合排水のpHを
９〜１４に調整するためのアルカリ添加機構には特に制
限はなく、例えば、pHが所定の値となるようにあらかじ
めポンプの吐出流量を調整して一定量を注入する機構と
することができ、反応槽にpHセンサーを設け、その計測
結果に基づいてポンプの起動と停止により制御する機構
とすることもでき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽
へ導入するための自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御
することもでき、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設
けpHセンサーによるＰＩＤ制御をすることもできる。こ
れらの機構の中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と
停止により制御する機構は、設備費が安価で、制御が容
易なので、特に好適に用いることができる。本態様の装
置においては、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化
水素含有排水の混合排水の温度を４０〜９０℃に調整す
る機構を設けることができる。混合排水の温度を４０〜
９０℃に調整する機構に特に制限はなく、例えば、温度
センサーと制御器と調節弁を用いて、反応槽に供給する
蒸気の量を制御する機構とすることができ、ジャケット
付きの反応槽を用いて熱媒体により加熱する機構とする
こともでき、あるいは、電気的に加熱する機構とするこ
ともできる。本発明方法及び装置によれば、ジメチルス
ルホキシドと他の共存する有機物を含有する排水、例え
ば、高濃度のイソプロピルアルコールを含有するジメチ
ルスルホキシド含有排水を処理して、共存する有機物を
酸化分解することなく、ジメチルスルホキシドを選択的
に酸化してジメチルスルホンとすることができるので、
ジメチルスルホキシド含有排水を生物処理する際の前処
理において、共存する有機物を除去する必要がなく、少
ないエネルギーと薬品で処理することができ、装置の単
純化とコストの低減を実現することができる。
ある。本態様においては、反応槽２０の前段にジメチル
スルホキシド（ＤＭＳＯ）含有排水貯留タンク２１と過
酸化水素（Ｈ2Ｏ2）含有排水貯留タンク２２が設けら
れ、各タンクからポンプ２３及び２４により反応槽へ各
排水が導入される。反応槽には、受入開始レベルＬ、ジ
メチルスルホキシド含有排水受入レベルＭ及び過酸化水
素含有排水受入レベルＨに水位検出器が設けられてい
る。処理水を排出して水位が受入開始レベルＬまで下が
ると、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが起動し
て、ジメチルスルホキシド含有排水が反応槽に導入され
る。ジメチルスルホキシド含有排水が導入され、水位が
ジメチルスルホキシド含有排水受入レベルＭに達する
と、ジメチルスルホキシド含有排水ポンプが停止し、過
酸化水素含有排水ポンプが起動して、過酸化水素含有排
水が反応槽に導入される。過酸化水素含有排水が導入さ
れ、水位が過酸化水素含有排水受入レベルＨに達すると
過酸化水素含有排水ポンプが停止する。ジメチルスルホ
キシド含有排水と過酸化水素含有排水の混合排水のpHを
９〜１４に調整するためのアルカリ添加機構には特に制
限はなく、例えば、pHが所定の値となるようにあらかじ
めポンプの吐出流量を調整して一定量を注入する機構と
することができ、反応槽にpHセンサーを設け、その計測
結果に基づいてポンプの起動と停止により制御する機構
とすることもでき、ポンプの代わりにアルカリを反応槽
へ導入するための自動弁を配管上に設けて弁を開閉制御
することもでき、さらに、自動弁の代わりに調節弁を設
けpHセンサーによるＰＩＤ制御をすることもできる。こ
れらの機構の中で、pHセンサーを用いてポンプの起動と
停止により制御する機構は、設備費が安価で、制御が容
易なので、特に好適に用いることができる。本態様の装
置においては、ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化
水素含有排水の混合排水の温度を４０〜９０℃に調整す
る機構を設けることができる。混合排水の温度を４０〜
９０℃に調整する機構に特に制限はなく、例えば、温度
センサーと制御器と調節弁を用いて、反応槽に供給する
蒸気の量を制御する機構とすることができ、ジャケット
付きの反応槽を用いて熱媒体により加熱する機構とする
こともでき、あるいは、電気的に加熱する機構とするこ
ともできる。本発明方法及び装置によれば、ジメチルス
ルホキシドと他の共存する有機物を含有する排水、例え
ば、高濃度のイソプロピルアルコールを含有するジメチ
ルスルホキシド含有排水を処理して、共存する有機物を
酸化分解することなく、ジメチルスルホキシドを選択的
に酸化してジメチルスルホンとすることができるので、
ジメチルスルホキシド含有排水を生物処理する際の前処
理において、共存する有機物を除去する必要がなく、少
ないエネルギーと薬品で処理することができ、装置の単
純化とコストの低減を実現することができる。
【００１０】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例１ 図１に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド３,５
００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH
６.０の水質を有するジメチルスルホキシド含有排水の
処理を行った。反応槽にジメチルスルホキシド含有排水
１２ｍ3を入れ、スチームを吹き込んで６０℃に昇温
し、水酸化ナトリウム水溶液を供給して、pHを１０.０
に調整した。次いで、３５重量％過酸化水素水１００kg
を添加し、６０℃を保ったまま１時間撹拌することによ
り、酸化処理を行った。処理水の水質は、過酸化水素
０.０重量％、ジメチルスルホキシド０mg／Ｌ、ジメチ
ルスルホン４,２００mg／Ｌ、メタンスルホン酸１０mg
／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH１０.０
であった。実施例１における排水及び処理水の水質を、
第１表に示す。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例１ 図１に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド３,５
００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH
６.０の水質を有するジメチルスルホキシド含有排水の
処理を行った。反応槽にジメチルスルホキシド含有排水
１２ｍ3を入れ、スチームを吹き込んで６０℃に昇温
し、水酸化ナトリウム水溶液を供給して、pHを１０.０
に調整した。次いで、３５重量％過酸化水素水１００kg
を添加し、６０℃を保ったまま１時間撹拌することによ
り、酸化処理を行った。処理水の水質は、過酸化水素
０.０重量％、ジメチルスルホキシド０mg／Ｌ、ジメチ
ルスルホン４,２００mg／Ｌ、メタンスルホン酸１０mg
／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量％、pH１０.０
であった。実施例１における排水及び処理水の水質を、
第１表に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】第１表に見られるように、処理水中にジメ
チルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタン
スルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化
されている。また、ジメチルスルホキシド含有排水中の
イソプロピルアルコールの濃度と、処理水中のイソプロ
ピルアルコールの濃度が等しいことから、イソプロピル
アルコールは酸化されず、ジメチルスルホキシドのみが
選択的に酸化されていることが分かる。 実施例２ 図２に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド含有排
水の処理を行った。反応槽にジメチルスルホキシド含有
排水１０ｍ3／ｈと過酸化水素含有排水３ｍ3／ｈを導入
し、処理水１３ｍ3／ｈを抜き出した。反応槽中の水量
は１３ｍ3なので、反応時間は１時間である。ジメチル
スルホキシド含有排水の水質は、ジメチルスルホキシド
３,５００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量
％、pH６.０であった。過酸化水素含有排水の水質は、
過酸化水素１.０重量％、硫酸１,０００mg／Ｌ、pH２.
２であった。反応槽内に設けたpHセンサーにより混合排
水のpHを測定し、制御器よりポンプに信号を送って水酸
化ナトリウム水溶液の供給量を制御し、混合排水のpHを
１０.０に保った。また、反応槽内に設けた温度センサ
ーにより混合排水の温度を測定し、制御器より調節弁に
信号を送って蒸気の供給量を制御し、混合排水の温度を
６０℃に保った。反応槽より抜き出した処理水の水質
は、過酸化水素０.０重量％、ジメチルスルホキシド０m
g／Ｌ、ジメチルスルホン３,２００mg／Ｌ、メタンスル
ホン酸８mg／Ｌ、イソプロピルアルコール２.３重量
％、pH１０.０であった。実施例２における各排水及び
処理水の水質を、第２表に示す。
チルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタン
スルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化
されている。また、ジメチルスルホキシド含有排水中の
イソプロピルアルコールの濃度と、処理水中のイソプロ
ピルアルコールの濃度が等しいことから、イソプロピル
アルコールは酸化されず、ジメチルスルホキシドのみが
選択的に酸化されていることが分かる。 実施例２ 図２に示す装置を用いて、ジメチルスルホキシド含有排
水の処理を行った。反応槽にジメチルスルホキシド含有
排水１０ｍ3／ｈと過酸化水素含有排水３ｍ3／ｈを導入
し、処理水１３ｍ3／ｈを抜き出した。反応槽中の水量
は１３ｍ3なので、反応時間は１時間である。ジメチル
スルホキシド含有排水の水質は、ジメチルスルホキシド
３,５００mg／Ｌ、イソプロピルアルコール３.０重量
％、pH６.０であった。過酸化水素含有排水の水質は、
過酸化水素１.０重量％、硫酸１,０００mg／Ｌ、pH２.
２であった。反応槽内に設けたpHセンサーにより混合排
水のpHを測定し、制御器よりポンプに信号を送って水酸
化ナトリウム水溶液の供給量を制御し、混合排水のpHを
１０.０に保った。また、反応槽内に設けた温度センサ
ーにより混合排水の温度を測定し、制御器より調節弁に
信号を送って蒸気の供給量を制御し、混合排水の温度を
６０℃に保った。反応槽より抜き出した処理水の水質
は、過酸化水素０.０重量％、ジメチルスルホキシド０m
g／Ｌ、ジメチルスルホン３,２００mg／Ｌ、メタンスル
ホン酸８mg／Ｌ、イソプロピルアルコール２.３重量
％、pH１０.０であった。実施例２における各排水及び
処理水の水質を、第２表に示す。
【００１３】
【表２】
【００１４】第２表に見られるように、処理水中にジメ
チルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタン
スルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化
されている。また、導入されたジメチルスルホキシド含
有排水中のイソプロピルアルコールの総量と、抜き出さ
れた処理水中のイソプロピルアルコールの総量がほぼ等
しいことから、イソプロピルアルコールはほとんど酸化
されず、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されてい
ることが分かる。 実施例３ ジメチルスルホキシド含有水のpHと、ジメチルスルホキ
シド除去率の関係をしらべた。ジメチルスルホキシド
５.００ｇに水を加えて全量を１Ｌとし、塩酸によりpH
を２に調整した。この溶液に３５重量％過酸化水素水１
２.５ｇを加え、６０℃で１０分撹拌したのち、ジメチ
ルスルホキシドの濃度を分析した。ジメチルスルホキシ
ドの濃度は４.７６ｇ／Ｌであり、ジメチルスルホキシ
ドの除去率４.８％であった。塩酸又は水酸化ナトリウ
ム水溶液によりpHを３〜１４に調整して、同じ操作を繰
り返した。pH９のとき、ジメチルスルホキシドの濃度
３.９０ｇ／Ｌ、除去率２２.０％、pH１０のとき、ジメ
チルスルホキシドの濃度３.００ｇ／Ｌ、除去率４０.０
％、pH１１のとき、ジメチルスルホキシドの濃度０.９
６ｇ／Ｌ、除去率８０.８％、pH１２のとき、ジメチル
スルホキシドの濃度０.１２ｇ／Ｌ、除去率９７.６％で
あった。実施例３におけるpHとジメチルスルホキシドの
濃度及び除去率の関係を、第３表に示す。
チルスルホキシドは含まれず、ジメチルスルホキシド含
有排水中のジメチルスルホキシドは、ごく少量のメタン
スルホン酸のほか、ほぼ全量がジメチルスルホンに酸化
されている。また、導入されたジメチルスルホキシド含
有排水中のイソプロピルアルコールの総量と、抜き出さ
れた処理水中のイソプロピルアルコールの総量がほぼ等
しいことから、イソプロピルアルコールはほとんど酸化
されず、ジメチルスルホキシドが選択的に酸化されてい
ることが分かる。 実施例３ ジメチルスルホキシド含有水のpHと、ジメチルスルホキ
シド除去率の関係をしらべた。ジメチルスルホキシド
５.００ｇに水を加えて全量を１Ｌとし、塩酸によりpH
を２に調整した。この溶液に３５重量％過酸化水素水１
２.５ｇを加え、６０℃で１０分撹拌したのち、ジメチ
ルスルホキシドの濃度を分析した。ジメチルスルホキシ
ドの濃度は４.７６ｇ／Ｌであり、ジメチルスルホキシ
ドの除去率４.８％であった。塩酸又は水酸化ナトリウ
ム水溶液によりpHを３〜１４に調整して、同じ操作を繰
り返した。pH９のとき、ジメチルスルホキシドの濃度
３.９０ｇ／Ｌ、除去率２２.０％、pH１０のとき、ジメ
チルスルホキシドの濃度３.００ｇ／Ｌ、除去率４０.０
％、pH１１のとき、ジメチルスルホキシドの濃度０.９
６ｇ／Ｌ、除去率８０.８％、pH１２のとき、ジメチル
スルホキシドの濃度０.１２ｇ／Ｌ、除去率９７.６％で
あった。実施例３におけるpHとジメチルスルホキシドの
濃度及び除去率の関係を、第３表に示す。
【００１５】
【表３】
【００１６】第３表に見られるように、ジメチルスルホ
キシドを含有する水が酸性である場合は、過酸化水素水
を加えてもジメチルスルホキシドの酸化はあまり進まな
いが、ジメチルスルホキシド含有水のpHが９以上になる
と、効果的に酸化が起こってジメチルスルホキシドが除
去されることが分かる。
キシドを含有する水が酸性である場合は、過酸化水素水
を加えてもジメチルスルホキシドの酸化はあまり進まな
いが、ジメチルスルホキシド含有水のpHが９以上になる
と、効果的に酸化が起こってジメチルスルホキシドが除
去されることが分かる。
【００１７】
【発明の効果】本発明方法及び装置によれば、有機物が
共存するジメチルスルホキシド含有排水であっても、共
存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを
選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができ
る。
共存するジメチルスルホキシド含有排水であっても、共
存有機物を酸化することなく、ジメチルスルホキシドを
選択的に酸化してジメチルスルホンとすることができ
る。
【図１】図１は、本発明装置の一態様の系統図である。
【図２】図２は、本発明装置の他の態様の系統図であ
る。
る。
【図３】図３は、本発明装置の他の態様の系統図であ
る。
る。
１ 撹拌機 ２ 反応槽 ３ pHセンサー ４ 制御器 ５ ポンプ ６ アルカリ貯槽 ７ ポンプ ８ 温度センサー ９ 制御器 １０ 調節弁 １１ 撹拌機 １２ 反応槽 １３ pHセンサー １４ 制御器 １５ ポンプ １６ アルカリ貯槽 １７ 温度センサー １８ 制御器 １９ 調節弁 ２０ 反応槽 ２１ ジメチルスルホキシド含有排水貯留タンク ２２ 過酸化水素含有排水貯留タンク ２３ ポンプ ２４ ポンプ
Claims (6)
- 【請求項１】ジメチルスルホキシドを含有する排水の処
理方法において、排水のpHを９〜１４に調整して過酸化
水素水を添加することを特徴とするジメチルスルホキシ
ド含有排水の処理方法。 - 【請求項２】ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４
０〜９０℃に調整する請求項１記載のジメチルスルホキ
シド含有排水の処理方法。 - 【請求項３】ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水
素含有排水を混合し、混合排水のpHを９〜１４に調整す
ることを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水の処
理方法。 - 【請求項４】ジメチルスルホキシド含有排水のpHを９〜
１４に調整する機構と、過酸化水素水を添加する機構を
有することを特徴とするジメチルスルホキシド含有排水
の処理装置。 - 【請求項５】ジメチルスルホキシド含有排水の温度を４
０〜９０℃に調整する機構を有する請求項４記載のジメ
チルスルホキシド含有排水の処理装置。 - 【請求項６】ジメチルスルホキシド含有排水と過酸化水
素含有排水を混合する機構と、混合排水のpHを９〜１４
に調整する機構を有することを特徴とするジメチルスル
ホキシド含有排水の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24927799A JP4508317B2 (ja) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24927799A JP4508317B2 (ja) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001070950A true JP2001070950A (ja) | 2001-03-21 |
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Family
ID=17190579
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24927799A Expired - Fee Related JP4508317B2 (ja) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | ジメチルスルホキシド含有排水の処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4508317B2 (ja) |
Citations (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49105775A (ja) * | 1973-02-12 | 1974-10-07 | ||
| JPS53128145A (en) * | 1977-04-14 | 1978-11-08 | Nippon Peroxide Co Ltd | Method of separating sludge materials |
| JPS54110650A (en) * | 1978-02-20 | 1979-08-30 | Sankyo Yuki Kk | Waste water disposal method |
| JPH0278487A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 廃水の連続処理方法 |
| JPH06508064A (ja) * | 1992-03-19 | 1994-09-14 | イーストマン コダック カンパニー | 有機化合物を含有する排液の処理方法 |
| JPH078971A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-13 | Kurita Water Ind Ltd | フッ化アンモニウム含有水の処理方法 |
| JPH07265890A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-17 | Sharp Corp | 有機硫黄化合物を含有する被処理水の処理方法とその装置 |
| JPH09271788A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Nec Corp | 有機物含有廃水の紫外線分解処理方法及び装置 |
| JPH10244280A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去装置 |
| JPH1142479A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Japan Organo Co Ltd | 排水処理方法 |
| JPH1199394A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去方法 |
| JPH11114584A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-04-27 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 水処理方法および水処理装置 |
| JPH11290878A (ja) * | 1998-02-16 | 1999-10-26 | Japan Organo Co Ltd | Ｔｏｃ成分除去の制御方法 |
| JPH11333473A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Nec Corp | スルホキシド類含有廃水の処理方法 |
| JP2000140865A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Nec Corp | スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 |
| JP2000279973A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-10 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有排水の酸化処理法 |
| JP2000279970A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Shinko Pantec Co Ltd | 有機硫黄化合物含有廃水の処理方法とその装置 |
| JP2000288495A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 洗浄方法 |
| JP2000317471A (ja) * | 1999-05-06 | 2000-11-21 | Kurita Water Ind Ltd | 有機性ｃｏｄ成分を含む水の処理方法 |
| JP2000343090A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-12-12 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
| JP2000350993A (ja) * | 1999-06-09 | 2000-12-19 | Kurita Water Ind Ltd | Ｄｍｓｏ含有水の処理装置及び半導体工場排水の処理設備 |
-
1999
- 1999-09-02 JP JP24927799A patent/JP4508317B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49105775A (ja) * | 1973-02-12 | 1974-10-07 | ||
| JPS53128145A (en) * | 1977-04-14 | 1978-11-08 | Nippon Peroxide Co Ltd | Method of separating sludge materials |
| JPS54110650A (en) * | 1978-02-20 | 1979-08-30 | Sankyo Yuki Kk | Waste water disposal method |
| JPH0278487A (ja) * | 1988-09-14 | 1990-03-19 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 廃水の連続処理方法 |
| JPH06508064A (ja) * | 1992-03-19 | 1994-09-14 | イーストマン コダック カンパニー | 有機化合物を含有する排液の処理方法 |
| JPH078971A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-13 | Kurita Water Ind Ltd | フッ化アンモニウム含有水の処理方法 |
| JPH07265890A (ja) * | 1994-03-29 | 1995-10-17 | Sharp Corp | 有機硫黄化合物を含有する被処理水の処理方法とその装置 |
| JPH09271788A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Nec Corp | 有機物含有廃水の紫外線分解処理方法及び装置 |
| JPH10244280A (ja) * | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去装置 |
| JPH1142479A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Japan Organo Co Ltd | 排水処理方法 |
| JPH1199394A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 水中の有機物除去方法 |
| JPH11114584A (ja) * | 1997-08-13 | 1999-04-27 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 水処理方法および水処理装置 |
| JPH11290878A (ja) * | 1998-02-16 | 1999-10-26 | Japan Organo Co Ltd | Ｔｏｃ成分除去の制御方法 |
| JPH11333473A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Nec Corp | スルホキシド類含有廃水の処理方法 |
| JP2000140865A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Nec Corp | スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 |
| JP2000279973A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-10 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有排水の酸化処理法 |
| JP2000279970A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-10 | Shinko Pantec Co Ltd | 有機硫黄化合物含有廃水の処理方法とその装置 |
| JP2000288495A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 洗浄方法 |
| JP2000343090A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-12-12 | Kurita Water Ind Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
| JP2000317471A (ja) * | 1999-05-06 | 2000-11-21 | Kurita Water Ind Ltd | 有機性ｃｏｄ成分を含む水の処理方法 |
| JP2000350993A (ja) * | 1999-06-09 | 2000-12-19 | Kurita Water Ind Ltd | Ｄｍｓｏ含有水の処理装置及び半導体工場排水の処理設備 |
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