JP2000140865A - スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 - Google Patents
スルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】有機排気からスルホキシド類有機硫黄化合物と
ともにアミン類有機化合物を除去することができ且つ有
害な化合物を生成しないスルホキシド類含有排気の処理
方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置を提供す
る。 【解決手段】スルホキシド類有機硫黄化合物含有排気を
洗浄水１２に接触させてスルホキシド類有機硫黄化合物
を溶解させる気液接触部２が設置されてなる洗浄塔１
と、洗浄水１２に過酸化水素を供給する過酸化水素供給
部０と、過酸化水素を含有する洗浄水１２に紫外線を照
射する紫外線ランプ１０が設置されてなる紫外線照射部
３とを有してなり、スルホキシド類有機硫黄化合物含有
排気を洗浄水１２に接触させてスルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させ、洗浄水１２に過酸化水素共存下紫外
線を照射しスルホキシド類有機硫黄化合物を分解する。
以上により上記目的を達成することができる。
ともにアミン類有機化合物を除去することができ且つ有
害な化合物を生成しないスルホキシド類含有排気の処理
方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置を提供す
る。 【解決手段】スルホキシド類有機硫黄化合物含有排気を
洗浄水１２に接触させてスルホキシド類有機硫黄化合物
を溶解させる気液接触部２が設置されてなる洗浄塔１
と、洗浄水１２に過酸化水素を供給する過酸化水素供給
部０と、過酸化水素を含有する洗浄水１２に紫外線を照
射する紫外線ランプ１０が設置されてなる紫外線照射部
３とを有してなり、スルホキシド類有機硫黄化合物含有
排気を洗浄水１２に接触させてスルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させ、洗浄水１２に過酸化水素共存下紫外
線を照射しスルホキシド類有機硫黄化合物を分解する。
以上により上記目的を達成することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スルホキシド類有
機硫黄化合物（Ｒ−ＳＯ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’は炭化水素
基）を汚染物として含有する有機排気の処理方法及び前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する有機排気の
処理装置に関する。
機硫黄化合物（Ｒ−ＳＯ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’は炭化水素
基）を汚染物として含有する有機排気の処理方法及び前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する有機排気の
処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、ジメチルスルホキシド（（Ｃ
Ｈ3）2ＳＯ：以下、「ＤＭＳＯ」と略す）は国内で年間
約３０００トン生産され、主にアクリル繊維、医薬・農
薬等の合成、染料・顔料用溶剤、又は剥離・洗浄剤等に
使用されている。近年、液晶パネルや半導体の製造工程
において、ＤＭＳＯを含有した洗浄剤が多く用いられて
おり、ＤＭＳＯが蒸発し気体又はミストとして空気中に
拡散するため、前記製造工程では、ＤＭＳＯを含む有機
排気が大量に空気中に放出される。しかしながら、この
ようなＤＭＳＯを含む有機排気をそのまま放出すること
は環境保全上不適当であるため、ＤＭＳＯを可能な限り
分解除去したのちに排出することが要求されている。
Ｈ3）2ＳＯ：以下、「ＤＭＳＯ」と略す）は国内で年間
約３０００トン生産され、主にアクリル繊維、医薬・農
薬等の合成、染料・顔料用溶剤、又は剥離・洗浄剤等に
使用されている。近年、液晶パネルや半導体の製造工程
において、ＤＭＳＯを含有した洗浄剤が多く用いられて
おり、ＤＭＳＯが蒸発し気体又はミストとして空気中に
拡散するため、前記製造工程では、ＤＭＳＯを含む有機
排気が大量に空気中に放出される。しかしながら、この
ようなＤＭＳＯを含む有機排気をそのまま放出すること
は環境保全上不適当であるため、ＤＭＳＯを可能な限り
分解除去したのちに排出することが要求されている。
【０００３】一般に、有機排気中から有機物を除去する
方法としては、活性炭やゼオライト等の多孔質体による
吸着や、溶媒への溶解後加熱下での触媒酸化及び燃焼処
理等が用いられている。特に、ＤＭＳＯのように比較的
沸点の高い有機物を含む有機排気を処理する場合、ＤＭ
ＳＯの水溶性の高い性質を利用して、水スクラバー式排
気処理法が用いられている。例えば、特開平７−１６３
８４１号には、水スクラバー式排気処理法を用いて有機
排気中のＤＭＳＯを除去する方法が開示されている。
方法としては、活性炭やゼオライト等の多孔質体による
吸着や、溶媒への溶解後加熱下での触媒酸化及び燃焼処
理等が用いられている。特に、ＤＭＳＯのように比較的
沸点の高い有機物を含む有機排気を処理する場合、ＤＭ
ＳＯの水溶性の高い性質を利用して、水スクラバー式排
気処理法が用いられている。例えば、特開平７−１６３
８４１号には、水スクラバー式排気処理法を用いて有機
排気中のＤＭＳＯを除去する方法が開示されている。
【０００４】特開平７−１６３８４１号に示される従来
の水スクラバー式排気処理法による有機排気の処理方法
を図５に示す。洗浄塔３１内に設置される気液接触部３
２で有機排気中のＤＭＳＯを洗浄水に溶解させたのち、
酸化剤である次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）を前
記洗浄水に添加するとともに、前記洗浄水のｐＨをｐＨ
コントローラ３３により測定し、必要であればｐＨ調整
剤（ＮａＯＨ）を添加することにより洗浄水のｐＨを強
塩基性に調整する。この場合、次亜塩素酸ナトリウムの
強い酸化力により、有機排気中のＤＭＳＯはジメチルス
ルホン（ＣＨ3）2ＳＯ2を経て、ジメチルスルホン酸
（ＣＨ3）2ＳＯ4となる。即ち、 （ＣＨ3）2ＳＯ ＋ ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ＮａＣｌ （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ２ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２ＮａＣｌ また、ジメチルスルホン酸は、塩基性条件下でモノメチ
ル硫酸ナトリウム塩Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4となり、酸性条件
下では水と反応し、アルコールと硫酸になる。 （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ＮａＯＨ → Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4 ＋ ＣＨ3ＯＨ （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２Ｈ2Ｏ → ２ＣＨ3ＯＨ ＋ Ｈ2ＳＯ4
の水スクラバー式排気処理法による有機排気の処理方法
を図５に示す。洗浄塔３１内に設置される気液接触部３
２で有機排気中のＤＭＳＯを洗浄水に溶解させたのち、
酸化剤である次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）を前
記洗浄水に添加するとともに、前記洗浄水のｐＨをｐＨ
コントローラ３３により測定し、必要であればｐＨ調整
剤（ＮａＯＨ）を添加することにより洗浄水のｐＨを強
塩基性に調整する。この場合、次亜塩素酸ナトリウムの
強い酸化力により、有機排気中のＤＭＳＯはジメチルス
ルホン（ＣＨ3）2ＳＯ2を経て、ジメチルスルホン酸
（ＣＨ3）2ＳＯ4となる。即ち、 （ＣＨ3）2ＳＯ ＋ ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ＮａＣｌ （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ２ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２ＮａＣｌ また、ジメチルスルホン酸は、塩基性条件下でモノメチ
ル硫酸ナトリウム塩Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4となり、酸性条件
下では水と反応し、アルコールと硫酸になる。 （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ＮａＯＨ → Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4 ＋ ＣＨ3ＯＨ （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２Ｈ2Ｏ → ２ＣＨ3ＯＨ ＋ Ｈ2ＳＯ4
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５に
示される従来の有機排気の処理方法においては次のよう
な問題点があった。一般に、液晶パネルや半導体の製造
工程において用いられているＤＭＳＯを含有する溶剤・
洗浄剤は一般に、主成分であるＤＭＳＯの他に、アミン
類有機化合物（Ｒ−ＮＨ2、Ｒ−ＮＨ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’
は主に炭化水素からなる基）を含有している。このアミ
ン類有機化合物はＤＭＳＯと同様、洗浄水に溶解させて
捕集することで分離除去される。前記アミン類有機化合
物は、一般に特有の臭気を有するため、ＤＭＳＯと同様
に前記アミン類有機化合物も排気中から除去することが
必要である。一方、従来の有機排気の処理方法において
は、ＤＭＳＯを酸化するために、ＤＭＳＯに対して等量
以上の強い酸化力を有する次亜塩素酸ナトリウム等の酸
化剤を使用する必要がある。この場合、洗浄水のｐＨが
強塩基性でないと、次亜塩素酸ナトリウムによるＤＭＳ
Ｏの酸化が十分に進行しない。しかしながら、洗浄水の
ｐＨが強塩基性になると、洗浄水に対するアミン類有機
化合物の溶解度が低くなるため、有機排気からアミン類
有機化合物を十分除去することができなかった。
示される従来の有機排気の処理方法においては次のよう
な問題点があった。一般に、液晶パネルや半導体の製造
工程において用いられているＤＭＳＯを含有する溶剤・
洗浄剤は一般に、主成分であるＤＭＳＯの他に、アミン
類有機化合物（Ｒ−ＮＨ2、Ｒ−ＮＨ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’
は主に炭化水素からなる基）を含有している。このアミ
ン類有機化合物はＤＭＳＯと同様、洗浄水に溶解させて
捕集することで分離除去される。前記アミン類有機化合
物は、一般に特有の臭気を有するため、ＤＭＳＯと同様
に前記アミン類有機化合物も排気中から除去することが
必要である。一方、従来の有機排気の処理方法において
は、ＤＭＳＯを酸化するために、ＤＭＳＯに対して等量
以上の強い酸化力を有する次亜塩素酸ナトリウム等の酸
化剤を使用する必要がある。この場合、洗浄水のｐＨが
強塩基性でないと、次亜塩素酸ナトリウムによるＤＭＳ
Ｏの酸化が十分に進行しない。しかしながら、洗浄水の
ｐＨが強塩基性になると、洗浄水に対するアミン類有機
化合物の溶解度が低くなるため、有機排気からアミン類
有機化合物を十分除去することができなかった。
【０００６】また、この場合、アミン類有機化合物の一
部が洗浄水に溶解したとしても、酸化剤である次亜塩素
酸ナトリウムが、アミン類有機化合物等のＤＭＳＯを含
む溶剤又は洗浄剤以外の成分と反応し、有害な有機塩素
化合物が生成してしまうという問題が生じていた。
部が洗浄水に溶解したとしても、酸化剤である次亜塩素
酸ナトリウムが、アミン類有機化合物等のＤＭＳＯを含
む溶剤又は洗浄剤以外の成分と反応し、有害な有機塩素
化合物が生成してしまうという問題が生じていた。
【０００７】さらに、上記の反応式において、ジメチル
スルホン（（ＣＨ3）2ＳＯ2）と次亜塩素酸ナトリウム
（ＮａＣｌＯ）との反応は、実際には次亜塩素酸ナトリ
ウム（ＮａＣｌＯ）の濃度が非常に高くなければ進行し
ない。しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムの濃度を非
常に高くして処理を行うと、処理中に有害な塩素ガスが
多く発生してしまうという問題が生じていた。
スルホン（（ＣＨ3）2ＳＯ2）と次亜塩素酸ナトリウム
（ＮａＣｌＯ）との反応は、実際には次亜塩素酸ナトリ
ウム（ＮａＣｌＯ）の濃度が非常に高くなければ進行し
ない。しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムの濃度を非
常に高くして処理を行うと、処理中に有害な塩素ガスが
多く発生してしまうという問題が生じていた。
【０００８】本発明は、以上の従来技術における問題に
鑑みてなされたものである。本発明の目的は、上記問題
点を解決し、有機排気からスルホキシド類有機硫黄化合
物とともにアミン類有機化合物を除去することが可能で
あり、且つ有害な化合物を生成しないスルホキシド類含
有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装
置を提供することである。
鑑みてなされたものである。本発明の目的は、上記問題
点を解決し、有機排気からスルホキシド類有機硫黄化合
物とともにアミン類有機化合物を除去することが可能で
あり、且つ有害な化合物を生成しないスルホキシド類含
有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装
置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本出
願第１の発明は、スルホキシド類有機硫黄化合物を含有
する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機
硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存
させて紫外線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物
を分解することを特徴とするスルホキシド類含有排気の
処理方法である。
願第１の発明は、スルホキシド類有機硫黄化合物を含有
する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機
硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存
させて紫外線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物
を分解することを特徴とするスルホキシド類含有排気の
処理方法である。
【００１０】上記構成を有する本出願第１の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗
浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射する場合の
前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解は、光反応に
よりヒドロキシラジカル（ＯＨ・）が生じ、これを前記
スルホキシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させ
て、悪臭を発生させないスルホン酸類が生じるものであ
る。さらに、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロ
キシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での
紫外線吸収が起こりやすくなると考えられる。以上によ
り、従来のスルホキシド類含有排気の処理方法とは異な
りスルホキシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナ
トリウムを使用する必要がないため、有害な化合物を生
成することなくスルホキシド類含有排気を処理すること
ができる。
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗
浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射する場合の
前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解は、光反応に
よりヒドロキシラジカル（ＯＨ・）が生じ、これを前記
スルホキシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させ
て、悪臭を発生させないスルホン酸類が生じるものであ
る。さらに、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロ
キシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での
紫外線吸収が起こりやすくなると考えられる。以上によ
り、従来のスルホキシド類含有排気の処理方法とは異な
りスルホキシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナ
トリウムを使用する必要がないため、有害な化合物を生
成することなくスルホキシド類含有排気を処理すること
ができる。
【００１１】また、本出願第２の発明のスルホキシド類
含有排気の処理方法は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄
化合物及び前記アミン類有機化合物を溶解させ、前記洗
浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホ
キシド類有機硫黄化合物を分解することを特徴とするス
ルホキシド類含有排気の処理方法である。
含有排気の処理方法は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄
化合物及び前記アミン類有機化合物を溶解させ、前記洗
浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホ
キシド類有機硫黄化合物を分解することを特徴とするス
ルホキシド類含有排気の処理方法である。
【００１２】上記構成を有する本出願第２の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホ
キシド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を
溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線
を照射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の
分解は、光反応によりヒドロキシラジカルが生じ、これ
を前記スルホキシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応
させて、悪臭を発生させないスルホン酸類が生じるもの
である。さらに、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒ
ドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分
での紫外線吸収が起こりやすくなると考えられる。以上
により、従来のスルホキシド類含有排気の処理方法とは
異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素
酸ナトリウムを使用する必要がないため、有害な化合物
を生成することなくスルホキシド類含有排気を処理する
ことができる。また、この場合洗浄水は生成したスルホ
ン酸類を含むためｐＨ酸性であるので、一般に塩基性を
有するアミン類有機化合物の洗浄水への溶解度が向上す
るため、前記排気からアミン類有機化合物を効果的に除
去することができる。さらに、
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホ
キシド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を
溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線
を照射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の
分解は、光反応によりヒドロキシラジカルが生じ、これ
を前記スルホキシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応
させて、悪臭を発生させないスルホン酸類が生じるもの
である。さらに、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒ
ドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分
での紫外線吸収が起こりやすくなると考えられる。以上
により、従来のスルホキシド類含有排気の処理方法とは
異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素
酸ナトリウムを使用する必要がないため、有害な化合物
を生成することなくスルホキシド類含有排気を処理する
ことができる。また、この場合洗浄水は生成したスルホ
ン酸類を含むためｐＨ酸性であるので、一般に塩基性を
有するアミン類有機化合物の洗浄水への溶解度が向上す
るため、前記排気からアミン類有機化合物を効果的に除
去することができる。さらに、
【００１３】水溶液中に過酸化水素を共存させる場合に
は、紫外線照射による光反応によってヒドロキシラジカ
ル（ＯＨ・）が生じ、これがスルホキシド類の炭素−硫
黄結合解離部分と反応し、その結果スルホン酸類（Ｒ−
ＳＯ3Ｈ）が生じる。紫外線は電磁波の一種であり、比
較的短波長（１００〜４００ｎｍ）の領域のものであ
り、波長が短いほど高いエネルギーを有している。紫外
線を照射することにより、スルホキシド類有機硫黄化合
物の炭素−硫黄結合を解離させることができるため、ス
ルホキシド類有機硫黄化合物をスルホン酸類へと直ちに
変換することができる。
は、紫外線照射による光反応によってヒドロキシラジカ
ル（ＯＨ・）が生じ、これがスルホキシド類の炭素−硫
黄結合解離部分と反応し、その結果スルホン酸類（Ｒ−
ＳＯ3Ｈ）が生じる。紫外線は電磁波の一種であり、比
較的短波長（１００〜４００ｎｍ）の領域のものであ
り、波長が短いほど高いエネルギーを有している。紫外
線を照射することにより、スルホキシド類有機硫黄化合
物の炭素−硫黄結合を解離させることができるため、ス
ルホキシド類有機硫黄化合物をスルホン酸類へと直ちに
変換することができる。
【００１４】また、本出願第３の発明のスルホキシド類
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド
類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置されて
なる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する過酸
化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫
外線を照射する紫外線ランプが設置されてなる紫外線照
射部とを有してなることを特徴とする。
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド
類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置されて
なる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する過酸
化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫
外線を照射する紫外線ランプが設置されてなる紫外線照
射部とを有してなることを特徴とする。
【００１５】上記構成を有する本出願第３の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接
触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水
素を供給する過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有す
る前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線ランプが設置さ
れてなる紫外線照射部とを有してなる。上記装置を用い
ることにより、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫
外線を照射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合
物の分解が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光
反応によりヒドロキシラジカルが生じ、これを前記スル
ホキシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させて、悪
臭を発生させないスルホン酸類が生じるものである。さ
らに、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロキシラ
ジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での紫外線
吸収が起こりやすくなると考えられる。以上により、従
来の装置とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の分
解に次亜塩素酸ナトリウムを使用しないため、有害な化
合物を生成することなくスルホキシド類含有排気を処理
がすることができる。
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接
触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水
素を供給する過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有す
る前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線ランプが設置さ
れてなる紫外線照射部とを有してなる。上記装置を用い
ることにより、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫
外線を照射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合
物の分解が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光
反応によりヒドロキシラジカルが生じ、これを前記スル
ホキシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させて、悪
臭を発生させないスルホン酸類が生じるものである。さ
らに、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロキシラ
ジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での紫外線
吸収が起こりやすくなると考えられる。以上により、従
来の装置とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の分
解に次亜塩素酸ナトリウムを使用しないため、有害な化
合物を生成することなくスルホキシド類含有排気を処理
がすることができる。
【００１６】また、本出願第４の発明のスルホキシド類
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄
化合物及び前記アミン類有機化合物を溶解させる気液接
触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水
素を供給する過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有す
る前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線ランプとを有し
てなることを特徴とする。
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄
化合物及び前記アミン類有機化合物を溶解させる気液接
触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水
素を供給する過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有す
る前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線ランプとを有し
てなることを特徴とする。
【００１７】上記構成を有する本出願第４の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホ
キシド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を
溶解させる気液接触部が設置されてなる洗浄塔と、過酸
化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線
ランプとを有してなることにより、前記洗浄水に過酸化
水素を共存させて紫外線を照射する場合の前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物の分解が前記紫外線照射部で起こ
る。前記分解は、光反応によりヒドロキシラジカルが生
じ、これを前記スルホキシド類の炭素−硫黄結合解離部
分と反応させて、悪臭を発生させないスルホン酸類が生
じるものである。さらに、洗浄水中に共存する過酸化水
素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄
結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考えられ
る。以上により、従来の装置とは異なりスルホキシド類
有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用し
ないため、有害な化合物を生成することなくスルホキシ
ド類含有排気を処理がすることができる。さらに、この
場合洗浄水は生成したスルホン酸類を含むためｐＨ酸性
であるので、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物
の洗浄水への溶解度が向上するため、前記排気からアミ
ン類有機化合物を除去することができる。
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホ
キシド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を
溶解させる気液接触部が設置されてなる洗浄塔と、過酸
化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線
ランプとを有してなることにより、前記洗浄水に過酸化
水素を共存させて紫外線を照射する場合の前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物の分解が前記紫外線照射部で起こ
る。前記分解は、光反応によりヒドロキシラジカルが生
じ、これを前記スルホキシド類の炭素−硫黄結合解離部
分と反応させて、悪臭を発生させないスルホン酸類が生
じるものである。さらに、洗浄水中に共存する過酸化水
素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫黄
結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考えられ
る。以上により、従来の装置とは異なりスルホキシド類
有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用し
ないため、有害な化合物を生成することなくスルホキシ
ド類含有排気を処理がすることができる。さらに、この
場合洗浄水は生成したスルホン酸類を含むためｐＨ酸性
であるので、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物
の洗浄水への溶解度が向上するため、前記排気からアミ
ン類有機化合物を除去することができる。
【００１８】また、本出願第５の発明のスルホキシド類
含有排気の処理装置は、本出願第３又は本出願第４の発
明ののスルホキシド類含有排気の処理装置であって、紫
外線照射部が気液接触部内に設けられてなることを特徴
とする。
含有排気の処理装置は、本出願第３又は本出願第４の発
明ののスルホキシド類含有排気の処理装置であって、紫
外線照射部が気液接触部内に設けられてなることを特徴
とする。
【００１９】上記構成を有する本出願第５の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理装置によると、紫外線照射部
が気液接触部内に設けられてなることにより、紫外線照
射部に設けられた紫外線ランプからの紫外線の照射をス
ルホキシド類有機硫黄化合物の分解のためだけでなく洗
浄水中の生物繁殖の抑制のために用いることができるた
め、より長期間洗浄水を使用することができ洗浄水の交
換回数を減らすことができる。これにより、スルホキシ
ド類含有排気の処理の低コスト化を図ることができる。
ホキシド類含有排気の処理装置によると、紫外線照射部
が気液接触部内に設けられてなることにより、紫外線照
射部に設けられた紫外線ランプからの紫外線の照射をス
ルホキシド類有機硫黄化合物の分解のためだけでなく洗
浄水中の生物繁殖の抑制のために用いることができるた
め、より長期間洗浄水を使用することができ洗浄水の交
換回数を減らすことができる。これにより、スルホキシ
ド類含有排気の処理の低コスト化を図ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下、本発明
の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明するが、以
下の実施の形態は本発明に係る一例にすぎない。図１
は、本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の概略図である。図２は、本実施の形態に係るスル
ホキシド類含有排気の処理を工程順に示すフローチャー
トである。
の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明するが、以
下の実施の形態は本発明に係る一例にすぎない。図１
は、本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の概略図である。図２は、本実施の形態に係るスル
ホキシド類含有排気の処理を工程順に示すフローチャー
トである。
【００２１】本実施の形態に係るスルホキシド類含有排
気の処理方法及び処理装置を図１及び図２を参照して説
明する。本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置は図１に示すように、スルホキシド類有機硫黄
化合物を含有する有機排気を導入する洗浄塔１、有機排
気と洗浄水１２を接触させスルホキシド類有機硫黄化合
物を洗浄水１２に溶解させる気液接触部２、洗浄水１２
に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部０、過酸化水
素が添加された洗浄水１２に紫外線を照射して洗浄水１
２中に溶解したスルホキシド類有機硫黄化合物を分解す
る紫外線照射部３、及び気液接触部２からｐＨ調整槽４
を経て紫外線照射部３との間で洗浄水１２を循環させる
循環系１７により構成される。気液接触部２は洗浄塔１
内に設置され、気液接触部２の下部には洗浄水１２が貯
蔵されている。過酸化酸素供給部０は、洗浄水１２のｐ
Ｈを調整するｐＨ調整槽４、ｐＨ調整槽４に過酸化水素
を供給する過酸化水素貯槽７、洗浄水１２のｐＨを測定
するｐＨコントローラ５、及び洗浄水１２のＯＲＰ（ｏ
ｘｉｄａｔｉｏｎ−ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ−ｐｏｔｅｎｔ
ｉａｌ：酸化還元電位）を測定し二酸化炭素の添加量を
調整するＯＲＰコントローラ６からなる。気液接触部２
と紫外線照射部３、気液接触部２とｐＨ調整槽４、ｐＨ
調整槽４と過酸化水素貯槽７、及び紫外線照射部３とｐ
Ｈ調整槽４はそれぞれラインにより接続されており、ｐ
Ｈコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６はそれぞ
れ、循環系１７の気液接触部２とｐＨ調整槽４とを結ぶ
ライン上に設けられる。紫外線照射部３は紫外線ランプ
１０と石英製反応槽１１からなり、石英製反応槽１１に
洗浄水１２が導入され、紫外線が紫外線ランプ１０から
照射される。
気の処理方法及び処理装置を図１及び図２を参照して説
明する。本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置は図１に示すように、スルホキシド類有機硫黄
化合物を含有する有機排気を導入する洗浄塔１、有機排
気と洗浄水１２を接触させスルホキシド類有機硫黄化合
物を洗浄水１２に溶解させる気液接触部２、洗浄水１２
に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部０、過酸化水
素が添加された洗浄水１２に紫外線を照射して洗浄水１
２中に溶解したスルホキシド類有機硫黄化合物を分解す
る紫外線照射部３、及び気液接触部２からｐＨ調整槽４
を経て紫外線照射部３との間で洗浄水１２を循環させる
循環系１７により構成される。気液接触部２は洗浄塔１
内に設置され、気液接触部２の下部には洗浄水１２が貯
蔵されている。過酸化酸素供給部０は、洗浄水１２のｐ
Ｈを調整するｐＨ調整槽４、ｐＨ調整槽４に過酸化水素
を供給する過酸化水素貯槽７、洗浄水１２のｐＨを測定
するｐＨコントローラ５、及び洗浄水１２のＯＲＰ（ｏ
ｘｉｄａｔｉｏｎ−ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ−ｐｏｔｅｎｔ
ｉａｌ：酸化還元電位）を測定し二酸化炭素の添加量を
調整するＯＲＰコントローラ６からなる。気液接触部２
と紫外線照射部３、気液接触部２とｐＨ調整槽４、ｐＨ
調整槽４と過酸化水素貯槽７、及び紫外線照射部３とｐ
Ｈ調整槽４はそれぞれラインにより接続されており、ｐ
Ｈコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６はそれぞ
れ、循環系１７の気液接触部２とｐＨ調整槽４とを結ぶ
ライン上に設けられる。紫外線照射部３は紫外線ランプ
１０と石英製反応槽１１からなり、石英製反応槽１１に
洗浄水１２が導入され、紫外線が紫外線ランプ１０から
照射される。
【００２２】次に、本実施の形態に係るスルホキシド類
含有排気の処理装置の動作について図１を参照して詳細
に説明する。スルホキシド類有機硫黄化合物及び少なく
とも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機排気を
吹込口８から洗浄塔１に導入し、気液接触部２で前記有
機排気を洗浄水１２と接触させることで有機排気中の水
溶性成分（スルホキシド類有機硫黄化合物及びアミン類
有機化合物を含む）を洗浄水１２に溶解させることによ
り、有機排気中から前記水溶性成分を除去し（図２のス
テップ１）、清浄空気１４として排気口９から放出する
（図２のステップ２）。一方、スルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させた洗浄水１２はｐＨ調整槽４に導入さ
れ、過酸化水素を添加し（図２のステップ３）、必要で
あればｐＨ調整を行った後、前記洗浄水１２を紫外線照
射部３に導入する。紫外線照射部３において、洗浄水１
２に紫外線照射を行い、洗浄水１２中のスルホキシド類
有機硫黄化合物をスルホン酸類に分解する（図２のステ
ップ４）。また、洗浄水１２はｐＨ調整槽４に送られ、
ｐＨコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６でｐＨと
ＯＲＰを調整された後、循環系１７で気液接触部２に循
環送水される。以上の工程により洗浄水１２中からスル
ホキシド類有機硫黄化合物が除去された結果、洗浄水１
２中にはスルホン酸類及びアミン類有機化合物が残り、
処理を繰り返す毎に洗浄水１２中にこれらが蓄積されて
ゆくため、洗浄水１２は適宜交換される。なお、本実施
の形態においては、スルホキシド類有機硫黄化合物及び
少なくとも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機
排気の処理を示したが、前記有機排気にアミン類有機化
合物が含まれていない場合においても同様に、有機排気
中からスルホキシド類有機硫黄化合物を除去することが
可能である。
含有排気の処理装置の動作について図１を参照して詳細
に説明する。スルホキシド類有機硫黄化合物及び少なく
とも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機排気を
吹込口８から洗浄塔１に導入し、気液接触部２で前記有
機排気を洗浄水１２と接触させることで有機排気中の水
溶性成分（スルホキシド類有機硫黄化合物及びアミン類
有機化合物を含む）を洗浄水１２に溶解させることによ
り、有機排気中から前記水溶性成分を除去し（図２のス
テップ１）、清浄空気１４として排気口９から放出する
（図２のステップ２）。一方、スルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させた洗浄水１２はｐＨ調整槽４に導入さ
れ、過酸化水素を添加し（図２のステップ３）、必要で
あればｐＨ調整を行った後、前記洗浄水１２を紫外線照
射部３に導入する。紫外線照射部３において、洗浄水１
２に紫外線照射を行い、洗浄水１２中のスルホキシド類
有機硫黄化合物をスルホン酸類に分解する（図２のステ
ップ４）。また、洗浄水１２はｐＨ調整槽４に送られ、
ｐＨコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６でｐＨと
ＯＲＰを調整された後、循環系１７で気液接触部２に循
環送水される。以上の工程により洗浄水１２中からスル
ホキシド類有機硫黄化合物が除去された結果、洗浄水１
２中にはスルホン酸類及びアミン類有機化合物が残り、
処理を繰り返す毎に洗浄水１２中にこれらが蓄積されて
ゆくため、洗浄水１２は適宜交換される。なお、本実施
の形態においては、スルホキシド類有機硫黄化合物及び
少なくとも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機
排気の処理を示したが、前記有機排気にアミン類有機化
合物が含まれていない場合においても同様に、有機排気
中からスルホキシド類有機硫黄化合物を除去することが
可能である。
【００２３】
【実施例】次に、本実施の形態の実施例を、図面を参照
して詳細に説明する。図３は、実施例のスルホキシド類
含有排気の処理方法及び処理装置を示す。本実施例に係
るスルホキシド類含有排気の処理装置の構成は、図１に
示す本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の構成とほぼ同様であるが、洗浄水１２を排水する
際に過酸化水素を処理する過酸化水素除去槽２２が排水
口１８に設置されている点が異なる。これにより、排水
から過酸化水素を除去することができる。また、紫外線
ランプ２１０、及び石英製反応槽１１を用いて洗浄水１
２に紫外線を照射する。本実施例においては、有機排気
に含まれるスルホキシド類有機硫黄化合物がジメチルス
ルホキシド２１３である場合を示す。なお、本実施例に
おいて、本実施の形態と同様の機能を有する部分は同じ
符号で示す。
して詳細に説明する。図３は、実施例のスルホキシド類
含有排気の処理方法及び処理装置を示す。本実施例に係
るスルホキシド類含有排気の処理装置の構成は、図１に
示す本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の構成とほぼ同様であるが、洗浄水１２を排水する
際に過酸化水素を処理する過酸化水素除去槽２２が排水
口１８に設置されている点が異なる。これにより、排水
から過酸化水素を除去することができる。また、紫外線
ランプ２１０、及び石英製反応槽１１を用いて洗浄水１
２に紫外線を照射する。本実施例においては、有機排気
に含まれるスルホキシド類有機硫黄化合物がジメチルス
ルホキシド２１３である場合を示す。なお、本実施例に
おいて、本実施の形態と同様の機能を有する部分は同じ
符号で示す。
【００２４】次に、本発明の実施例に係るスルホキシド
類含有排気の処理装置の動作及びスルホキシド類含有排
気の処理工程について、図３を参照して説明する。ジメ
チルスルホキシド及び少なくとも１種類以上のアミン類
有機化合物を含む有機排気２１３を洗浄塔１に導入し、
気液接触部２でジメチルスルホキシド及びアミン類有機
化合物を洗浄水に接触させて溶解させる。ジメチルスル
ホキシドを溶解した洗浄水１２にジメチルスルホキシド
に対し等量以上の過酸化水素を添加し、紫外線照射部３
で紫外線を照射し、ジメチルスルホキシドをメタンスル
ホン酸に分解する。その後、ｐＨ調整槽４において、ｐ
Ｈコントローラ５によりｐＨを４以下に調整し、ＯＲＰ
の変化をＯＲＰコントローラ６で測定し、過酸化水素濃
度が不足しないよう、ジメチルスルホキシドからメタン
スルホン酸への反応で消費された過酸化水素を過酸化水
素貯槽７より添加する。また、洗浄水１２は水質を調整
されたのち、循環系１７により再び気液接触部２に送液
する。
類含有排気の処理装置の動作及びスルホキシド類含有排
気の処理工程について、図３を参照して説明する。ジメ
チルスルホキシド及び少なくとも１種類以上のアミン類
有機化合物を含む有機排気２１３を洗浄塔１に導入し、
気液接触部２でジメチルスルホキシド及びアミン類有機
化合物を洗浄水に接触させて溶解させる。ジメチルスル
ホキシドを溶解した洗浄水１２にジメチルスルホキシド
に対し等量以上の過酸化水素を添加し、紫外線照射部３
で紫外線を照射し、ジメチルスルホキシドをメタンスル
ホン酸に分解する。その後、ｐＨ調整槽４において、ｐ
Ｈコントローラ５によりｐＨを４以下に調整し、ＯＲＰ
の変化をＯＲＰコントローラ６で測定し、過酸化水素濃
度が不足しないよう、ジメチルスルホキシドからメタン
スルホン酸への反応で消費された過酸化水素を過酸化水
素貯槽７より添加する。また、洗浄水１２は水質を調整
されたのち、循環系１７により再び気液接触部２に送液
する。
【００２５】本実施例において、ジメチルスルホキシド
及びアミン類有機化合物が洗浄水１２に溶解するととも
に、過酸化水素を共存させて紫外線を照射することによ
り、ヒドロキシラジカルを生じさせ、これがジメチルス
ルホキシドと反応することによりメタンスルホン酸に変
換される。さらにこの場合、洗浄水中に共存する過酸化
水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫
黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考えら
れる。以上により、ジメチルスルホキシド及びアミン類
有機化合物を有機排気から効果的に除去することができ
る。
及びアミン類有機化合物が洗浄水１２に溶解するととも
に、過酸化水素を共存させて紫外線を照射することによ
り、ヒドロキシラジカルを生じさせ、これがジメチルス
ルホキシドと反応することによりメタンスルホン酸に変
換される。さらにこの場合、洗浄水中に共存する過酸化
水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫
黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考えら
れる。以上により、ジメチルスルホキシド及びアミン類
有機化合物を有機排気から効果的に除去することができ
る。
【００２６】（第２の実施形態）次に、本発明の他の実
施の形態について図面を参照して説明する。図４は本発
明の第２の実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置及び処理方法を示す図である。本実施の形態に
おいては、本発明の第１の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置及び処理方法の構成とほぼ同様
であるが、洗浄塔１内部の気液接触部２下部に紫外線照
射部４３が設けられている点が異なる。すなわち、図４
に示すように、紫外線ランプ１０を洗浄塔１内の気液接
触部２下部の洗浄水１２内に設置することで、紫外線が
洗浄水１２に常に照射されるため、前記照射により洗浄
水１２中に存在するスルホキシド類有機硫黄化合物の分
解を行うことができるだけでなく、洗浄水１２中の生物
繁殖を抑制することができる。
施の形態について図面を参照して説明する。図４は本発
明の第２の実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置及び処理方法を示す図である。本実施の形態に
おいては、本発明の第１の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置及び処理方法の構成とほぼ同様
であるが、洗浄塔１内部の気液接触部２下部に紫外線照
射部４３が設けられている点が異なる。すなわち、図４
に示すように、紫外線ランプ１０を洗浄塔１内の気液接
触部２下部の洗浄水１２内に設置することで、紫外線が
洗浄水１２に常に照射されるため、前記照射により洗浄
水１２中に存在するスルホキシド類有機硫黄化合物の分
解を行うことができるだけでなく、洗浄水１２中の生物
繁殖を抑制することができる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明に係るスルホ
キシド類含有排気の処理方法によれば、スルホキシド類
有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄
水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホキ
シド類有機硫黄化合物を分解することにより、光反応に
よりヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシ
ド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸
類を生じさせる。さらにこの場合、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来のスルホキシド類含有排
気の処理方法とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物
の分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用する必要がないた
め、有害な化合物を生成することなくスルホキシド類含
有排気を処理することができる。さらに、この場合洗浄
水は生成したスルホン酸類によりｐＨ酸性であるので、
有機排気中にアミン類有機化合物が含まれている場合に
は、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物の洗浄水
への溶解度が向上するため、前記有機排気からアミン類
有機化合物を効果的に除去することができる。
キシド類含有排気の処理方法によれば、スルホキシド類
有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄
水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホキ
シド類有機硫黄化合物を分解することにより、光反応に
よりヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシ
ド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸
類を生じさせる。さらにこの場合、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来のスルホキシド類含有排
気の処理方法とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物
の分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用する必要がないた
め、有害な化合物を生成することなくスルホキシド類含
有排気を処理することができる。さらに、この場合洗浄
水は生成したスルホン酸類によりｐＨ酸性であるので、
有機排気中にアミン類有機化合物が含まれている場合に
は、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物の洗浄水
への溶解度が向上するため、前記有機排気からアミン類
有機化合物を効果的に除去することができる。
【００２８】また、本発明に係るスルホキシド類含有排
気の処理装置によれば、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する有機排気を洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置さ
れてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する
過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水
に紫外線を照射する紫外線ランプとを有してなることに
より、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照
射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解
が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光反応によ
りヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシド
類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸類
を生じさせるものである。さらに、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来の装置とは異なりスルホ
キシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウム
を使用しないため、有害な化合物を生成することなくス
ルホキシド類含有排気を処理がすることができる。さら
に、この場合洗浄水は生成したスルホン酸類によりｐＨ
酸性であるので、一般に塩基性を有するアミン類有機化
合物の洗浄水への溶解度が向上するため、前記有機排気
からアミン類有機化合物を除去することができる。
気の処理装置によれば、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する有機排気を洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置さ
れてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する
過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水
に紫外線を照射する紫外線ランプとを有してなることに
より、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照
射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解
が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光反応によ
りヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシド
類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸類
を生じさせるものである。さらに、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来の装置とは異なりスルホ
キシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウム
を使用しないため、有害な化合物を生成することなくス
ルホキシド類含有排気を処理がすることができる。さら
に、この場合洗浄水は生成したスルホン酸類によりｐＨ
酸性であるので、一般に塩基性を有するアミン類有機化
合物の洗浄水への溶解度が向上するため、前記有機排気
からアミン類有機化合物を除去することができる。
【図１】 本発明の第１の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
【図２】 本発明の一実施の形態に係るスルホキシド類
含有排気の処理を工程順に示すフローチャートである。
含有排気の処理を工程順に示すフローチャートである。
【図３】 本発明の実施例１に係るスルホキシド類含有
排気の処理装置の概略図である。
排気の処理装置の概略図である。
【図４】 本発明の第２の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
【図５】 従来のスルホキシド類含有排気の処理装置の
概略図である。
概略図である。
０ 過酸化水素供給部 １・３１ 洗浄塔 ２・３２ 気液接触部 ３・４３ 紫外線照射部 ４ ｐＨ調整槽 ５・３５ ｐＨコントローラ ６ ＯＲＰコントローラ ７ 過酸化水素貯槽 ８・３８ 吹込口 ９・３９ 排気口 １０ 紫外線ランプ １１ 石英製反応槽 １２・３１２ 洗浄水 １３・３１３ スルホキシド類及びアミン類含有有機排
気 １４・３１４ 清浄空気 １５ スルホン酸類有機硫黄化合物 １６・３１６ アミン類有機化合物 １７ 循環系 １８ 排水口 ２１ 過酸化水素分解槽 ２１３・３１３ ジメチルスルホキシド及びアミン類含
有有機排気 ２１５ メタンスルホン酸 ３１７ ＮａＣｌＯ水溶液槽 ３１８ ＮａＯＨ水溶液槽 ３１９ ジメチルスルホン酸
気 １４・３１４ 清浄空気 １５ スルホン酸類有機硫黄化合物 １６・３１６ アミン類有機化合物 １７ 循環系 １８ 排水口 ２１ 過酸化水素分解槽 ２１３・３１３ ジメチルスルホキシド及びアミン類含
有有機排気 ２１５ メタンスルホン酸 ３１７ ＮａＣｌＯ水溶液槽 ３１８ ＮａＯＨ水溶液槽 ３１９ ジメチルスルホン酸
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１０月１８日（１９９９．１０．
１８）
１８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 スルホキシド類含有排気の処理方法及
びスルホキシド類含有排気の処理装置
びスルホキシド類含有排気の処理装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スルホキシド類有
機硫黄化合物（Ｒ−ＳＯ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’は炭化水素
基）を汚染物として含有する有機排気の処理方法及び前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する有機排気の
処理装置に関する。
機硫黄化合物（Ｒ−ＳＯ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’は炭化水素
基）を汚染物として含有する有機排気の処理方法及び前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する有機排気の
処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、ジメチルスルホキシド（（Ｃ
Ｈ3）2ＳＯ：以下、「ＤＭＳＯ」と略す）は国内で年間
約３０００トン生産され、主にアクリル繊維、医薬・農
薬等の合成、染料・顔料用溶剤、又は剥離・洗浄剤等に
使用されている。近年、液晶パネルや半導体の製造工程
において、ＤＭＳＯを含有した洗浄剤が多く用いられて
おり、ＤＭＳＯが蒸発し気体又はミストとして空気中に
拡散するため、前記製造工程では、ＤＭＳＯを含む有機
排気が大量に空気中に放出される。しかしながら、この
ようなＤＭＳＯを含む有機排気をそのまま放出すること
は環境保全上不適当であるため、ＤＭＳＯを可能な限り
分解除去したのちに排出することが要求されている。
Ｈ3）2ＳＯ：以下、「ＤＭＳＯ」と略す）は国内で年間
約３０００トン生産され、主にアクリル繊維、医薬・農
薬等の合成、染料・顔料用溶剤、又は剥離・洗浄剤等に
使用されている。近年、液晶パネルや半導体の製造工程
において、ＤＭＳＯを含有した洗浄剤が多く用いられて
おり、ＤＭＳＯが蒸発し気体又はミストとして空気中に
拡散するため、前記製造工程では、ＤＭＳＯを含む有機
排気が大量に空気中に放出される。しかしながら、この
ようなＤＭＳＯを含む有機排気をそのまま放出すること
は環境保全上不適当であるため、ＤＭＳＯを可能な限り
分解除去したのちに排出することが要求されている。
【０００３】一般に、有機排気中から有機物を除去する
方法としては、活性炭やゼオライト等の多孔質体による
吸着や、溶媒への溶解後加熱下での触媒酸化及び燃焼処
理等が用いられている。特に、ＤＭＳＯのように比較的
沸点の高い有機物を含む有機排気を処理する場合、ＤＭ
ＳＯの水溶性の高い性質を利用して、水スクラバー式排
気処理法が用いられている。例えば、特開平７−１６３
８４１号には、水スクラバー式排気処理法を用いて有機
排気中のＤＭＳＯを除去する方法が開示されている。
方法としては、活性炭やゼオライト等の多孔質体による
吸着や、溶媒への溶解後加熱下での触媒酸化及び燃焼処
理等が用いられている。特に、ＤＭＳＯのように比較的
沸点の高い有機物を含む有機排気を処理する場合、ＤＭ
ＳＯの水溶性の高い性質を利用して、水スクラバー式排
気処理法が用いられている。例えば、特開平７−１６３
８４１号には、水スクラバー式排気処理法を用いて有機
排気中のＤＭＳＯを除去する方法が開示されている。
【０００４】特開平７−１６３８４１号に示される従来
の水スクラバー式排気処理法による有機排気の処理方法
を図５に示す。洗浄塔３１内に設置される気液接触部３
２で有機排気中のＤＭＳＯを洗浄水に溶解させたのち、
酸化剤である次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）を前
記洗浄水に添加するとともに、前記洗浄水のｐＨをｐＨ
コントローラ３３により測定し、必要であればｐＨ調整
剤（ＮａＯＨ）を添加することにより洗浄水のｐＨを強
塩基性に調整する。この場合、次亜塩素酸ナトリウムの
強い酸化力により、有機排気中のＤＭＳＯはジメチルス
ルホン（ＣＨ3）2ＳＯ2を経て、ジメチルスルホン酸
（ＣＨ3）2ＳＯ4となる。即ち、 （ＣＨ3）2ＳＯ ＋ ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ＮａＣｌ （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ２ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２ＮａＣｌ また、ジメチルスルホン酸は、塩基性条件下でモノメチ
ル硫酸ナトリウム塩Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4となり、酸性条件
下では水と反応し、アルコールと硫酸になる。 （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ＮａＯＨ → Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4 ＋ ＣＨ3ＯＨ （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２Ｈ2Ｏ → ２ＣＨ3ＯＨ ＋ Ｈ2ＳＯ4
の水スクラバー式排気処理法による有機排気の処理方法
を図５に示す。洗浄塔３１内に設置される気液接触部３
２で有機排気中のＤＭＳＯを洗浄水に溶解させたのち、
酸化剤である次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）を前
記洗浄水に添加するとともに、前記洗浄水のｐＨをｐＨ
コントローラ３３により測定し、必要であればｐＨ調整
剤（ＮａＯＨ）を添加することにより洗浄水のｐＨを強
塩基性に調整する。この場合、次亜塩素酸ナトリウムの
強い酸化力により、有機排気中のＤＭＳＯはジメチルス
ルホン（ＣＨ3）2ＳＯ2を経て、ジメチルスルホン酸
（ＣＨ3）2ＳＯ4となる。即ち、 （ＣＨ3）2ＳＯ ＋ ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ＮａＣｌ （ＣＨ3）2ＳＯ2 ＋ ２ＮａＣｌＯ → （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２ＮａＣｌ また、ジメチルスルホン酸は、塩基性条件下でモノメチ
ル硫酸ナトリウム塩Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4となり、酸性条件
下では水と反応し、アルコールと硫酸になる。 （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ＮａＯＨ → Ｎａ・ＣＨ3ＳＯ4 ＋ ＣＨ3ＯＨ （ＣＨ3）2ＳＯ4 ＋ ２Ｈ2Ｏ → ２ＣＨ3ＯＨ ＋ Ｈ2ＳＯ4
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５に
示される従来の有機排気の処理方法においては次のよう
な問題点があった。一般に、液晶パネルや半導体の製造
工程において用いられているＤＭＳＯを含有する溶剤・
洗浄剤は一般に、主成分であるＤＭＳＯの他に、アミン
類有機化合物（Ｒ−ＮＨ2、Ｒ−ＮＨ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’
は主に炭化水素からなる基）を含有している。このアミ
ン類有機化合物はＤＭＳＯと同様、洗浄水に溶解させて
捕集することで分離除去される。前記アミン類有機化合
物は、一般に特有の臭気を有するため、ＤＭＳＯと同様
に前記アミン類有機化合物も排気中から除去することが
必要である。一方、従来の有機排気の処理方法において
は、ＤＭＳＯを酸化するために、ＤＭＳＯに対して等量
以上の強い酸化力を有する次亜塩素酸ナトリウム等の酸
化剤を使用する必要がある。この場合、洗浄水のｐＨが
強塩基性でないと、次亜塩素酸ナトリウムによるＤＭＳ
Ｏの酸化が十分に進行しない。しかしながら、洗浄水の
ｐＨが強塩基性になると、洗浄水に対するアミン類有機
化合物の溶解度が低くなるため、有機排気からアミン類
有機化合物を十分除去することができなかった。
示される従来の有機排気の処理方法においては次のよう
な問題点があった。一般に、液晶パネルや半導体の製造
工程において用いられているＤＭＳＯを含有する溶剤・
洗浄剤は一般に、主成分であるＤＭＳＯの他に、アミン
類有機化合物（Ｒ−ＮＨ2、Ｒ−ＮＨ−Ｒ’：Ｒ、Ｒ’
は主に炭化水素からなる基）を含有している。このアミ
ン類有機化合物はＤＭＳＯと同様、洗浄水に溶解させて
捕集することで分離除去される。前記アミン類有機化合
物は、一般に特有の臭気を有するため、ＤＭＳＯと同様
に前記アミン類有機化合物も排気中から除去することが
必要である。一方、従来の有機排気の処理方法において
は、ＤＭＳＯを酸化するために、ＤＭＳＯに対して等量
以上の強い酸化力を有する次亜塩素酸ナトリウム等の酸
化剤を使用する必要がある。この場合、洗浄水のｐＨが
強塩基性でないと、次亜塩素酸ナトリウムによるＤＭＳ
Ｏの酸化が十分に進行しない。しかしながら、洗浄水の
ｐＨが強塩基性になると、洗浄水に対するアミン類有機
化合物の溶解度が低くなるため、有機排気からアミン類
有機化合物を十分除去することができなかった。
【０００６】また、この場合、アミン類有機化合物の一
部が洗浄水に溶解したとしても、酸化剤である次亜塩素
酸ナトリウムが、アミン類有機化合物等のＤＭＳＯを含
む溶剤又は洗浄剤以外の成分と反応し、有害な有機塩素
化合物が生成してしまうという問題が生じていた。
部が洗浄水に溶解したとしても、酸化剤である次亜塩素
酸ナトリウムが、アミン類有機化合物等のＤＭＳＯを含
む溶剤又は洗浄剤以外の成分と反応し、有害な有機塩素
化合物が生成してしまうという問題が生じていた。
【０００７】さらに、上記の反応式において、ジメチル
スルホン（（ＣＨ3）2ＳＯ2）と次亜塩素酸ナトリウム
（ＮａＣｌＯ）との反応は、実際には次亜塩素酸ナトリ
ウム（ＮａＣｌＯ）の濃度が非常に高くなければ進行し
ない。しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムの濃度を非
常に高くして処理を行うと、処理中に有害な塩素ガスが
多く発生してしまうという問題が生じていた。
スルホン（（ＣＨ3）2ＳＯ2）と次亜塩素酸ナトリウム
（ＮａＣｌＯ）との反応は、実際には次亜塩素酸ナトリ
ウム（ＮａＣｌＯ）の濃度が非常に高くなければ進行し
ない。しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムの濃度を非
常に高くして処理を行うと、処理中に有害な塩素ガスが
多く発生してしまうという問題が生じていた。
【０００８】本発明は、以上の従来技術における問題に
鑑みてなされたものである。本発明の目的は、上記問題
点を解決し、有機排気からスルホキシド類有機硫黄化合
物とともにアミン類有機化合物を除去することが可能で
あり、且つ有害な化合物を生成しないスルホキシド類含
有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装
置を提供することである。
鑑みてなされたものである。本発明の目的は、上記問題
点を解決し、有機排気からスルホキシド類有機硫黄化合
物とともにアミン類有機化合物を除去することが可能で
あり、且つ有害な化合物を生成しないスルホキシド類含
有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装
置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本出
願第１の発明は、スルホキシド類有機硫黄化合物を含有
する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機
硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存
させて、気液接触部内に設けられてなる紫外線照射部で
紫外線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分解
することを特徴とするスルホキシド類含有排気の処理方
法である。
願第１の発明は、スルホキシド類有機硫黄化合物を含有
する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機
硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存
させて、気液接触部内に設けられてなる紫外線照射部で
紫外線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分解
することを特徴とするスルホキシド類含有排気の処理方
法である。
【００１０】上記構成を有する本出願第１の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗
浄水に過酸化水素を共存させて、気液接触部内に設けら
れてなる紫外線照射部で紫外線を照射する場合の前記ス
ルホキシド類有機硫黄化合物の分解は、光反応によりヒ
ドロキシラジカル（ＯＨ・）が生じ、これを前記スルホ
キシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させて、悪臭
を発生させないスルホン酸類が生じるものである。さら
に、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロキシラジ
カル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での紫外線吸
収が起こりやすくなると考えられる。以上により、従来
のスルホキシド類含有排気の処理方法とは異なりスルホ
キシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウム
を使用する必要がないため、有害な化合物を生成するこ
となくスルホキシド類含有排気を処理することができ
る。また、紫外線照射部が気液接触部内に設けられてな
ることにより、紫外線照射部に設けられた紫外線ランプ
からの紫外線の照射をスルホキシド類有機硫黄化合物の
分解のためだけでなく洗浄水中の生物繁殖の抑制のため
に用いることができる。従って、より長期間洗浄水を使
用することができ洗浄水の交換回数を減らすことがで
き、その結果として、スルホキシド類含有排気の処理の
低コスト化を図ることができる。
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗
浄水に過酸化水素を共存させて、気液接触部内に設けら
れてなる紫外線照射部で紫外線を照射する場合の前記ス
ルホキシド類有機硫黄化合物の分解は、光反応によりヒ
ドロキシラジカル（ＯＨ・）が生じ、これを前記スルホ
キシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させて、悪臭
を発生させないスルホン酸類が生じるものである。さら
に、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロキシラジ
カル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での紫外線吸
収が起こりやすくなると考えられる。以上により、従来
のスルホキシド類含有排気の処理方法とは異なりスルホ
キシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウム
を使用する必要がないため、有害な化合物を生成するこ
となくスルホキシド類含有排気を処理することができ
る。また、紫外線照射部が気液接触部内に設けられてな
ることにより、紫外線照射部に設けられた紫外線ランプ
からの紫外線の照射をスルホキシド類有機硫黄化合物の
分解のためだけでなく洗浄水中の生物繁殖の抑制のため
に用いることができる。従って、より長期間洗浄水を使
用することができ洗浄水の交換回数を減らすことがで
き、その結果として、スルホキシド類含有排気の処理の
低コスト化を図ることができる。
【００１１】また、本出願第２の発明のスルホキシド類
含有排気の処理方法は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を溶
解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を
照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分解すること
を特徴とするスルホキシド類含有排気の処理方法であ
る。
含有排気の処理方法は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を溶
解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を
照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分解すること
を特徴とするスルホキシド類含有排気の処理方法であ
る。
【００１２】上記構成を有する本出願第２の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触さ
せて前記スルホキシド類有機硫黄化合物及び前記アミン
類有機化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共
存させて紫外線を照射する場合の前記スルホキシド類有
機硫黄化合物の分解は、光反応によりヒドロキシラジカ
ルが生じ、これを前記スルホキシド類の炭素−硫黄結合
解離部分と反応させて、悪臭を発生させないスルホン酸
類が生じるものである。さらに、洗浄水中に共存する過
酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素
−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考
えられる。以上により、従来のスルホキシド類含有排気
の処理方法とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の
分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用する必要がないた
め、有害な化合物を生成することなくスルホキシド類含
有排気を処理することができる。また、この場合洗浄水
は生成したスルホン酸類を含むためｐＨ酸性であるの
で、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物の洗浄水
への溶解度が向上するため、前記排気からアミン類有機
化合物を効果的に除去することができる。さらに、ま
た、紫外線照射部が気液接触部内に設けられてなること
により、紫外線照射部に設けられた紫外線ランプからの
紫外線の照射をスルホキシド類有機硫黄化合物の分解の
ためだけでなく洗浄水中の生物繁殖の抑制のために用い
ることができる。従って、より長期間洗浄水を使用する
ことができ洗浄水の交換回数を減らすことができ、その
結果として、スルホキシド類含有排気の処理の低コスト
化を図ることができる。
ホキシド類含有排気の処理方法によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触さ
せて前記スルホキシド類有機硫黄化合物及び前記アミン
類有機化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共
存させて紫外線を照射する場合の前記スルホキシド類有
機硫黄化合物の分解は、光反応によりヒドロキシラジカ
ルが生じ、これを前記スルホキシド類の炭素−硫黄結合
解離部分と反応させて、悪臭を発生させないスルホン酸
類が生じるものである。さらに、洗浄水中に共存する過
酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素
−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考
えられる。以上により、従来のスルホキシド類含有排気
の処理方法とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の
分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用する必要がないた
め、有害な化合物を生成することなくスルホキシド類含
有排気を処理することができる。また、この場合洗浄水
は生成したスルホン酸類を含むためｐＨ酸性であるの
で、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物の洗浄水
への溶解度が向上するため、前記排気からアミン類有機
化合物を効果的に除去することができる。さらに、ま
た、紫外線照射部が気液接触部内に設けられてなること
により、紫外線照射部に設けられた紫外線ランプからの
紫外線の照射をスルホキシド類有機硫黄化合物の分解の
ためだけでなく洗浄水中の生物繁殖の抑制のために用い
ることができる。従って、より長期間洗浄水を使用する
ことができ洗浄水の交換回数を減らすことができ、その
結果として、スルホキシド類含有排気の処理の低コスト
化を図ることができる。
【００１３】水溶液中に過酸化水素を共存させる場合に
は、紫外線照射による光反応によってヒドロキシラジカ
ル（ＯＨ・）が生じ、これがスルホキシド類の炭素−硫
黄結合解離部分と反応し、その結果スルホン酸類（Ｒ−
ＳＯ3Ｈ）が生じる。紫外線は電磁波の一種であり、比
較的短波長（１００〜４００ｎｍ）の領域のものであ
り、波長が短いほど高いエネルギーを有している。紫外
線を照射することにより、スルホキシド類有機硫黄化合
物の炭素−硫黄結合を解離させることができるため、ス
ルホキシド類有機硫黄化合物をスルホン酸類へと直ちに
変換することができる。
は、紫外線照射による光反応によってヒドロキシラジカ
ル（ＯＨ・）が生じ、これがスルホキシド類の炭素−硫
黄結合解離部分と反応し、その結果スルホン酸類（Ｒ−
ＳＯ3Ｈ）が生じる。紫外線は電磁波の一種であり、比
較的短波長（１００〜４００ｎｍ）の領域のものであ
り、波長が短いほど高いエネルギーを有している。紫外
線を照射することにより、スルホキシド類有機硫黄化合
物の炭素−硫黄結合を解離させることができるため、ス
ルホキシド類有機硫黄化合物をスルホン酸類へと直ちに
変換することができる。
【００１４】また、本出願第３の発明のスルホキシド類
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド
類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置されて
なる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する過酸
化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫
外線を照射する紫外線ランプが設置されてなる紫外線照
射部とを有してなり、前記紫外線照射部が気液接触部内
に設けられてなることを特徴とする。
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド
類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置されて
なる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する過酸
化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫
外線を照射する紫外線ランプが設置されてなる紫外線照
射部とを有してなり、前記紫外線照射部が気液接触部内
に設けられてなることを特徴とする。
【００１５】上記構成を有する本出願第３の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接
触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水
素を供給する過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有す
る前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線ランプが設置さ
れてなる紫外線照射部とを有してなり、前記紫外線照射
部が気液接触部内に設けられてなる。上記装置を用いる
ことにより、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外
線を照射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物
の分解が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光反
応によりヒドロキシラジカルが生じ、これを前記スルホ
キシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させて、悪臭
を発生させないスルホン酸類が生じるものである。さら
に、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロキシラジ
カル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での紫外線吸
収が起こりやすくなると考えられる。以上により、従来
の装置とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の分解
に次亜塩素酸ナトリウムを使用しないため、有害な化合
物を生成することなくスルホキシド類含有排気を処理が
することができる。
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて
前記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接
触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水
素を供給する過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有す
る前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線ランプが設置さ
れてなる紫外線照射部とを有してなり、前記紫外線照射
部が気液接触部内に設けられてなる。上記装置を用いる
ことにより、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外
線を照射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物
の分解が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光反
応によりヒドロキシラジカルが生じ、これを前記スルホ
キシド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させて、悪臭
を発生させないスルホン酸類が生じるものである。さら
に、洗浄水中に共存する過酸化水素又はヒドロキシラジ
カル（ＯＨ・）により炭素−硫黄結合部分での紫外線吸
収が起こりやすくなると考えられる。以上により、従来
の装置とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物の分解
に次亜塩素酸ナトリウムを使用しないため、有害な化合
物を生成することなくスルホキシド類含有排気を処理が
することができる。
【００１６】また、本出願第４の発明のスルホキシド類
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を溶
解させる気液接触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗
浄水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部と、過酸
化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線
ランプとを有してなることを特徴とする。
含有排気の処理装置は、スルホキシド類有機硫黄化合物
及び少なくとも１種類のアミン類有機化合物を含有する
排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物及び前記アミン類有機化合物を溶
解させる気液接触部が設置されてなる洗浄塔と、前記洗
浄水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部と、過酸
化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線
ランプとを有してなることを特徴とする。
【００１７】上記構成を有する本出願第４の発明のスル
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触さ
せて前記スルホキシド類有機硫黄化合物及び前記アミン
類有機化合物を溶解させる気液接触部が設置されてなる
洗浄塔と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を
照射する紫外線ランプとを有してなることにより、前記
洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射する場合
の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解が前記紫外
線照射部で起こる。前記分解は、光反応によりヒドロキ
シラジカルが生じ、これを前記スルホキシド類の炭素−
硫黄結合解離部分と反応させて、悪臭を発生させないス
ルホン酸類が生じるものである。さらに、洗浄水中に共
存する過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）に
より炭素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすく
なると考えられる。以上により、従来の装置とは異なり
スルホキシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナト
リウムを使用しないため、有害な化合物を生成すること
なくスルホキシド類含有排気を処理がすることができ
る。さらに、この場合洗浄水は生成したスルホン酸類を
含むためｐＨ酸性であるので、一般に塩基性を有するア
ミン類有機化合物の洗浄水への溶解度が向上するため、
前記排気からアミン類有機化合物を除去することができ
る。
ホキシド類含有排気の処理装置によると、スルホキシド
類有機硫黄化合物及び少なくとも１種類のアミン類有機
化合物を含有する排気をｐＨが４以下の洗浄水に接触さ
せて前記スルホキシド類有機硫黄化合物及び前記アミン
類有機化合物を溶解させる気液接触部が設置されてなる
洗浄塔と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を
照射する紫外線ランプとを有してなることにより、前記
洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射する場合
の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解が前記紫外
線照射部で起こる。前記分解は、光反応によりヒドロキ
シラジカルが生じ、これを前記スルホキシド類の炭素−
硫黄結合解離部分と反応させて、悪臭を発生させないス
ルホン酸類が生じるものである。さらに、洗浄水中に共
存する過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）に
より炭素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすく
なると考えられる。以上により、従来の装置とは異なり
スルホキシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナト
リウムを使用しないため、有害な化合物を生成すること
なくスルホキシド類含有排気を処理がすることができ
る。さらに、この場合洗浄水は生成したスルホン酸類を
含むためｐＨ酸性であるので、一般に塩基性を有するア
ミン類有機化合物の洗浄水への溶解度が向上するため、
前記排気からアミン類有機化合物を除去することができ
る。
【００１８】
【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下、本発明
の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明するが、以
下の実施の形態は本発明に係る一例にすぎない。図１
は、本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の概略図である。図２は、本実施の形態に係るスル
ホキシド類含有排気の処理を工程順に示すフローチャー
トである。
の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明するが、以
下の実施の形態は本発明に係る一例にすぎない。図１
は、本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の概略図である。図２は、本実施の形態に係るスル
ホキシド類含有排気の処理を工程順に示すフローチャー
トである。
【００１９】本実施の形態に係るスルホキシド類含有排
気の処理方法及び処理装置を図１及び図２を参照して説
明する。本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置は図１に示すように、スルホキシド類有機硫黄
化合物を含有する有機排気を導入する洗浄塔１、有機排
気と洗浄水１２を接触させスルホキシド類有機硫黄化合
物を洗浄水１２に溶解させる気液接触部２、洗浄水１２
に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部０、過酸化水
素が添加された洗浄水１２に紫外線を照射して洗浄水１
２中に溶解したスルホキシド類有機硫黄化合物を分解す
る紫外線照射部３、及び気液接触部２からｐＨ調整槽４
を経て紫外線照射部３との間で洗浄水１２を循環させる
循環系１７により構成される。気液接触部２は洗浄塔１
内に設置され、気液接触部２の下部には洗浄水１２が貯
蔵されている。過酸化酸素供給部０は、洗浄水１２のｐ
Ｈを調整するｐＨ調整槽４、ｐＨ調整槽４に過酸化水素
を供給する過酸化水素貯槽７、洗浄水１２のｐＨを測定
するｐＨコントローラ５、及び洗浄水１２のＯＲＰ（ｏ
ｘｉｄａｔｉｏｎ−ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ−ｐｏｔｅｎｔ
ｉａｌ：酸化還元電位）を測定し二酸化炭素の添加量を
調整するＯＲＰコントローラ６からなる。気液接触部２
と紫外線照射部３、気液接触部２とｐＨ調整槽４、ｐＨ
調整槽４と過酸化水素貯槽７、及び紫外線照射部３とｐ
Ｈ調整槽４はそれぞれラインにより接続されており、ｐ
Ｈコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６はそれぞ
れ、循環系１７の気液接触部２とｐＨ調整槽４とを結ぶ
ライン上に設けられる。紫外線照射部３は紫外線ランプ
１０と石英製反応槽１１からなり、石英製反応槽１１に
洗浄水１２が導入され、紫外線が紫外線ランプ１０から
照射される。
気の処理方法及び処理装置を図１及び図２を参照して説
明する。本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置は図１に示すように、スルホキシド類有機硫黄
化合物を含有する有機排気を導入する洗浄塔１、有機排
気と洗浄水１２を接触させスルホキシド類有機硫黄化合
物を洗浄水１２に溶解させる気液接触部２、洗浄水１２
に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部０、過酸化水
素が添加された洗浄水１２に紫外線を照射して洗浄水１
２中に溶解したスルホキシド類有機硫黄化合物を分解す
る紫外線照射部３、及び気液接触部２からｐＨ調整槽４
を経て紫外線照射部３との間で洗浄水１２を循環させる
循環系１７により構成される。気液接触部２は洗浄塔１
内に設置され、気液接触部２の下部には洗浄水１２が貯
蔵されている。過酸化酸素供給部０は、洗浄水１２のｐ
Ｈを調整するｐＨ調整槽４、ｐＨ調整槽４に過酸化水素
を供給する過酸化水素貯槽７、洗浄水１２のｐＨを測定
するｐＨコントローラ５、及び洗浄水１２のＯＲＰ（ｏ
ｘｉｄａｔｉｏｎ−ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ−ｐｏｔｅｎｔ
ｉａｌ：酸化還元電位）を測定し二酸化炭素の添加量を
調整するＯＲＰコントローラ６からなる。気液接触部２
と紫外線照射部３、気液接触部２とｐＨ調整槽４、ｐＨ
調整槽４と過酸化水素貯槽７、及び紫外線照射部３とｐ
Ｈ調整槽４はそれぞれラインにより接続されており、ｐ
Ｈコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６はそれぞ
れ、循環系１７の気液接触部２とｐＨ調整槽４とを結ぶ
ライン上に設けられる。紫外線照射部３は紫外線ランプ
１０と石英製反応槽１１からなり、石英製反応槽１１に
洗浄水１２が導入され、紫外線が紫外線ランプ１０から
照射される。
【００２０】次に、本実施の形態に係るスルホキシド類
含有排気の処理装置の動作について図１を参照して詳細
に説明する。スルホキシド類有機硫黄化合物及び少なく
とも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機排気を
吹込口８から洗浄塔１に導入し、気液接触部２で前記有
機排気を洗浄水１２と接触させることで有機排気中の水
溶性成分（スルホキシド類有機硫黄化合物及びアミン類
有機化合物を含む）を洗浄水１２に溶解させることによ
り、有機排気中から前記水溶性成分を除去し（図２のス
テップ１）、清浄空気１４として排気口９から放出する
（図２のステップ２）。一方、スルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させた洗浄水１２はｐＨ調整槽４に導入さ
れ、過酸化水素を添加し（図２のステップ３）、必要で
あればｐＨ調整を行った後、前記洗浄水１２を紫外線照
射部３に導入する。紫外線照射部３において、洗浄水１
２に紫外線照射を行い、洗浄水１２中のスルホキシド類
有機硫黄化合物をスルホン酸類に分解する（図２のステ
ップ４）。また、洗浄水１２はｐＨ調整槽４に送られ、
ｐＨコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６でｐＨと
ＯＲＰを調整された後、循環系１７で気液接触部２に循
環送水される。以上の工程により洗浄水１２中からスル
ホキシド類有機硫黄化合物が除去された結果、洗浄水１
２中にはスルホン酸類及びアミン類有機化合物が残り、
処理を繰り返す毎に洗浄水１２中にこれらが蓄積されて
ゆくため、洗浄水１２は適宜交換される。なお、本実施
の形態においては、スルホキシド類有機硫黄化合物及び
少なくとも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機
排気の処理を示したが、前記有機排気にアミン類有機化
合物が含まれていない場合においても同様に、有機排気
中からスルホキシド類有機硫黄化合物を除去することが
可能である。
含有排気の処理装置の動作について図１を参照して詳細
に説明する。スルホキシド類有機硫黄化合物及び少なく
とも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機排気を
吹込口８から洗浄塔１に導入し、気液接触部２で前記有
機排気を洗浄水１２と接触させることで有機排気中の水
溶性成分（スルホキシド類有機硫黄化合物及びアミン類
有機化合物を含む）を洗浄水１２に溶解させることによ
り、有機排気中から前記水溶性成分を除去し（図２のス
テップ１）、清浄空気１４として排気口９から放出する
（図２のステップ２）。一方、スルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させた洗浄水１２はｐＨ調整槽４に導入さ
れ、過酸化水素を添加し（図２のステップ３）、必要で
あればｐＨ調整を行った後、前記洗浄水１２を紫外線照
射部３に導入する。紫外線照射部３において、洗浄水１
２に紫外線照射を行い、洗浄水１２中のスルホキシド類
有機硫黄化合物をスルホン酸類に分解する（図２のステ
ップ４）。また、洗浄水１２はｐＨ調整槽４に送られ、
ｐＨコントローラ５及びＯＲＰコントローラ６でｐＨと
ＯＲＰを調整された後、循環系１７で気液接触部２に循
環送水される。以上の工程により洗浄水１２中からスル
ホキシド類有機硫黄化合物が除去された結果、洗浄水１
２中にはスルホン酸類及びアミン類有機化合物が残り、
処理を繰り返す毎に洗浄水１２中にこれらが蓄積されて
ゆくため、洗浄水１２は適宜交換される。なお、本実施
の形態においては、スルホキシド類有機硫黄化合物及び
少なくとも１種類以上のアミン類有機化合物を含む有機
排気の処理を示したが、前記有機排気にアミン類有機化
合物が含まれていない場合においても同様に、有機排気
中からスルホキシド類有機硫黄化合物を除去することが
可能である。
【００２１】
【実施例】次に、本実施の形態の実施例を、図面を参照
して詳細に説明する。図３は、実施例のスルホキシド類
含有排気の処理方法及び処理装置を示す。本実施例に係
るスルホキシド類含有排気の処理装置の構成は、図１に
示す本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の構成とほぼ同様であるが、洗浄水１２を排水する
際に過酸化水素を処理する過酸化水素除去槽２２が排水
口１８に設置されている点が異なる。これにより、排水
から過酸化水素を除去することができる。また、紫外線
ランプ２１０、及び石英製反応槽１１を用いて洗浄水１
２に紫外線を照射する。本実施例においては、有機排気
に含まれるスルホキシド類有機硫黄化合物がジメチルス
ルホキシド２１３である場合を示す。なお、本実施例に
おいて、本実施の形態と同様の機能を有する部分は同じ
符号で示す。
して詳細に説明する。図３は、実施例のスルホキシド類
含有排気の処理方法及び処理装置を示す。本実施例に係
るスルホキシド類含有排気の処理装置の構成は、図１に
示す本実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の処理
装置の構成とほぼ同様であるが、洗浄水１２を排水する
際に過酸化水素を処理する過酸化水素除去槽２２が排水
口１８に設置されている点が異なる。これにより、排水
から過酸化水素を除去することができる。また、紫外線
ランプ２１０、及び石英製反応槽１１を用いて洗浄水１
２に紫外線を照射する。本実施例においては、有機排気
に含まれるスルホキシド類有機硫黄化合物がジメチルス
ルホキシド２１３である場合を示す。なお、本実施例に
おいて、本実施の形態と同様の機能を有する部分は同じ
符号で示す。
【００２２】次に、本発明の実施例に係るスルホキシド
類含有排気の処理装置の動作及びスルホキシド類含有排
気の処理工程について、図３を参照して説明する。ジメ
チルスルホキシド及び少なくとも１種類以上のアミン類
有機化合物を含む有機排気２１３を洗浄塔１に導入し、
気液接触部２でジメチルスルホキシド及びアミン類有機
化合物を洗浄水に接触させて溶解させる。ジメチルスル
ホキシドを溶解した洗浄水１２にジメチルスルホキシド
に対し等量以上の過酸化水素を添加し、紫外線照射部３
で紫外線を照射し、ジメチルスルホキシドをメタンスル
ホン酸に分解する。その後、ｐＨ調整槽４において、ｐ
Ｈコントローラ５によりｐＨを４以下に調整し、ＯＲＰ
の変化をＯＲＰコントローラ６で測定し、過酸化水素濃
度が不足しないよう、ジメチルスルホキシドからメタン
スルホン酸への反応で消費された過酸化水素を過酸化水
素貯槽７より添加する。また、洗浄水１２は水質を調整
されたのち、循環系１７により再び気液接触部２に送液
する。
類含有排気の処理装置の動作及びスルホキシド類含有排
気の処理工程について、図３を参照して説明する。ジメ
チルスルホキシド及び少なくとも１種類以上のアミン類
有機化合物を含む有機排気２１３を洗浄塔１に導入し、
気液接触部２でジメチルスルホキシド及びアミン類有機
化合物を洗浄水に接触させて溶解させる。ジメチルスル
ホキシドを溶解した洗浄水１２にジメチルスルホキシド
に対し等量以上の過酸化水素を添加し、紫外線照射部３
で紫外線を照射し、ジメチルスルホキシドをメタンスル
ホン酸に分解する。その後、ｐＨ調整槽４において、ｐ
Ｈコントローラ５によりｐＨを４以下に調整し、ＯＲＰ
の変化をＯＲＰコントローラ６で測定し、過酸化水素濃
度が不足しないよう、ジメチルスルホキシドからメタン
スルホン酸への反応で消費された過酸化水素を過酸化水
素貯槽７より添加する。また、洗浄水１２は水質を調整
されたのち、循環系１７により再び気液接触部２に送液
する。
【００２３】本実施例において、ジメチルスルホキシド
及びアミン類有機化合物が洗浄水１２に溶解するととも
に、過酸化水素を共存させて紫外線を照射することによ
り、ヒドロキシラジカルを生じさせ、これがジメチルス
ルホキシドと反応することによりメタンスルホン酸に変
換される。さらにこの場合、洗浄水中に共存する過酸化
水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫
黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考えら
れる。以上により、ジメチルスルホキシド及びアミン類
有機化合物を有機排気から効果的に除去することができ
る。
及びアミン類有機化合物が洗浄水１２に溶解するととも
に、過酸化水素を共存させて紫外線を照射することによ
り、ヒドロキシラジカルを生じさせ、これがジメチルス
ルホキシドと反応することによりメタンスルホン酸に変
換される。さらにこの場合、洗浄水中に共存する過酸化
水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭素−硫
黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると考えら
れる。以上により、ジメチルスルホキシド及びアミン類
有機化合物を有機排気から効果的に除去することができ
る。
【００２４】（第２の実施形態）次に、本発明の他の実
施の形態について図面を参照して説明する。図４は本発
明の第２の実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置及び処理方法を示す図である。本実施の形態に
おいては、本発明の第１の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置及び処理方法の構成とほぼ同様
であるが、洗浄塔１内部の気液接触部２下部に紫外線照
射部４３が設けられている点が異なる。すなわち、図４
に示すように、紫外線ランプ１０を洗浄塔１内の気液接
触部２下部の洗浄水１２内に設置することで、紫外線が
洗浄水１２に常に照射されるため、前記照射により洗浄
水１２中に存在するスルホキシド類有機硫黄化合物の分
解を行うことができるだけでなく、洗浄水１２中の生物
繁殖を抑制することができる。
施の形態について図面を参照して説明する。図４は本発
明の第２の実施の形態に係るスルホキシド類含有排気の
処理装置及び処理方法を示す図である。本実施の形態に
おいては、本発明の第１の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置及び処理方法の構成とほぼ同様
であるが、洗浄塔１内部の気液接触部２下部に紫外線照
射部４３が設けられている点が異なる。すなわち、図４
に示すように、紫外線ランプ１０を洗浄塔１内の気液接
触部２下部の洗浄水１２内に設置することで、紫外線が
洗浄水１２に常に照射されるため、前記照射により洗浄
水１２中に存在するスルホキシド類有機硫黄化合物の分
解を行うことができるだけでなく、洗浄水１２中の生物
繁殖を抑制することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明に係るスルホ
キシド類含有排気の処理方法によれば、スルホキシド類
有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄
水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホキ
シド類有機硫黄化合物を分解することにより、光反応に
よりヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシ
ド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸
類を生じさせる。さらにこの場合、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来のスルホキシド類含有排
気の処理方法とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物
の分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用する必要がないた
め、有害な化合物を生成することなくスルホキシド類含
有排気を処理することができる。さらに、この場合洗浄
水は生成したスルホン酸類によりｐＨ酸性であるので、
有機排気中にアミン類有機化合物が含まれている場合に
は、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物の洗浄水
への溶解度が向上するため、前記有機排気からアミン類
有機化合物を効果的に除去することができる。
キシド類含有排気の処理方法によれば、スルホキシド類
有機硫黄化合物を含有する排気を洗浄水に接触させて前
記スルホキシド類有機硫黄化合物を溶解させ、前記洗浄
水に過酸化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホキ
シド類有機硫黄化合物を分解することにより、光反応に
よりヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシ
ド類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸
類を生じさせる。さらにこの場合、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来のスルホキシド類含有排
気の処理方法とは異なりスルホキシド類有機硫黄化合物
の分解に次亜塩素酸ナトリウムを使用する必要がないた
め、有害な化合物を生成することなくスルホキシド類含
有排気を処理することができる。さらに、この場合洗浄
水は生成したスルホン酸類によりｐＨ酸性であるので、
有機排気中にアミン類有機化合物が含まれている場合に
は、一般に塩基性を有するアミン類有機化合物の洗浄水
への溶解度が向上するため、前記有機排気からアミン類
有機化合物を効果的に除去することができる。
【００２６】また、本発明に係るスルホキシド類含有排
気の処理装置によれば、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する有機排気を洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置さ
れてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する
過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水
に紫外線を照射する紫外線ランプとを有してなることに
より、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照
射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解
が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光反応によ
りヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシド
類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸類
を生じさせるものである。さらに、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来の装置とは異なりスルホ
キシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウム
を使用しないため、有害な化合物を生成することなくス
ルホキシド類含有排気を処理がすることができる。さら
に、この場合洗浄水は生成したスルホン酸類によりｐＨ
酸性であるので、一般に塩基性を有するアミン類有機化
合物の洗浄水への溶解度が向上するため、前記有機排気
からアミン類有機化合物を除去することができる。
気の処理装置によれば、スルホキシド類有機硫黄化合物
を含有する有機排気を洗浄水に接触させて前記スルホキ
シド類有機硫黄化合物を溶解させる気液接触部が設置さ
れてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する
過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水
に紫外線を照射する紫外線ランプとを有してなることに
より、前記洗浄水に過酸化水素を共存させて紫外線を照
射する場合の前記スルホキシド類有機硫黄化合物の分解
が前記紫外線照射部で起こる。前記分解は、光反応によ
りヒドロキシラジカルを生じ、これを前記スルホキシド
類の炭素−硫黄結合解離部分と反応させてスルホン酸類
を生じさせるものである。さらに、洗浄水中に共存する
過酸化水素又はヒドロキシラジカル（ＯＨ・）により炭
素−硫黄結合部分での紫外線吸収が起こりやすくなると
考えられる。以上により、従来の装置とは異なりスルホ
キシド類有機硫黄化合物の分解に次亜塩素酸ナトリウム
を使用しないため、有害な化合物を生成することなくス
ルホキシド類含有排気を処理がすることができる。さら
に、この場合洗浄水は生成したスルホン酸類によりｐＨ
酸性であるので、一般に塩基性を有するアミン類有機化
合物の洗浄水への溶解度が向上するため、前記有機排気
からアミン類有機化合物を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
【図２】 本発明の一実施の形態に係るスルホキシド類
含有排気の処理を工程順に示すフローチャートである。
含有排気の処理を工程順に示すフローチャートである。
【図３】 本発明の実施例１に係るスルホキシド類含有
排気の処理装置の概略図である。
排気の処理装置の概略図である。
【図４】 本発明の第２の実施の形態に係るスルホキシ
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
ド類含有排気の処理装置の概略図である。
【図５】 従来のスルホキシド類含有排気の処理装置の
概略図である。
概略図である。
【符号の説明】 ０ 過酸化水素供給部 １・３１ 洗浄塔 ２・３２ 気液接触部 ３・４３ 紫外線照射部 ４ ｐＨ調整槽 ５・３５ ｐＨコントローラ ６ ＯＲＰコントローラ ７ 過酸化水素貯槽 ８・３８ 吹込口 ９・３９ 排気口 １０ 紫外線ランプ １１ 石英製反応槽 １２・３１２ 洗浄水 １３・３１３ スルホキシド類及びアミン類含有有機排
気 １４・３１４ 清浄空気 １５ スルホン酸類有機硫黄化合物 １６・３１６ アミン類有機化合物 １７ 循環系 １８ 排水口 ２１ 過酸化水素分解槽 ２１３・３１３ ジメチルスルホキシド及びアミン類含
有有機排気 ２１５ メタンスルホン酸 ３１７ ＮａＣｌＯ水溶液槽 ３１８ ＮａＯＨ水溶液槽 ３１９ ジメチルスルホン酸
気 １４・３１４ 清浄空気 １５ スルホン酸類有機硫黄化合物 １６・３１６ アミン類有機化合物 １７ 循環系 １８ 排水口 ２１ 過酸化水素分解槽 ２１３・３１３ ジメチルスルホキシド及びアミン類含
有有機排気 ２１５ メタンスルホン酸 ３１７ ＮａＣｌＯ水溶液槽 ３１８ ＮａＯＨ水溶液槽 ３１９ ジメチルスルホン酸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D002 AA05 AA14 BA02 BA05 BA09 CA01 DA35 DA52 EA02 GA03 GB09 4D020 AA08 AA10 BA23 BB03 CB25 DA01 DB08 4D037 AA01 AB12 AB13 BA18 BB09 CA11 CA14 4D050 AA01 AB17 AB18 BB09 BC09 BD02 BD03 BD06 BD08 CA13
Claims (5)
- 【請求項１】スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する
排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸化水素を共存させ
て紫外線を照射し、スルホキシド類有機硫黄化合物を分
解することを特徴とするスルホキシド類含有排気の処理
方法。 - 【請求項２】スルホキシド類有機硫黄化合物及び少なく
とも１種類のアミン類有機化合物を含有する排気を洗浄
水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄化合物及び
前記アミン類有機化合物を溶解させ、前記洗浄水に過酸
化水素を共存させて紫外線を照射し、スルホキシド類有
機硫黄化合物を分解することを特徴とするスルホキシド
類含有排気の処理方法。 - 【請求項３】スルホキシド類有機硫黄化合物を含有する
排気を洗浄水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄
化合物を溶解させる気液接触部が設置されてなる洗浄塔
と、前記洗浄水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給
部と、過酸化水素を含有する前記洗浄水に紫外線を照射
する紫外線ランプが設置されてなる紫外線照射部とを有
してなることを特徴とするスルホキシド類含有排気の処
理装置。 - 【請求項４】スルホキシド類有機硫黄化合物及び少なく
とも１種類のアミン類有機化合物を含有する排気を洗浄
水に接触させて前記スルホキシド類有機硫黄化合物及び
前記アミン類有機化合物を溶解させる気液接触部が設置
されてなる洗浄塔と、前記洗浄水に過酸化水素を供給す
る過酸化水素供給部と、過酸化水素を含有する前記洗浄
水に紫外線を照射する紫外線ランプが設置されてなる紫
外線照射部とを有してなることを特徴とするスルホキシ
ド類含有排気の処理装置。 - 【請求項５】紫外線照射部が気液接触部内に設けられて
なることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載のス
ルホキシド類含有排気の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31930798A JP3209195B2 (ja) | 1998-11-10 | 1998-11-10 | 液晶パネルや半導体の製造工程におけるスルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 |
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|---|---|---|---|
| JP31930798A JP3209195B2 (ja) | 1998-11-10 | 1998-11-10 | 液晶パネルや半導体の製造工程におけるスルホキシド類含有排気の処理方法及びスルホキシド類含有排気の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Country Status (1)
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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