JP4508175B2 - フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 - Google Patents
フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4508175B2 JP4508175B2 JP2006266253A JP2006266253A JP4508175B2 JP 4508175 B2 JP4508175 B2 JP 4508175B2 JP 2006266253 A JP2006266253 A JP 2006266253A JP 2006266253 A JP2006266253 A JP 2006266253A JP 4508175 B2 JP4508175 B2 JP 4508175B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluoride
- rare earth
- alcohol
- magnet
- coat film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/02—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using non-aqueous solutions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/16—Metallic particles coated with a non-metal
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
- H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
- H01F41/0293—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets diffusion of rare earth elements, e.g. Tb, Dy or Ho, into permanent magnets
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Description
Dy及びTbのフッ化物を用いた表面処理が有効であるとされている(特許文献1)。特許文献1に記載されている従来技術では、フッ素化合物が粒状の粒界相となっており、磁石の粒界あるいは粉末表面に沿って形成されておらず、表面処理剤による磁石の磁気特性向上を発現させるための、表面処理剤成分の磁石中への拡散は磁石と表面処理剤が点接触のため磁石成分の一部液層化が必要となる。また、Dy及びTb化合物は熱的に安定な化合物であるため、磁石の磁気特性向上には表面処理後の磁石について800℃以上の熱処理(吸収処理)が必要でかつ、熱処理時間も1時間以上を必要とする。そのため、NdFeB系希土類焼結磁石の磁気特性を改善するには、さらに、時効処理が必要であるため、熱処理を2回必要としている。また、吸収処理におけるDy及びTb化合物の磁石中への拡散は数mmが限界であるため、薄型の磁石でないと磁石特性の向上は難しい。
Hoのフッ化物コート膜形成処理液とそのフッ化物コート膜形成処理液の製造方法を提供することを目的とするものである。
NdFeBの組成を適正化して加熱すれば、Nd相あるいはNdFe合金相が粒界に形成される。この高濃度のNdを含む相は酸化し易く、一部酸化層が形成される。フッ化物を含む層はこれらのNd相,NdFe合金層あるいはNd酸化層の母相からみて外側に形成する。フッ化物を含むコート膜には、アルカリ土類金属や希土類元素の少なくとも1元素がフッ素と結合した相を含んでいる。フッ素を含む層は、上記Nd2Fe14B ,Nd相,NdFe相あるいはNd酸化層に接触して形成される。Nd2Fe14B よりもNdあるいはNdFe相が低融点であり、加熱により拡散し易く、組織が変化する。Nd,NdFe相あるいはNd酸化層の厚さよりも、アルカリ土類あるいは希土類元素のフッ化物を含む層の平均厚さは厚くすることが重要であり、このような厚さにすることにより、希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物による磁石の磁気特性向上を発現させるための、希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物成分の磁石中への拡散を可能にし、磁石の高い磁気特性発現させることができる。
Cu,Zr,Tb,Prを添加した粉等が使用できる。コート膜形成処理液中の希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に膨潤させるのは、希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物ゲルがゼラチン状の柔軟な構造を有することと、その希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物ゲルは超音波分散により容易にコロイド状態にすることが可能なこと、更にはアルコールが希土類磁石用磁粉に対して優れた濡れ性を有することが明らかになったからである。また、コロイド状態の該希土類フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物の平均粒径はサブμm以下であるため、希土類磁石または原料磁粉表面に形成されたコート膜が均一膜厚になり易い。更に、アルコールを主成分とした溶媒にすることにより、非常に酸化され易い希土類磁石または原料磁粉の酸化の抑制が可能となる。
DyF3 を生成させた。遠心分離により上澄み液を除去した後、残存ゲルと同量のメタノールを加へ、攪拌・遠心分離する操作を3〜10回繰り返すことにより陰イオンを取り除き、ほぼ透明なコロイド状のDyF3のメタノール溶液(濃度:DyF3/メタノール=1g/5mL)を作製した。
(1)平均粒径が200μmの希土類磁石用磁粉100gに対して20mLのTbF3 コ ート膜形成処理液を添加し、希土類磁石用磁粉全体が濡れるのが確認できるまで混合 した。
(2)(1)のTbF3 コート膜形成処理希土類磁石用磁粉を2〜5torrの減圧下で溶媒 のメタノール除去を行った。
(3)(2)の溶媒の除去を行った希土類磁石用磁粉を石英製ボートに移し、1×10-5
torrの減圧下で200℃,30分と350℃,30分の熱処理を行った。
(4)(3)で熱処理した磁粉に対して、蓋付きマコール製(理研電子社製)容器に移し たのち、1×10-5torrの減圧下で、700℃,30分の熱処理を行った。
(5)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉の磁気特性を調べた。
(6)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉を用いて、金型中に装填し、不活性ガス 雰囲気中で10kOeの磁場中で配向し、成形圧5t/cm2 の条件で加熱圧縮成形し た。成形条件は700℃、7mm×7mm×5mmの異方性磁石を作製した。
(7)(6)で作製した異方性磁石の異方性方向に30kOe以上のパルス磁界を印加し た。その磁石について磁気特性を調べた。
した方法で作製した溶液を用いた。本実施例では、Nd2Fe14B を主相とする加工研磨後の焼結体を用いた。
(1)寸法が6mm×6mm×5mmの磁石焼結体を、濃度1g/10mLの超音波処理直後の DyF3のほぼ透明なコロイド溶液に浸漬した。
(2)(1)のDyF3形成処理液を磁石焼結体表面に塗布した磁石焼結体を2〜5torr の減圧下で溶媒のメタノール除去を行った。
(3)上記(1)と(2)の操作を1から10回の間で必要回数繰り返した。
(4)(3)の溶媒の除去を行った磁石焼結体を石英製ボートに移し、1×10-5torrの 減圧下で200℃,30分と400℃,30分の熱処理を行った。
(5)(4)で熱処理した磁石焼結体に対して、蓋付きマコール製(理研電子社製)容器 に移したのち、1×10-5torrの減圧下で、熱処理条件として、600℃,700℃
,800℃,900℃,1時間,2時間,3時間のいずれかの組み合わせの条件で熱 処理を行った。
(6)(5)で作製した磁石焼結体に30kOe以上のパルス磁界を印加した。その磁石 について磁気特性を調べた。
(1)平均粒径が300μmの希土類磁石用磁粉100gに対して30mLのPrF3コ ート膜形成処理液を添加し、希土類磁石用磁粉全体が濡れるのが確認できるまで混合 した。
(2)(1)のPrF3コート膜形成処理希土類磁石用磁粉を2〜5torrの減圧下で溶媒 のメタノール除去を行った。
(3)(2)の溶媒の除去を行った希土類磁石用磁粉を石英製ボートに移し、1×10-5 torrの減圧下で200℃,30分と400℃,30分の熱処理を行った。
(4)(3)で熱処理した磁粉に対して、蓋付きマコール製(理研電子社製)容器に移し たのち、1×10-5torrの減圧下で、700℃,30分の熱処理を行った。
(5)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉の磁気特性を調べた。
(6)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉と100μm以下のサイズの固形エポキ シ樹脂(ソマール社製EPX6136)を体積で10%になるようにVミキサーを用 いて混合した。
(7)(6)で作製した希土類磁石用磁粉と樹脂とのコンパウンドを金型中に装填し、不 活性ガス雰囲気中で10kOeの磁場中で配向し、成形圧5t/cm2 の条件で70℃ の加熱圧縮成形した。7mm×7mm×5mmのボンド磁石を作製した。
(8)(7)で作製したボンド磁石の樹脂硬化を窒素ガス中で170℃,1時間の条件で 行った。
(9)(8)で作製したボンド磁石に30kOe以上のパルス磁界を印加した。その磁石 について磁気特性を調べた。
μm〜1nm厚のコート膜を表面に形成した磁性粉,焼結磁石,ボンド磁石はコート膜を形成していない磁性粉,焼結磁石,ボンド磁石と比較して、磁気特性に優れている。
Claims (12)
- NdFeB系希土類磁石又はNdFeB系希土類磁石用磁粉の表面に希土類フッ化物コート膜を形成する処理液において、該希土類フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に膨潤されており、該希土類フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に均一に分散されたコロイド溶液を形成しており、該コロイド溶液の該希土類フッ化物濃度が1g/dm3に調整した際、該処理液の700nmの波長において光路長が1cmの透過率が50%以上であることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
- 請求項1において、前記希土類フッ化物の濃度が200g/dm3以上ではゲル化することを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
- 請求項1又は2において、前記アルコールはメチルアルコール,エチルアルコール、n−プロピルアルコール又はイソプロピルアルコールであることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
- 請求項1又は2において、前記アルコールを主成分とした溶媒はメチルアルコール,エチルアルコール、n−プロピルアルコール又はイソプロピルアルコールの内少なくとも一成分以上が50wt%以上含有する溶媒であり、前記溶媒はアセトン,メチルエチルケトン,メチルイソブチルケトン等のケトンを50wt%以下含有する溶媒であることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
- 請求項1又は2において、前記希土類フッ化物はLa,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luの内少なくとも一種類以上を含む希土類フッ化物であることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
- 請求項1又は2において、前記希土類フッ化物はアルコールを主成分とした溶媒に膨潤されており、かつアルコールを主成分とした溶媒中において濃度として0.1g/dm3〜300g/dm3であることを特徴とするフッ化物コート膜形成処理液。
- NdFeB系希土類磁石又はNdFeB系希土類磁石用磁粉の表面に希土類フッ化物コート膜を形成する方法において、該希土類フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に膨潤されており、該希土類フッ化物がアルコールを主成分とした溶媒に均一に分散されたコロイド溶液を形成しており、該コロイド状態の該希土類フッ化物濃度が1g/dm3以上で該処理液の700nmの波長において光路長が1cmの透過率が50%以上であることを特徴とする処理液を用いたフッ化物コート膜の形成方法。
- 請求項7において、前記アルコールはメチルアルコール,エチルアルコール、n−プロピルアルコール又はイソプロピルアルコールであることを特徴とするフッ化物コート膜の形成方法。
- 請求項7において、前記アルコールを主成分とした溶媒はメチルアルコール,エチルアルコール、n−プロピルアルコール又はイソプロピルアルコールの内少なくとも一成分以上が50wt%以上含有する溶媒であり、前記溶媒はアセトン,メチルエチルケトン,メチルイソブチルケトン等のケトンを50wt%以下含有する溶媒であることを特徴とするフッ化物コート膜の形成方法。
- 請求項7において、前記希土類フッ化物はLa,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luの内少なくとも一種類以上を含む金属フッ化物であることを特徴とするフッ化物コート膜の形成方法。
- 請求項7において、前記希土類フッ化物はアルコールを主成分とした溶媒に膨潤されており、かつアルコールを主成分とした溶媒中において濃度として0.1g/dm3〜300g/dm3であることを特徴とするフッ化物コート膜の形成方法。
- 請求項7において、前記希土類フッ化物コート膜を形成する処理液は平均粒径が500μmから0.1μmのコート膜処理対象物1kgに対して、10ml〜300mlの割合で配合することを特徴とするフッ化物コート膜の形成方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006266253A JP4508175B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 |
US11/862,334 US7815726B2 (en) | 2006-09-29 | 2007-09-27 | Treating agent for forming a fluoride coating film and method for forming a fluoride coating film |
DE102007046417.9A DE102007046417B4 (de) | 2006-09-29 | 2007-09-28 | Behandlungsmittel zur Bildung einer Fluorid-Beschichtung und Verfahren zur Bildung einer Fluorid-Beschichtung |
CN200710161378XA CN101178964B (zh) | 2006-09-29 | 2007-09-28 | 形成氟化物涂覆膜的处理剂和形成氟化物涂覆膜的方法 |
US12/849,857 US7862654B2 (en) | 2006-09-29 | 2010-08-04 | Treating agent for forming a fluoride coating film and method for forming a fluoride coating film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006266253A JP4508175B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008081380A JP2008081380A (ja) | 2008-04-10 |
JP4508175B2 true JP4508175B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=39316786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006266253A Expired - Fee Related JP4508175B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7815726B2 (ja) |
JP (1) | JP4508175B2 (ja) |
CN (1) | CN101178964B (ja) |
DE (1) | DE102007046417B4 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008016670A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Hitachi Ltd | 磁性粉、圧粉磁心の製造方法、及び圧粉磁心 |
JP2009071910A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Hitachi Ltd | 回転電機およびそれを搭載した自動車 |
JP5256851B2 (ja) * | 2008-05-29 | 2013-08-07 | Tdk株式会社 | 磁石の製造方法 |
JP5278732B2 (ja) * | 2008-06-10 | 2013-09-04 | 日立化成株式会社 | 希土類磁石用処理液及びそれを用いた希土類磁石 |
JP2010095411A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 希土類フッ化物微粒子分散液と、その製造方法、及びそれを用いた希土類磁石 |
JP4902677B2 (ja) * | 2009-02-02 | 2012-03-21 | 株式会社日立製作所 | 希土類磁石 |
JP2010186857A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 希土類フッ化物微粒子分散液及びこの希土類フッ化物微粒子分散液を用いて製造されるフィルム、希土類焼結磁石、希土類磁粉 |
JP5359383B2 (ja) * | 2009-03-05 | 2013-12-04 | 日産自動車株式会社 | 磁石成形体及びその製造方法 |
CN101615459B (zh) * | 2009-04-28 | 2011-11-23 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 提高烧结钕铁硼永磁材料性能的方法 |
JP2011051851A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 希土類フッ化物微粒子分散液、この分散液の製造方法、この分散液を用いた希土類フッ化物薄膜の製造方法、この分散液を用いた高分子化合物/希土類フッ化物複合フィルムの製造方法、及び、この分散液を用いた希土類焼結磁石 |
JP2011091119A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Honda Motor Co Ltd | 永久磁石の製造方法 |
EP2682497A4 (en) * | 2011-03-01 | 2014-08-13 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | METHOD FOR STORING A METAL LANTHANE TARGET, TARGET VACUUM SEALED METAL LANTHANE AND THIN FILM FORMED BY CATHODIC SPUTATION USING A METAL LANTHANE TARGET |
CN102360920B (zh) * | 2011-09-16 | 2013-02-06 | 安徽大地熊新材料股份有限公司 | 一种钕铁硼永磁的制备方法 |
JP5672572B2 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-18 | 日立化成株式会社 | 希土類フッ化物微粒子分散液の製造方法 |
DE102015102156A1 (de) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | Nanofluor Gmbh | Methode zur Bereitstellung einer Zink- und/oder Erdalkalimetall (M)–Seltenerdmetall (SM) Fluorid Sol Lösung, ein entsprechendes Sol sowie ein Xerogel davon und deren Verwendung |
CN104900360B (zh) * | 2015-05-28 | 2017-07-25 | 钢铁研究总院 | 一种添加复合低价稀土的永磁合金及其制备方法 |
CN105111804A (zh) * | 2015-09-15 | 2015-12-02 | 苏州凯欧曼新材料科技有限公司 | 一种磁性浆状复合体系 |
CN105489335B (zh) * | 2016-01-14 | 2017-08-11 | 北京科技大学 | 一种晶界扩散提高烧结钕铁硼磁性能的方法 |
FR3048426B1 (fr) * | 2016-03-01 | 2018-03-30 | Mathym | Suspension colloidale de nanoparticules a base de fluorure de terre rare |
KR102411584B1 (ko) * | 2018-10-22 | 2022-06-20 | 주식회사 엘지화학 | 소결 자석의 제조 방법 및 소결 자석 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226824A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-29 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | フッ化マグネシウムゾルとその製造法 |
JPH02264901A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-29 | Asahi Glass Co Ltd | フッ化マグネシウム膜及び低反射膜の製造方法 |
JPH02278201A (ja) * | 1989-04-20 | 1990-11-14 | Asahi Glass Co Ltd | MgF↓2膜の製造方法及び低反射膜の製造方法 |
JPH03208815A (ja) * | 1990-01-08 | 1991-09-12 | Osaka Titanium Co Ltd | ふっ化物の製造方法 |
JPH04243902A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-09-01 | Kao Corp | フッ化物微粒子凝集物の製造方法 |
JPH05105424A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-27 | Toshiba Corp | 反射防止膜の製造方法 |
JPH0769621A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-14 | Nissan Chem Ind Ltd | フッ化マグネシウム水和物ゾルとその製造法 |
JP2000169133A (ja) * | 1998-12-09 | 2000-06-20 | Nissan Chem Ind Ltd | シリカ−フッ化マグネシウム水和物複合ゾル及びその製造法 |
JP2006503791A (ja) * | 2002-10-28 | 2006-02-02 | プラティナム、インタレクテュアル、プロパティ、エル、ピー | 金属フッ化物材料の製造方法 |
JP2006238604A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi Ltd | 永久磁石式回転機 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3475192A (en) | 1966-09-27 | 1969-10-28 | Engelhard Ind Inc | Method of coating substrate with metallic fluoride films |
US3615169A (en) * | 1969-10-30 | 1971-10-26 | Minnesota Mining & Mfg | Process for the preparation of rare earth fluorides |
GB1355806A (en) * | 1970-12-09 | 1974-06-05 | Mullard Ltd | Methods of manufacturing a semiconductor device |
FR2683948B1 (fr) * | 1991-11-20 | 1994-03-04 | France Telecom | Structure de composant optique integre contenant une terre rare, procede de realisation et applications. |
FR2727103B1 (fr) * | 1994-11-23 | 1996-12-27 | Kodak Pathe | Procede de preparation des halogenures metalliques par voie sol-gel |
US5599586A (en) * | 1995-04-18 | 1997-02-04 | Israel; Michael G. | Chemical maintenance systems for residential roofing materials |
JP4654709B2 (ja) | 2004-07-28 | 2011-03-23 | 株式会社日立製作所 | 希土類磁石 |
KR101294551B1 (ko) * | 2004-09-16 | 2013-08-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 비정질 산화 규소 바인더를 갖는 MgF2 광학 박막, 및그것을 구비하는 광학 소자, 그리고 그 MgF2 광학박막의 제조 방법 |
RU2367045C2 (ru) | 2004-10-19 | 2009-09-10 | Син-Эцу Кемикал Ко., Лтд. | Получение материала редкоземельного постоянного магнита |
US7517564B2 (en) * | 2006-12-21 | 2009-04-14 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for identifying articles and process for maintaining security |
US20080241368A1 (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-02 | Matahiro Komuro | Treating solution for forming fluoride coating film and method for forming fluoride coating film |
-
2006
- 2006-09-29 JP JP2006266253A patent/JP4508175B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-09-27 US US11/862,334 patent/US7815726B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-28 CN CN200710161378XA patent/CN101178964B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-28 DE DE102007046417.9A patent/DE102007046417B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-08-04 US US12/849,857 patent/US7862654B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226824A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-29 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | フッ化マグネシウムゾルとその製造法 |
JPH02264901A (ja) * | 1989-04-06 | 1990-10-29 | Asahi Glass Co Ltd | フッ化マグネシウム膜及び低反射膜の製造方法 |
JPH02278201A (ja) * | 1989-04-20 | 1990-11-14 | Asahi Glass Co Ltd | MgF↓2膜の製造方法及び低反射膜の製造方法 |
JPH03208815A (ja) * | 1990-01-08 | 1991-09-12 | Osaka Titanium Co Ltd | ふっ化物の製造方法 |
JPH04243902A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-09-01 | Kao Corp | フッ化物微粒子凝集物の製造方法 |
JPH05105424A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-27 | Toshiba Corp | 反射防止膜の製造方法 |
JPH0769621A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-14 | Nissan Chem Ind Ltd | フッ化マグネシウム水和物ゾルとその製造法 |
JP2000169133A (ja) * | 1998-12-09 | 2000-06-20 | Nissan Chem Ind Ltd | シリカ−フッ化マグネシウム水和物複合ゾル及びその製造法 |
JP2006503791A (ja) * | 2002-10-28 | 2006-02-02 | プラティナム、インタレクテュアル、プロパティ、エル、ピー | 金属フッ化物材料の製造方法 |
JP2006238604A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi Ltd | 永久磁石式回転機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102007046417A1 (de) | 2008-07-31 |
CN101178964A (zh) | 2008-05-14 |
US7815726B2 (en) | 2010-10-19 |
US20100297343A1 (en) | 2010-11-25 |
DE102007046417B4 (de) | 2018-04-12 |
CN101178964B (zh) | 2011-01-05 |
US20080092994A1 (en) | 2008-04-24 |
JP2008081380A (ja) | 2008-04-10 |
US7862654B2 (en) | 2011-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4508175B2 (ja) | フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 | |
JP4710507B2 (ja) | 磁石,磁石用磁性材料,コート膜形成処理液及び回転機 | |
JP4525425B2 (ja) | フッ化物コート膜形成処理液,フッ化物コート膜形成方法及び磁石 | |
JP4900121B2 (ja) | フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 | |
JP4564993B2 (ja) | 希土類磁石及びその製造方法 | |
Hirota et al. | Coercivity enhancement by the grain boundary diffusion process to Nd–Fe–B sintered magnets | |
JP4902677B2 (ja) | 希土類磁石 | |
JP5325975B2 (ja) | 焼結磁石及びそれを用いた回転電機 | |
CN101136275B (zh) | 高电阻磁铁及使用其的电机 | |
JP5589667B2 (ja) | 希土類焼結磁石およびその製造方法 | |
JP4896104B2 (ja) | 焼結磁石及びそれを用いた回転機 | |
US20150187494A1 (en) | Process for preparing rare earth magnets | |
US20120111232A1 (en) | Treating solution for forming fluoride coating film and method for forming fluoride coating film | |
JP4867632B2 (ja) | 低損失磁石とそれを用いた磁気回路 | |
JP4665751B2 (ja) | 高抵抗磁石を用いたmri装置 | |
JP2011211106A5 (ja) | ||
EP1081724B1 (en) | Process for producing rare earth metal-based permanent magnet having corrosion-resistant film | |
JP2008060241A (ja) | 高抵抗希土類系永久磁石 | |
JP6047328B2 (ja) | 焼結磁石用塗布材料 | |
JP3740552B2 (ja) | 磁石の製造方法 | |
JP3615177B2 (ja) | 磁石材料とそれを用いたボンド磁石の製造方法 | |
JP4411840B2 (ja) | 耐酸化性希土類系磁石粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100426 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |