JP4665751B2 - 高抵抗磁石を用いたmri装置 - Google Patents
高抵抗磁石を用いたmri装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4665751B2 JP4665751B2 JP2005368992A JP2005368992A JP4665751B2 JP 4665751 B2 JP4665751 B2 JP 4665751B2 JP 2005368992 A JP2005368992 A JP 2005368992A JP 2005368992 A JP2005368992 A JP 2005368992A JP 4665751 B2 JP4665751 B2 JP 4665751B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- fluorine compound
- magnet
- rare earth
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/383—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field using permanent magnets
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/3806—Open magnet assemblies for improved access to the sample, e.g. C-type or U-type magnets
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3873—Compensation of inhomogeneities using ferromagnetic bodies ; Passive shimming
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
Description
350℃以上の温度で加熱すると、酸素の拡散が生じる。磁粉の酸化物は磁粉中の希土類元素と結合している場合が多いが、これらの酸素は、加熱によりフッ素化合物中に拡散し、酸フッ素化合物(フッ素化合物の一部に酸素が混入したもの)を形成する。この酸フッ素化合物は、フッ素化合物よりも脆いため、磁粉からの剥離が起こり易い。これは、フッ素化合物中に酸素が混入することにより、硬度が増加し変形しにくくなるためであり、フッ素化合物付近にクラックが生じ易く成形性が低下し高密度化が困難になる。したがって磁粉表面に高抵抗層を形成する場合磁粉の酸素濃度を抑制することが重要である。磁粉との界面に酸化物やフッ酸化物が形成され易くなり成形能が低下する。表面処理以外に磁粉を挿入し、減圧雰囲気でフッ素化合物のターゲットからスパッタリングされたフッ素及び希土類元素を磁粉表面に付着させることができる。フッ素化合物や酸フッ素化合物は、結晶構造が面心立方格子であり、その格子定数は0.54 から0.60nm である。これらのフッ素化合物や酸フッ素化合物の成長は磁粉中の酸素を除去することで、残留磁束密度の増加,保磁力増加,減磁曲線の角型性向上,磁気特性の温度依存性低減,熱減磁特性向上,着磁性向上,異方性向上,耐食性向上などの効果がある。
図1に装置の一例を示す。図1において被測定体を挿入する空間20を挟み永久磁石の外側に上下ヨーク3a,3bおよびコラム10a,10bで支持された閉磁気回路を構成している。渦電流を抑制しかつ損失となるヒステリシスを小さくするために、永久磁石および軟磁性材の一部に層状の高抵抗層を適用し、前記高抵抗層により粒子間に流れる渦電流を小さくした、高抵抗軟磁性体を前記ヨーク3a,3bの一部に使用するとともに、焼結磁石の一部を高抵抗磁石にすることで磁気回路の損失を低減できる。図2においてベース部2の上面には磁気共鳴画像を得るための高周波照射コイル4や傾斜磁場コイル3が配置されている。高周波照射コイル4は被測定体のプロトンの磁気モーメントを磁気的に励起させるためにパルス状の電磁波を被測定体に照射するもので、傾斜磁場コイル3はMR信号に位置情報を与えるためのものである。高周波照射コイル4によって電磁波を被測定体に照射すると被測定体以外に周辺の磁気回路に電磁波吸収材がある場合は電磁波の被測定体への照射効率が低下する。この照射効率の低下を抑制するために高周波照射コイル4の隣に傾斜磁場コイル3を配置する。傾斜磁場コイル3と永久磁石1あるいはベース部2の間には従来シールドや渦電流防止材が配置されていた。本実施例ではベース部2あるいは永久磁石1に高抵抗磁石を適用する。高抵抗磁石は通常のNdFeB,NdFeCoB系あるいはその他希土類磁石の抵抗(比抵抗)よりも10倍以上高い抵抗値を示す材料であり、高抵抗のため渦電流が流れにくい。このため、渦電流防止材なしで装置構成が可能となり、磁場強度の上昇,被測定体空間の増加,画質向上に繋がる。
0.15mΩcm の100倍(15mΩcm)未満である場合の他の構造としては、高周波磁場での渦電流が無視できなくなるため図4に示すように、ベース部2あるいは永久磁石1に高抵抗磁石を適用し、高周波照射コイル4に隣接する傾斜磁場コイル3とベース部2の間に非磁性材5で空間を形成し、かつ高抵抗軟磁性体6を配置させることでベース部2の渦電流を抑制する。
NdFeCoB粉の表面にスパッタリングする。Co組成は1−10at%である。
DyF3 粉から成形したターゲットを使用し、アルゴンガスあるいはアルゴンとフッ素の混合ガス雰囲気中で、NdFeCoB合金粉末表面にフッ化物を含む層を形成する。フッ化物のスパッタリング前に逆スパッタリングなどで粉末表面をクリーニングして酸化層を除去し、NdFeCoB合金粉末の酸素濃度を3000ppm 以下にする。NdFeCoB合金粉末に振動あるいは回転運動を与え、粉末表面全体にフッ化物あるいはフッ素を含む層を形成する。NdFeCoB合金粉末の表面には、母相と組成の異なる1〜10nmの相が存在しその付近に酸化層がある場合が多い。粉末表面に形成するフッ素を含む層は1から10nm以上が必要であり、フッ素を含む層を形成した後に、損失低減のために400℃以上の熱処理をする場合は、酸化層の厚さを薄くすることが望ましい。これは酸化層が400℃以上の温度で、フッ素を含む層との拡散が生じ易く、フッ素を含む層の構造が変化するため、フッ素を含む層の界面付近は、欠陥や酸素の侵入,Dyの拡散などにより、膜厚が薄い場合その連続性や結晶構造を維持できなくなるためである。そこでフッ化物を形成した粉末の酸素濃度は5000ppm 以下に抑えることが望ましい。フッ素を含む層は、スパッタリング等の手法で形成した直後は、構造的にアモルファスを含んだDyF3 ,DyF2 及びDyF2-Xの混合相及びこれらの酸フッ素化合物であるが、形成条件を制御すれば、アモルファスのみ、DyF2 のみ、あるいはCaF2-x のみのフッ素を含む層を形成することができる。これらのフッ素を含む層が形成された後、400℃〜900℃の温度範囲で熱処理を実施する。フッ素を含む層が形成された粉末を室温以上900℃以下の温度で成形する場合、酸素濃度が5000ppm を超えるとフッ素を含む層の硬さが高くなり変形しにくく高密度成形体が得られない。また渦電流損失低減のためにフッ素を含む層の抵抗は母相の10倍以上が望ましい。DyF3 あるいはDyF2 は母相である
NdFeCoB合金の10倍以上の抵抗を示しかつ硬さもNdFeCoB合金以下にすることが可能であり、酸素濃度を5000ppm 以下にすることでNdFeCoB合金粉の成形体の抵抗を10倍以上にすることができる。他の高抵抗磁石の作製例を以下に示す。
(1)水に溶解度の高い塩である酢酸Nd、または硝酸Nd4gを約100mLの水に導
入し、振とう器または超音波攪拌器を用いて完全に溶解した。
(2)約10%に希釈したフッ化水素酸をNdF3 が生成する化学反応の当量分徐々に加
えた。
(3)ゲル状沈殿のNdF3 が生成した溶液に対して超音波攪拌器を用いて1時間以上攪
拌した。
(4)4000r.p.m の回転数で遠心分離した後、上澄み液を取り除きほぼ同量のメタノ
ールを加えた。
(5)ゲル状のNdF3 を含むメタノール溶液を攪拌して完全に懸濁液にした後、超音波
攪拌器を用いて1時間以上攪拌した。
(6)(4)と(5)の操作を酢酸イオン、又は硝酸イオン等の陰イオンが検出されなく
なるまで、4回繰り返した。
(7)やや縣濁したゾル状のNdF3となった。処理液としてはNdF3が1g/15mL
のメタノール溶液を用いた。
(1)平均粒径が100μmの場合、希土類磁石用磁粉100gに対して10mLの
NdF3 コート膜形成処理液を添加し、希土類磁石用磁粉全体が濡れるのが確認で きるまで混合した。
(2)(1)のNdF3 コート膜形成処理希土類磁石用磁粉を2〜5torrの減圧下で溶媒 のメタノール除去を行った。
(3)(2)の溶媒の除去を行った希土類磁石用磁粉を石英製ボートに移し、1×10-5 torrの減圧下で200℃,30分と400℃,30分の熱処理を行った。
(4)(3)で熱処理した磁粉に対して、多孔質アルミナ容器に移したのち、1×10-5 torrの減圧後、ミリ波により加熱した。加熱温度は400−800℃である。
(5)ミリ波加熱には、富士電波工業社製28GHzミリ波加熱装置を使用し、出力1− 10kW、Ar雰囲気中で200℃に加熱後選択的にNdF3 コート膜を加熱した 。
(6)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉の磁気特性を調べ、成形した。
(1)水に溶解度の高い塩である酢酸Nd、または硝酸Nd4gを約100mLの水に導 入し、振とう器または超音波攪拌器を用いて完全に溶解した。
(2)10%に希釈したフッ化水素酸をNdF3 が生成する化学反応の当量分徐々に加え た。
(3)ゲル状沈殿のNdF3 が生成した溶液に対して超音波攪拌器を用いて1時間以上攪 拌した。
(4)4000r.p.m の回転数で遠心分離した後、上澄み液を取り除きほぼ同量のメタノ ールを加えた。
(5)ゲル状のNdF3 を含むメタノール溶液を攪拌して完全に懸濁液にした後、超音波 攪拌器を用いて1時間以上攪拌した。
(6)(4)と(5)の操作を酢酸イオン、又は硝酸イオン等の陰イオンが検出されなく なるまで、4回繰り返した。
(7)やや縣濁したゾル状のNdF3となった。処理液としてはNdF3が1g/15mL のメタノール溶液を用いた。
(1)希土類磁石100gに対して1mLのNdF3 コート膜形成処理液を添加し、希土 類磁石全体が濡れるのが確認できるまで混合した。
(2)(1)のNdF3 コート膜形成処理希土類磁石を2〜5torrの減圧下で溶媒のメタ ノール除去を行った。
(3)(2)の溶媒の除去を行った希土類磁石を石英製ボートに移し、1×10-5torrの 減圧下で200℃,30分と400℃,30分の熱処理を行った。
(4)(3)で熱処理した希土類磁石に対して、多孔質アルミナ容器に移したのち、1× 10-5torrの減圧後、ミリ波により加熱した。加熱温度は300−1200℃であ る。
(5)ミリ波加熱には、富士電波工業社製28GHzミリ波加熱装置を使用し、出力1− 10kW、Ar雰囲気中で200℃に加熱後選択的にNdF3 コート膜を加熱した 。
(6)(4)で熱処理を施した希土類磁石の磁気特性を調べた。
300℃から1200℃にし、必要に応じて還元ガス雰囲気中の熱処理を採用することで、酸素濃度を低減することが可能である。また、Ndフッ素化合物以外に同様なプロセスを用いて、LiF,MgF2,CaF2,ScF3,VF2,VF3,CrF2,CrF3,
MnF2,MnF3,FeF2,FeF3,CoF2,CoF3,NiF2,ZnF2,AlF3,GaF3,SrF2,YF3,ZrF3,NbF5,AgF,InF3,SnF2,SnF4,BaF2,LaF2,LaF3,CeF2,CeF3,PrF2,PrF3,NdF2,NdF3,SmF2,SmF3,EuF2,EuF3,GdF3,TbF3,TbF4,DyF2,DyF3,HoF2,HoF3,ErF2,ErF3,TmF2,TmF3,YbF3,YbF2,LuF2,LuF3,PbF2,BiF3及びこれらのフッ素化合物の酸フッ素化合物やフッ素が一部欠乏したフッ素化合物を層状に形成できる。このようなフッ素化合物の中にNdF3 のように誘電損失がNdFeBよりも200℃以上の高温で大きいものは、ミリ波加熱によりフッ素化合物が発熱し、フッ素化合物の形成してある部分付近のみ加熱されるため、
NdFeB焼結体の内部磁気特性を劣化させずに、表層付近のみ磁気特性を向上させることが可能となる。NdFeB焼結体を加工したブロック焼結体は、最表面に加工変質層が存在しやすく、この付近の磁気特性が劣化しやすい。この磁気特性の劣化を修正するために、磁気異方性を大きくする元素を含むフッ素化合物を上記方法などで形成後、ミリ波加熱をすることで、フッ素化合物あるいは酸フッ素化合物が発熱し、フッ素化合物が形成されている部分のみ希土類の拡散を進行させることが可能である。この拡散によりNdFeBの保磁力向上,角型性向上が確認できた。
(1)水に溶解度の高い塩である酢酸Dy、または硝酸Dy4gを約100mLの水に導
入し、振とう器または超音波攪拌器を用いて完全に溶解した。
(2)約10%に希釈したフッ化水素酸をDyF3 が生成する化学反応の当量分徐々に加 えた。
(3)ゲル状沈殿のDyF3 が生成した溶液に対して超音波攪拌器を用いて1時間以上攪 拌した。
(4)4000r.p.m の回転数で遠心分離した後、上澄み液を取り除きほぼ同量のメタノ ールを加えた。
(5)ゲル状のDyF3 を含むメタノール溶液を攪拌して完全に懸濁液にした後、超音波 攪拌器を用いて1時間以上攪拌した。
(6)(4)と(5)の操作を酢酸イオン、又は硝酸イオン等の陰イオンが検出されなく なるまで、4回繰り返した。
(7)やや縣濁したゾル状のDyF3となった。処理液としてはDyF3が1g/15mL のメタノール溶液を用いた。
NdFeB合金粉と同様に希土類元素を少なくとも1種以上含むFe合金あるいは希土類元素を少なくとも1種以上及び半金属元素を含む合金に上記工程が適用可能である。またSmCo合金は希土類元素を少なくとも1種以上含むCo合金であり、このCo合金に種々の添加元素が添加されている合金の場合も上記工程が適用できる。これらの磁粉は、酸素濃度が10ppm 以上3000ppm 以下で平均粒径が1〜100μmで磁気的に異方性である。希土類フッ素化合物又はアルカリ土類金属フッ素化合物コート膜を希土類磁石用磁粉に形成するプロセスは以下の方法で実施した。
(1)均粒径が10μmの場合、希土類磁石用磁粉100gに対して15mLのDyF3 コート膜形成処理液を添加し、希土類磁石用磁粉全体が濡れるのが確認できるまで 混合した。
(2)(1)のDyF3 コート膜形成処理希土類磁石用磁粉を2〜5torrの減圧下で溶媒 のメタノール除去を行った。
(3)(2)の溶媒の除去を行った希土類磁石用磁粉を石英製ボートに移し、1×10-5 torrの減圧下で200℃,30分と400℃,30分の熱処理を行った。
(4)(3)で熱処理した磁粉に対して、容器に移したのち、1×10-5torrの減圧下で 、400〜800℃の熱処理を行った。
(5)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉の成形後の磁気特性を調べた。
AESなどの組成分析,構造解析及びXRDパターンから解析することが可能である。
DyF3 をNdFeCoB粉表面に上記のように形成した場合、界面付近にはDyF2 ,NdF2 及びNdO2 が成長するように400℃,30分から1時間の熱処理をした。さらに熱処理を500℃から800℃の高温で進めることにより、上記界面相以外にFeが成長する。このFeには希土類元素が含まれるが、酸素濃度は磁粉表面よりもフッ素化合物側に多い。他のフッ素化合物を表面処理で形成した場合にも酸素濃度がフッ素化合物中の酸素濃度よりも少ないFeが成長するのは熱処理温度が400℃よりも高い場合である。このように熱処理温度を高温側にするとフッ素化合物と磁粉間で希土類元素や酸素などが拡散し、磁粉の酸素の一部がフッ素化合物に拡散し、磁粉の希土類元素の一部がフッ素化合物に拡散する。この拡散により磁粉表面のFe相(Fe希土類合金)が成長し、その一部は母相のNdFeCoBと交換結合する。Fe相には希土類元素が含まれCoなどのNdFeBに添加されている元素が含まれる場合もある。このFe相の飽和磁束密度が
NdFeBよりも高いため、NdFeCoBと交換結合することにより外部磁界に対してFeの磁化回転が困難となり、残留磁束密度が増加する。表3に示すように、Feが界面相として認められる磁粉の残留磁束密度は、同じフッ素化合物を形成させた磁粉でFeが界面に認められない場合と比較して、その値が大きくなることがわかる。また、Feが界面相として成長している場合には最大エネルギー積、BHmax が大きい。尚、熱処理温度が400℃よりも低温側でも長時間熱処理することにより上記Fe相が成長する。
(1)水に溶解度の高い塩である酢酸Dy、または硝酸Dy2gと酢酸Nd2gを約100 mLの水に導入し、振とう器または超音波攪拌器を用いて完全に溶解した。
(2)約10%に希釈したフッ化水素酸を(Dy,Nd)F3 が生成する化学反応の当量分 徐々に加えた。
(3)ゲル状沈殿の(Dy,Nd)F3 が生成した溶液に対して超音波攪拌器を用いて1時 間以上攪拌した。
(4)4000r.p.m の回転数で遠心分離した後、上澄み液を取り除きほぼ同量のメタノ ールを加えた。
(5)ゲル状の(Dy,Nd)F3 を含むメタノール溶液を攪拌して完全に懸濁液にした後 、超音波拡販器を用いて1時間以上攪拌した。
(6)(4)と(5)の操作を酢酸イオン、又は硝酸イオン等の陰イオンが検出されなく なるまで、4回繰り返した。
(7)やや縣濁したゾル状の(Dy,Nd)F3となった。処理液としては(Dy,Nd)F3 が1g/15mLのメタノール溶液を用いた。
NdFeB合金粉には希土類元素を少なくとも1種以上含むFe合金あるいは希土類元素を少なくとも1種以上及び半金属元素を含む合金である。またSmCo合金は希土類元素を少なくとも1種以上含むCo合金であり、このCo合金に種々の添加元素が添加されている合金を含んでいる。これらの磁粉は、酸素濃度が10ppm 以上3000ppm 以下で平均粒径が1〜100μmで磁気的に異方性である。希土類フッ素化合物又はアルカリ土類金属フッ素化合物コート膜を希土類磁石用磁粉に形成するプロセスは以下の方法で実施した。
(8)平均粒径が10μmの場合、希土類磁石用磁粉100gに対して15mLの(Dy ,Nd)F3 コート膜形成処理液を添加し、希土類磁石用磁粉全体が濡れるのが確 認できるまで混合した。
(9)(1)の(Dy,Nd)F3 コート膜形成処理希土類磁石用磁粉を2〜5torrの減圧 下で溶媒のメタノール除去を行った。
(10)(2)の溶媒の除去を行った希土類磁石用磁粉を石英製ボートに移し、1×10-5 torrの減圧下で200℃,30分と400℃,30分の熱処理を行った。
(11)(3)で熱処理した磁粉に対して、多孔質アルミナ容器に移したのち、減圧下の Arガス雰囲気中でミリ波加熱装置により、400〜800℃の熱処理を行った 。
(12)(4)で熱処理を施した希土類磁石用磁粉の磁気特性を調べた。
AESなどの組成分析,構造解析及びXRDパターンから解析することが可能である。
DyF3をNdFeB粉表面に上記のように形成した場合、界面付近にはDyF2,NdF2及びNdO2 が成長するように400℃30分から1時間の熱処理をした。さらに熱処理を500℃から800℃の高温で進めることにより、上記界面相以外にFeが成長する。このFeには希土類元素が含まれるが、酸素濃度は磁粉表面よりもフッ素化合物側に多い。他のフッ素化合物を表面処理で形成した場合にも酸素濃度がフッ素化合物中の酸素濃度よりも少ないFeが成長するのは熱処理温度が400℃よりも高い場合である。このように熱処理温度を高温側にするとフッ素化合物と磁粉間で希土類元素や酸素などが拡散し、磁粉の酸素の一部がフッ素化合物に拡散し、磁粉の希土類元素の一部がフッ素化合物に拡散する。この拡散により磁粉表面のFe相(Fe希土類合金)が成長し、その一部は母相のNdFeBと交換結合する。Fe相には希土類元素が含まれCoなどのNdFeBに添加されている元素が含まれる場合もある。このFe相の飽和磁束密度がNdFeBよりも高いため、NdFeBと交換結合することにより外部磁界に対してFeの磁化回転が困難となり、残留磁束密度が増加する。表4に示すように、Feが界面相として認められる磁粉の残留磁束密度は、同じフッ素化合物を形成させた磁粉でFeが界面に認められない場合と比較して、その値が大きくなることがわかる。また、Feが界面相として成長している場合には最大エネルギー積、BHmax が大きい。尚、熱処理温度が400℃よりも低温側でも長時間熱処理することにより上記Fe相が成長する。
3000ppm を超えるとこれらの混合粉やこれらのフッ素化合物に酸素が結合した酸フッ素化合物がフッ素化合物よりも多く形成されるようになり、NdFeB粉の表面に酸フッ素化合物が層状あるいは粒状に形成される。
Claims (3)
- 測定空間に磁場強度分布の均一な静磁場を供給する静磁場発生手段と、測定空間の磁場均一性を調整するための強磁性体を使用しているMRI装置用静磁場発生装置において、
前記静磁場発生手段に測定空間を挟んで対向して配置された一対の永久磁石及び高周波シールドが磁極の測定空間に面する側に配置されており、
前記永久磁石は、希土類元素を含むフッ素化合物または酸フッ素化合物が層状に形成されたNdFeB系合金で構成されていることを特徴とするMRI装置。 - 請求項1に記載のMRI装置において、
前記NdFeB系合金は、鉄及び希土類元素を含む鉄希土類合金を含有することを特徴とするMRI装置。 - 請求項1に記載のMRI装置において、
前記フッ素化合物または酸フッ素化合物は、結晶構造が面心立方格子であることを特徴とするMRI装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005368992A JP4665751B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 高抵抗磁石を用いたmri装置 |
CN200610165927.6A CN100589755C (zh) | 2005-12-22 | 2006-12-11 | 使用了高阻抗磁铁的mri装置 |
US11/641,757 US7352184B2 (en) | 2005-12-22 | 2006-12-20 | MRI apparatus with high-resistance magnet |
US12/050,438 US7847555B2 (en) | 2005-12-22 | 2008-03-18 | MRI apparatus with high-resistance magnet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005368992A JP4665751B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 高抵抗磁石を用いたmri装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007167349A JP2007167349A (ja) | 2007-07-05 |
JP4665751B2 true JP4665751B2 (ja) | 2011-04-06 |
Family
ID=38182798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005368992A Expired - Fee Related JP4665751B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 高抵抗磁石を用いたmri装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7352184B2 (ja) |
JP (1) | JP4665751B2 (ja) |
CN (1) | CN100589755C (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4665751B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2011-04-06 | 株式会社日立製作所 | 高抵抗磁石を用いたmri装置 |
US7806991B2 (en) * | 2005-12-22 | 2010-10-05 | Hitachi, Ltd. | Low loss magnet and magnetic circuit using the same |
US8999764B2 (en) * | 2007-08-10 | 2015-04-07 | International Business Machines Corporation | Ionizing radiation blocking in IC chip to reduce soft errors |
EP2343566A4 (en) * | 2008-09-29 | 2014-04-16 | Omron Tateisi Electronics Co | MAGNETIC FIELD DETECTION ELEMENT AND SIGNAL TRANSMISSION ELEMENT |
US20110200839A1 (en) * | 2010-02-17 | 2011-08-18 | Melania Marinescu | Rare Earth Laminated, Composite Magnets With Increased Electrical Resistivity |
US9279871B2 (en) | 2011-12-20 | 2016-03-08 | General Electric Company | System and apparatus for compensating for magnetic field distortion in an MRI system |
US9322892B2 (en) | 2011-12-20 | 2016-04-26 | General Electric Company | System for magnetic field distortion compensation and method of making same |
US9274188B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-03-01 | General Electric Company | System and apparatus for compensating for magnetic field distortion in an MRI system |
MX2017002939A (es) * | 2014-09-05 | 2017-12-07 | Hyperfine Res Inc | Configuracion automatica de un sistema de formacion de imagenes por resonancia magnetica de campo bajo. |
US10347406B2 (en) * | 2015-09-28 | 2019-07-09 | Ford Global Technologies, Llc | Internally segmented magnets |
US20170092399A1 (en) * | 2015-09-28 | 2017-03-30 | Ford Global Technologies, Llc | Segmented permanent magnets |
KR102016615B1 (ko) * | 2017-09-14 | 2019-08-30 | (주)코미코 | 내플라즈마 특성이 향상된 플라즈마 에칭 장치용 부재 및 그 제조 방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02254709A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-15 | Kobe Steel Ltd | 磁気特性に優れた磁性複合材料の製造方法 |
JPH0423411A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-27 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Mri用磁界発生装置 |
JPH06176916A (ja) * | 1992-12-09 | 1994-06-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁場発生装置 |
JPH09232133A (ja) * | 1996-02-21 | 1997-09-05 | Sanei Kasei Kk | 柔軟な永久磁石シート及びその製造方法 |
JP2004065714A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Mri用磁界発生装置 |
JP2006238604A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi Ltd | 永久磁石式回転機 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69031250T2 (de) * | 1989-06-09 | 1997-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetisches Material |
US5252924A (en) * | 1991-11-18 | 1993-10-12 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Magnetic field generating apparatus for MRI |
USRE35565E (en) * | 1990-05-18 | 1997-07-22 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Magnetic field generating apparatus for MRI |
US6201394B1 (en) * | 1992-12-18 | 2001-03-13 | Fonar Corporation | MRI apparatus |
US5837392A (en) * | 1995-11-30 | 1998-11-17 | Sony Corporation | Soft magnetic thin film and thin film magnetic head using same |
US6043656A (en) | 1998-11-23 | 2000-03-28 | General Electric Company | Method for compensating an MRI system for residual magnetization |
JP2003282312A (ja) | 2002-03-22 | 2003-10-03 | Inter Metallics Kk | 着磁性が改善されたR−Fe−(B,C)系焼結磁石およびその製造方法 |
US6783059B2 (en) * | 2002-12-23 | 2004-08-31 | General Electric Company | Conduction cooled passively-shielded MRI magnet |
US7741714B2 (en) * | 2004-11-02 | 2010-06-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Bond pad structure with stress-buffering layer capping interconnection metal layer |
JP4665751B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2011-04-06 | 株式会社日立製作所 | 高抵抗磁石を用いたmri装置 |
US7806991B2 (en) * | 2005-12-22 | 2010-10-05 | Hitachi, Ltd. | Low loss magnet and magnetic circuit using the same |
JP4415980B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2010-02-17 | 株式会社日立製作所 | 高抵抗磁石およびそれを用いたモータ |
JP2009033907A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Hitachi Ltd | スピンドルモータ |
-
2005
- 2005-12-22 JP JP2005368992A patent/JP4665751B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-11 CN CN200610165927.6A patent/CN100589755C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-20 US US11/641,757 patent/US7352184B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-03-18 US US12/050,438 patent/US7847555B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02254709A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-15 | Kobe Steel Ltd | 磁気特性に優れた磁性複合材料の製造方法 |
JPH0423411A (ja) * | 1990-05-18 | 1992-01-27 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Mri用磁界発生装置 |
JPH06176916A (ja) * | 1992-12-09 | 1994-06-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁場発生装置 |
JPH09232133A (ja) * | 1996-02-21 | 1997-09-05 | Sanei Kasei Kk | 柔軟な永久磁石シート及びその製造方法 |
JP2004065714A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Mri用磁界発生装置 |
JP2006238604A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi Ltd | 永久磁石式回転機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070159171A1 (en) | 2007-07-12 |
US20080171216A1 (en) | 2008-07-17 |
JP2007167349A (ja) | 2007-07-05 |
CN100589755C (zh) | 2010-02-17 |
CN1985760A (zh) | 2007-06-27 |
US7352184B2 (en) | 2008-04-01 |
US7847555B2 (en) | 2010-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4665751B2 (ja) | 高抵抗磁石を用いたmri装置 | |
JP4900121B2 (ja) | フッ化物コート膜形成処理液およびフッ化物コート膜形成方法 | |
JP4564993B2 (ja) | 希土類磁石及びその製造方法 | |
JP4415980B2 (ja) | 高抵抗磁石およびそれを用いたモータ | |
JP4525425B2 (ja) | フッ化物コート膜形成処理液,フッ化物コート膜形成方法及び磁石 | |
Li et al. | Grain interface modification and magnetic properties of Nd–Fe–B sintered magnets | |
Hirota et al. | Coercivity enhancement by the grain boundary diffusion process to Nd–Fe–B sintered magnets | |
Nakamura et al. | Magnetic properties of extremely small Nd-Fe-B sintered magnets | |
Ma et al. | Coercivity enhancements of Nd–Fe–B sintered magnets by diffusing DyHx along different axes | |
JP2007116088A (ja) | 磁性材料,磁石及び回転機 | |
JP4867632B2 (ja) | 低損失磁石とそれを用いた磁気回路 | |
JP4698581B2 (ja) | R−Fe−B系薄膜磁石及びその製造方法 | |
JP4797906B2 (ja) | 磁性材料,磁石及び回転機 | |
US9129731B2 (en) | Sintered magnet | |
US20120111232A1 (en) | Treating solution for forming fluoride coating film and method for forming fluoride coating film | |
KR101662465B1 (ko) | NdFeB계 소결자석 | |
WO2012176655A1 (ja) | 焼結磁石 | |
JP4700578B2 (ja) | 高抵抗希土類系永久磁石の製造方法 | |
JP2000096102A (ja) | 耐熱希土類合金異方性磁石粉末 | |
JP2011029293A (ja) | 希土類磁石及びそれを用いた輸送機器用磁石モータ | |
Ono et al. | Investigation of high saturation magnetization of low rare-earth content α-Fe/Nd 2 Fe 14 B bulk exchange-spring magnets |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100728 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101214 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101227 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |