JP4484414B2 - 電解質流体中の金属イオン濃度を調整するための方法と装置並びに上記方法の使用法及び上記装置の利用法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電解質流体（電解液）中の金属イオン濃度を調整するための方法及び装置に関する。上記方法及び上記装置は、銅の電解析出に供せられまたFe(II)化合物及びFe(III)化合物を追加的に含有する銅析出溶液中の銅イオン濃度を調整するためにとりわけ使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
不溶性アノードを用いた電気めっきでは、電解質流体中の析出されるべき金属のイオン濃度をできるだけ一定に保つように配慮されなければならない。それは例えば、電解金属析出による電解質流体内の金属イオン損失を、対応する金属化合物の添加で埋め合わせることによって達成されることができる。しかしながらこのために費やされる補給コスト及び廃棄物処理コストは膨大である。電解質流体中の金属イオンを補給する別の周知の方法は、金属を酸化剤、例えば酸素を用いて、流体に直接溶解させるというものである。銅めっきのため金属銅が、空気中の酸素で豊富化された電解質流体中に溶解される。中でも金属塩で補給する際に生じるバラスト（安定）塩は、この場合、電解質流体中に蓄積されない。ただし両方の場合において電気めっきの際に電解槽の不溶性アノードに酸素が発生する。この酸素は、析出される金属皮膜の物理的特性をコントロールするために電解質流体に通常加えられ電解質流体中にある有機添加物を腐食する。酸素は更にまたアノード素材を腐食破壊してしまう。
【０００３】
不溶性アノードでの有害ガスの形成（発生）を回避するため、例えば酸素形成並びに追加的に塩素イオンを含有する硫酸性の銅めっき浴を用いる際には更に塩素形成を阻止するため、DD215 589 B5では不溶性アノードを用いた電解金属析出のための方法が提案されていて、そこでは電解質流体に電気化学的に可逆な酸化還元系の物質、例えばFe(NH_４)_２(SO_４)_２が添加剤として加えられ、集中的な強制対流によって電解質流体とともにアノードに運ばれ、そこで電解電流によって電気化学的に変えられ、その変換後集中的な強制対流によりアノードから金属イオン発生器に送られ、そこで当該発生器に含まれる再生金属に関し、同時に外部電流のない再生金属の溶解においてその初期状態に電気化学的にもどり、その初期状態において再び集中的な強制対流により析出タンクに運ばれる。金属イオン発生器において金属片（塊）の溶解によって形成される金属イオンは、電解質流体とともにめっき設備に案内される。
【０００４】
この方法において、不溶性アノードにおける有害な副産物の形成が妨げられる。その上、電解金属析出において消費された金属イオンは、金属片が酸化剤で酸化され金属イオンを形成することによって、対応する金属片の電気化学的な可逆的酸化還元系物質との反応によって補充される。
【０００５】
DD261 613 A1において、Fe(NH_４)_２(SO_４)_２のような電気化学的な可逆的酸化還元系物質を用いた電解銅めっきのための方法が記載され、そこでは滑らか且つ光沢度の高い銅皮膜を析出するために析出液中に通常使用される有機添加物が、上記方法の実施の際、不溶性アノードでは酸化されないことが述べられている。
【０００６】
DE43 44 387 A1では、同様に予め決められた物理的特性を備えた銅を電解析出するため、不溶性アノード及び電気めっき槽の外に配置された銅イオン発生器並びに析出液内の電気化学的な可逆的酸化還元系物質を用いた方法が記載され、そこでは銅イオン発生器が金属イオンのための再生室として使われ、また銅片を含んでいる。DD215 589 B5及びDD261 613 A1で記述された方法を実施する際、有機添加物の分解が析出液内で観察され、そのため析出浴の長期に及ぶ稼働でこの添加物の分解生成物が浴内において蓄積されるであろうことが述べられている。この問題を解決するため、電気化学的に可逆的な酸化還元系物質を、電気めっきプラントにおけるめっき技術に必要な全銅イオン含有量がちょうどよく維持される濃度で使用すること、並びに電気めっき槽の内外の電解質流体を、電解槽のアノードで酸化形成され可逆的変換可能物質のイオン寿命が、全めっきプラント内で時間的にかなり制限され、添加物の分解をこれらのイオンにより回避し又は著しく減少するという様に、導くことが提案されている。
【０００７】
既述の方法及び装置では、電解質流体内の金属含有量が簡単に一定に保つことができないことが問題である。そのため、析出条件が変化し、及びそれにより電解析出での再生可能な関係に達しないという結果になる。電解質流体中の金属含有量の変化は、金属イオン発生器内の金属片が、電気化学的に可逆的な酸化還元系の物質の作用のもとで形成されるばかりでなく、電気化学的に可逆的な酸化還元系の物質としてFe(II)／Fe(III)化合物を用いた銅めっき浴の場合に、更に電解質流体に含有される空気中からの酸素によっても形成されることにとりわけ起因している。
【０００８】
更にまた電気化学的に可逆的な酸化還元系の酸化された物質が、金属イオン発生器内だけでなく、析出タンク内のカソードにおいても還元され、その結果、カソードの電流効率は単に約９０％であることが確認された。
【０００９】
先に述べた理由から、金属イオン発生器内の金属イオンの形成とその金属イオンの電解金属析出による消費との間における定常状態は起こらない。特にこの作用はより高い温度で行うとなお顕著である。そのため電解質流体中での析出されるべき金属イオンの含有量は絶えず増加することになる。しかしながら金属イオンの含有量は、析出された金属皮膜の十分に優れた物理特性を維持することができるために、狭い範囲内にとどめる必要がある。
【００１０】
この目的のためにとりわけWO 9910564 A2では、電解質流体中の金属イオン濃度が不溶性アノードを用いた追加的な電解二次槽において低下することは不可能であることが述べられ、それはここで用いられた不溶性アノードの代わりに可溶性アノードを用いた従来の電気めっき設備により知られているのと同じである。ここで生じる問題は、電気化学的に可逆な酸化還元系の物質が二次槽のアノードで酸化され、その結果、この物質の酸化種の含有量が流体中で高まる点にある。この結果、更に電解液中の金属イオン含有量が更に上昇し、その結果、金属イオン濃度を低下させる本来の目的が達成されないことになる。
【００１１】
上述の文献ではなお追加的に、上記問題に対する解決の可能性として、電解質流体を不変的に希釈することが述べられている。この目的のためにしかしながら絶えず多量の流体が廃棄及び処理されなければならなくなるため、この「フィード・アンド・ブリード”」法としても周知のプロセスは不十分である。
【００１２】
この問題を解決するためにこの文献では、金属イオン濃度を調整するための方法と装置が提案されている。それによると、電気めっきプラントに含まれている電解質流体の少なくとも一部が、少なくとも一つの不溶性アノードと少なくとも一つのカソードを有する一つないし複数の電解補助槽を通って導かれ、また補助槽のアノードとカソード間に非常に高い電流が流れ、アノード表面における電流密度は少なくとも６A／dm^２でカソード表面における電流密度はせいぜい３A／dm^２の値である。アノード表面積のカソード表面積に対する比率は少なくとも１：４に調整される。
【００１３】
この配置により電解質流体中での金属イオン含有量は、電気化学的に可逆的な酸化還元系の、電解質流体中に含まれる酸化種の一部が、補助槽のカソードで還元されることにより、より長期にわたって一定に保たれる。補助槽内のアノード及びカソードでの電流密度の比率が、例えば上記アノード及び上記カソードの表面積比の適切な選択により調整されることにおいて、電気化学的に可逆的な酸化還元系の還元種が、補助槽のアノードにおいて酸化されず又はごく僅かに副次的な程度で酸化されるだけであり、電気化学的に可逆的な酸化還元系の酸化種の濃度は調整され得、それにより金属イオンの形成速度に直接影響が及ぼされる。
【００１４】
しかしながらWO9910564 A2で記載された装置は、析出タンクのために複数の二次槽が設けられなければならないため、かなり費用がかかることが明らかになった。ここで問題になっているのは、先に述べた補助槽及び金属イオン発生器である。場合によっては生産設備において多くの補助槽及び金属イオン発生器が設けられなければならない。その上、補助槽内でのカソードにおいて金属析出が絶え間なく進み、その結果、カソードにおいて電気化学的に可逆的な酸化還元系の酸化種の還元効率が、絶えず低下し、それにより高い電力（電気出力）が必要となる。このために用いられる直流整流器は補助槽の電源に対し高い定格出力で敷設されなければならないため、更により高い設備費が必要である。その上この装置の耐用年数（寿命）はアノード材料における腐食攻撃により限定される。
【００１５】
更に補助槽のカソード上に析出される銅は、時折電気化学的に元の状態に除去されなければならないため、更に余分なエネルギーが消費され、そしてその間、装置は使えないことになる。そのため生産を連続的に行うために、複数の補助槽が設けられなければならないが、そのうちのいくつかは金属イオン濃度を調整するために使われ、それと同時に別の並列に接続された補助槽では銅がカソードから元の状態に除去される。ここでは、通常用いられるカソードの材料がはく離工程により損傷されるという著しい欠点がある。それにより一方で還元効率が低下する。他方でカソードがいくつかの剥離工程後に新品によって補充されなければならない。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
それゆえ、本発明の基礎をなす課題は、周知の方法及び装置の欠点を回避し、とりわけ電解析出方法の経済的な操作方法を可能とする装置及び方法を見つけることである。とりわけ上記析出方法では不溶性アノード及び電解質流体中に含まれる電気化学的に可逆的な酸化還元系の物質を用いようとする。上記方法は非常に長期間にわたって一定の条件下において実施可能であるだろう。その際とりわけ電解質流体中の金属イオン濃度がこの期間内において狭い範囲内で一定に保たれるであろう。とりわけ金属イオン濃度を簡単な手段で、ほんの僅かなエネルギー消費及び少ない設備費で一定に保つことが可能であろう。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
この課題は請求項１に係る方法、請求項１１に係る装置、請求項２２に係る方法適用法並びに請求項２３に係る装置利用法により解決される。本発明の好ましい実施の形態は従属請求項に記載されている。
【００１８】
本発明に係る方法は、金属の電解析出に供せられ及び電気化学的に可逆な酸化型及び還元型での酸化還元系物質を付加的に含有する電解質流体内における金属イオン濃度を調整するのに役立つ。それは次のステップを備えて成っている：
ａ．少なくとも電解質流体の一部が、それぞれ少なくとも一つの不溶性補助アノード及び少なくとも一つの補助カソードを備えた少なくとも一つの補助槽を通って案内され、
ｂ．上記補助槽の補助カソードと補助アノードの間に電圧をかけることにより電流が流れ、
ｃ．析出されるべき金属の部片を補助カソードとして使う。
【００１９】
この目的のために、電解質流体は金属電解析出設備及び補助槽を通って、当該流体が上記設備及び槽を少なくとも時々同時に又は場合によっては相前後しても貫流するように、永続的に案内される。その際、流体は補助槽の貫流後に絶えず再び装置に戻ってくる。
【００２０】
金属の電解析出のために、金属は少なくとも一つの不溶性、好適には大きさの安定した主要なアノードを用いて電解質流体から被処理物ヘ析出される。この目的のために被処理物と主要アノード間に電流が流れる。金属イオンは、補助槽として電解質流体で少なくとも部分的に貫流された少なくとも一つの金属イオン発生器内で、酸化型の酸化還元系物質により金属片の溶解から形成される。その際、酸化型の物質は対応物質の形成、例えば金属イオンを形成して、還元型に変換される。その際に生成される還元型の物質は、主要アノードにおいて対応物質が酸化型に形成されると再び酸化される。
【００２１】
本発明に係る装置は、それゆえ電解補助槽として供される金属イオン発生器であり、
ａ．析出されるべき金属の部片（以下、金属片という）で充填されていて、また
ｂ．少なくとも一つの不溶性補助アノード、及び補助アノードと充填可能な金属片との間で電流の流れを発生するための少なくとも一つの電源、好適には直流電源を有し、
ｃ．その際、金属片は補助カソードとして使われ得る。
【００２２】
補助アノードを取り巻くアノード室及び金属片を取り巻くカソード室は、好適には少なくとも部分的にイオン透過性の手段により互いに隔てられている。しかしながら必要であれば、アノード室とカソード室の間の少なくとも部分的にイオン透過性の手段が設置されないこともある。この場合、カソード室に含まれる電解質流体とアノード室における電解質流体とが少なくともできるだけ混合しないようにするため、補助カソードは金属イオン発生器の流体静止部分に収納される。例えば、混合がほとんど起きないように、両方の室が構造的に互いに隔てられる。金属片は好適には金属イオン発生器の非常によく貫流する部分に収納されている。
【００２３】
銅を電解析出するために使われ付加的にFe(II)化合物及びFe(III)化合物を含有する銅析出溶液における銅イオン濃度を調整するためにとりわけ有用な本発明に係る方法及び装置を用いて、金属背移出溶液中の金属イオン含有量が狭い範囲内で一定に維持されることができ、その結果、再生可能な析出条件が維持可能である。金属析出溶液は、絶えず電気めっき設備から、例えば析出タンクから、本発明に係る金属イオン発生器に、またそこから再び戻って電気めっき設備内に送られる。電気めっき設備内の主要なアノードで形成される酸化還元系の酸化型物質は、金属イオン発生器内の金属片で金属イオンを形成し再び還元される。金属イオン発生器での酸化還元系の還元型物質の形成率（速度）は、補助アノードに対する金属片のカソード的分極化によって変化させられ得るため、金属イオン発生器内での金属イオン形成率は調整可能である。補助アノードにおける酸化還元系の還元物質の酸化型への新たな酸化は、補助アノードを取り巻くアノード室が、金属片を取り巻くカソード室と隔てられていることによって、かなり防がれる。アノード室及びカソード室での流体の混合はかなり回避され、その結果、酸化還元系の還元物質は、極めて僅かな量だけ補助アノードに達する。それはこれら物質が拡散だけで補助アノード室に達することができることと、アノード室でのこれら物質の濃度がそこでの電気化学的反応により激減するためである。
【００２４】
金属イオン発生器内の電流を調整することによって、酸化還元系の還元型物質の生成率及びそれに続く金属イオン発生器内の金属イオンの形成率は、或る値に調整される。その値というのは、酸化還元化合物での酸化のよる単位時間当たりに生成される金属イオンの量に、電解質流体中に取り込まれる空気中の酸素による金属の溶解で生じる量を加えた量が、電気めっき設備でのカソードで消費される金属イオンの量と正確に同じ大きさであるような値である。それによって電解質流体中で析出されるべき金属の全イオン含有量は一定のままである。本発明に係る方法を使うと、金属イオン形成とその消費との間に所望の定常状態が生じる。
【００２５】
本発明に係る方法及び装置は、WO9910564 A2に記載された発明に比べ、更に別の長所を備えていて、それは一つないし複数の二次槽だけが電気めっき設備に追加的に設けられる必要があり、一つないし複数の補助槽や、一つないし複数の追加的な金属イオン発生器は必要ないことである。それによって設備技術に対する費用は著しく低下する。その上、析出溶液は、WO 9910564A2に記載された設備での場合と同様に不活性な補助カソードと接触せず、その結果、金属の補助カソード上への想定される析出は、上で論議された問題を生じない。そのため本発明に係る方法は、非常に長期にわたって根本的なメンテナンス作業をせずに済み、例えば従来装置で必要とされるような補助カソードに析出された金属を中間除去する手間がいらない。その際に生じる問題は、補助カソード上に形成された金属皮膜によって起きる酸化還元系の酸化物質の還元物質への変換の効率の低下で、それが本発明を用いると生じない。
【００２６】
電解質中での酸化還元系の酸化型物質の含有量が減少すると、付随的な利点が生じる。つまり電気めっき設備内の被処理物が、本発明に係る方法を実施する際に、酸化還元系の酸化型物質濃度の低下した電解質流体中にあることである。対応する酸化還元系物質の減少量が、電気めっき電流により被処理物において還元される。その結果、電気めっき設備内でのカソードの電流効率が向上される。それと関連した生産能力収率の値は１０％までになる。
【００２７】
本発明の別の長所は、可溶性アノードを使った電気めっき設備で知られたアノードスライム（ヘドロ）が無いことである。それでも部分的に装置の「フィード・アンド・ブリード」操作は有益であるかもしれない。これは、電解質流体中の有機及び／又は無機の添加物が長時間の操業において交換されるようになっているならば、とりわけ有効である。電解質流体を部分的に廃棄する結果として、酸化還元系の酸化された金属イオンの含有量もその分に応じて低下する。金属イオン発生器のキャパはその分だけ低下する。それによって金属イオン含有量はまた、金属イオン発生器内で酸化還元系の酸化型の物質が還元され、それと同時に電解質流体の一部が電気めっき設備から除去され、新鮮な電解質流体に置き換えられることによって一定に保たれることができる。
【００２８】
好適には貴金属及び／又はとりわけ貴金属酸化混合物で活性化された不活性金属電極が不溶性補助アノードとして使われる。この材料は析出溶液及び使われる酸化還元系の物質に対して、化学的及び電気化学的に安定している。例えばチタン又はタンタルが基本材料として用いられる。上記基本材料は好適には、僅かな場所だけが与えられている場合に大きな表面を提供するために、穴のあいた電極材料として、例えば差し込み金属（リブメッシュ金属、Steckmetal）又はネットの形態で用いられる。電気化学的反応では著しい分極過電圧がこれらの金属にかかるため、基本材料は貴金属で、好適には白金、イリジウム、ルテニウム又はそれらの酸化物或いは酸化混合物で皮膜される。その上、基本材料はそれによって更に電気分解の損失（剥離）に対しても保護される。球体照射されることで穴の無い濃厚化（圧縮）された酸化イリジウム被覆チタンアノードは、十分な抵抗性を備え、そのため使用状況下でも寿命が長い。
【００２９】
好適には金属片は球の形で使われる。銅は可溶性銅アノードを用いた場合と同様、リンを含む必要がない。それによりアノードスライムの形成が減少する。金属球には、金属片が溶解する際に金属イオン発生器で球体のバルク（かさ）の体積が減少することで、ブリッジ形の空洞になりにくく、その結果、新しい金属片を追加補充するのが簡単であるという長所がある。適切な直径を有する球を用いることによって、金属イオン発生器内のバルク体積は最適化される。それにより再び流れ抵抗又は与えられたポンプ性能での析出溶液の体積流は、形成された金属球バルクによって決められる。しかし金属片は本質的には円柱形又は直方体形であってもよい。カソード室の十分な貫流に注意が払われるべきである。
【００３０】
更にアノード室に達する酸化還元系の還元型物質の酸化を一層減らすために、金属片の少なくとも一つの補助アノードに対する表面積比は、少なくとも４：１の値に調整される。それによって補助アノードでの電流密度は高められ、その結果、好適には析出溶液の水は酸素を形成しながら酸化され、また僅かな副次的な範囲で酸化還元系の還元型の物質が酸化される。表面積比が少なくとも６：１であるのが特に好適であり、また少なくとも１０：１がとりわけよい。少なくとも好適なのは比が４０：１で、またとりわけ少なくとも１００：１である。このような大きな表面積比は、例えば小さい金属球の、例えば直径が小さい金属球の選択により調整可能である。典型的にはカソードの電流密度が０．１A／dm^２乃至０．５A／dm^２に、またアノードの電流密度が２０A／dm^２乃至６０A／dm^２となる。これらの条件下では実際アノードには更に酸素だけが形成される。場合によってはアノード室にある酸化還元系の還元型の物質はこれらの条件下では実際酸化されない。
【００３１】
金属イオン発生器は好適には管状の形状である。この場合、有利な実施の形態は、金属片により占有され得る室の上方に補助アノードを設けることにある。それにより補助アノードでのアノード的水分解により形成される酸素が、金属イオン発生器内の析出溶液から放出されるが、酸素は金属片と接触すること無く、また上記溶液と集中的に（密接に）接触しない。それは酸素が上記溶液にかなりの量溶解して、このようにして金属片に到達するためである。この配置により、それゆえ金属片は酸素の作用によって急速に溶解することが妨げられる。
【００３２】
代替的な、有利な実施の形態では、金属イオン発生器は垂直区分で二つの部分（アノード室及びカソード室）に分けられ、その際、一方の部分では金属片が、また他方の部分では少なくとも補助アノードが配置される。またこの場合でも補助アノードにおいて発生する酸素は、金属片と更に接触することなく析出溶液から出る。
【００３３】
金属片のバルクは、好適には篩い状の形状をした不活性材料、例えばチタンからなる電極の上に置かれている。この電極を介して、電流が金属片に供給され得る。この電極が篩い状の形状をしていることによって、析出溶液は上記篩いを通り抜けて金属バルクに、またそれを通り抜けて送られる。そのため再生可能な流れの関係が金属バルク内で調整される。カソード室に入る析出溶液は、カソード室の上部にある金属バルクを通り抜けた後上記カソード室からあふれ出ることによって再び外に導かれる。バルクを通り抜ける流れの速度が高く調整されることによって、金属片におけるこの酸化還元系の酸化型物質に対する濃度過電圧（Konzentrationsueberspannung）が低下するため、金属片でのこの物質の還元効率が高められる。
【００３４】
補助アノードはアノード室に、及び金属片はカソード室に周りを囲まれ、それらには析出溶液が存在している。両方の室は少なくとも部分的にイオン透過性の手段により互いに隔てられている。イオン透過性の手段として好適には流体乃至液体透過性で非伝導性のクロス（織り布）、例えばポリプロピレンクロスが用いられる。この材料は電解質室間における対流を妨げる。
【００３５】
代替の実施の形態においてはイオン交換膜も用いられる。それら膜は別の長所を有していて、電解液室間の対流だけでなく、移動も選択的に防ぐことである。例えばアニオン（陰イオン）交換膜が用いられると、アニオンはカソード室からアノード室へ達することができるが、カチオン（陽イオン）はアノード室からカソード室へ達することができない。Fe^２＋イオン及びFe^３＋イオンを含む銅析出溶液が用いられる場合、アノード室で酸化により形成されたFe^３＋イオンはカソード室に運ばれないため、本発明に係る装置の効率は弱められない。これらのイオンがカソード室に運ばれてしまうと、Fe^３＋イオンは、Cu^２＋還元と競合する反応でFe^２＋イオンに還元されることになる。そのことからイオン交換膜は、少なくとも部分的にイオン透過性の手段として技術的な観点においてとりわけ好適である。もっともこれらの材料はまた液体透過性クロスより高価でまた機械的に脆弱である。
【００３６】
析出溶液中での金属イオン濃度は、例えば補助アノードと金属片との間の電流の流れを調節することによって調整される。このために電流は電源を介して制御される。金属イオン含有量を自動制御するために追加的にセンサーが設けられ、それで溶液中の金属イオン濃度が継続的に測定される。この目的のために析出溶液が循環する別の離れた測定槽で光化学的に析出溶液の吸光（減光）が算出され、測定槽のアウトプット信号が電位差計乃至比較測定器に送られる。その際に生じた変数値はその後制御値に、電源での電流を調節するため変換可能である。この電流を介して主として電解質流体中の酸化還元系物質の含有量が影響される。これと同様にこの含有量により金属片での溶解速度が影響される。
【００３７】
電解質流体は、不活性主要アノード及び皮膜されるべき被処理物が存在する電気めっき設備から、強制循環で金属イオン発生器に運ばれ、そこから再び電気めっき設備に戻される。このために流体を適当な導管により強制循環で運ぶポンプが使われる。場合によっては電気めっき設備と金属イオン発生器の間に配置される貯蔵タンクも使われる。この貯蔵タンクは例えば電気めっき設備内で複数の平行に稼働する析出タンク用の電解質流体を貯蔵するのに供される。このために二つの流体サイクルが形成され、その内の一つは析出タンクと貯蔵タンク間に、もう一つは貯蔵タンクと金属イオン発生器間に形成される。更に電解質流体からの不純物を除去するために、循環内にフィルター材（ろ過手段）も挿入可能である。できるだけ流れ経路を短縮するために、原則として金属イオン発生器は析出タンク自体の中に設置されることも可能である。
【００３８】
本発明は、好適には析出タンク内に寸法の安定した不活性アノードを用いて銅浴内の銅イオン含有量の濃度を調整するのに適し、上記浴内には銅イオン濃度を維持するため、Fe^２＋塩及びFe^３＋塩、好適にはFeSO_４／Fe_２(SO_４)_３又はFe(NH_４)_２(SO_４)_２又はその他の塩が含まれる。本発明は基本的には他の金属、例えば亜鉛、ニッケル、クロム、スズ、鉛及びそれら相互の合金及びそれらとそれ以外の元素、例えばりん及び／又はホウ素との合金を電解析出するのに供される浴内の金属イオン濃度を調整するのにも使われる。この場合では時によっては電気化学的に可逆的な変換可能な酸化還元系の他の物質が利用され、その際、酸化還元系はそれぞれ析出電位に依存して選択される。例えばチタン、セリウム、バナジウム、マンガン、クロムの化合物も使われる。利用可能な化合物は、例えばチタニル硫酸（Titanylschwefelsaeure）、硫酸セリウム(IV)、メタバナジン酸アルカリ(Alkalimetavanadat)、硫酸マンガン（II）及びクロム酸アルカリ又はジクロム酸アルカリ（Alkalichromat oder ?dichromat）である。
【００３９】
本発明に係る方法及び装置は、特に電気めっきするための水平連続送り設備における使用に適し、その設備内では板状の被処理物、好適にはプリント回路基板（プリント配線板）が水平又は垂直状態でまた水平方向に直線的に移動され、その際に電解質流体と接触するようになっている。上記方法は、被処理物を多くの場合に垂直方向で浸漬する従来の浸漬設備における被処理物の電気めっきにも当然使用可能である。
【００４０】
【発明の実施の形態】
本発明を、図を参照して以下に詳細に説明する。
図１では、析出タンク（めっき浴）１、金属イオン発生器２及び貯蔵タンク３を備えた電気めっきのための装置配置が概略で示されている。析出タンク１は例えばプリント回路基板を処理するための連続送り設備として形成され、その際に好適には流体だめが設けられ、そこから電解質流体が取り出され、プリント回路基板にスプラッシュ又はスプレイ又は上記基板との他の方法で接触させられ、プリント回路基板との接触後に再び流れ戻される。図１で示されたタンク１はこの場合、流体だめである。
【００４１】
個々のタンクには電解質流体が満たされている。電解質流体として例えば硫酸性の銅浴が用いられ、それには硫酸銅、硫酸及び塩化ナトリウム並びに析出される金属の物理的特性を調整するための有機及び無機添加剤が含まれている。
【００４２】
金属イオン発生器２には、補助アノード２０及び金属片３０が含まれている。金属片３０（部分のみで示されている）は、チタン製の篩い底３１上にバルクとして置かれている（積重ねられている）。篩い底３１及び補助アノード２０は、配電線４０，４１を介して直流電源５０と接続されている。篩い底３１はカソード的に極性を与えられ、このために電源５０の陰極端末と接続されている。補助アノード２０はアノード的に極性を与えられ、電源５０の陽極端末と接続されている。金属片３０の篩い底３１との電気的な接触を介して、金属片３０は同様にカソード的に極性を与えられ、その結果、電流が金属片３０及び補助アノード２０の間で流れる。補助アノード２０を取り巻くアノード室２５と金属片３０の存在するカソード室３５との間に、イオン透過性のポリプロピレンクロス（織り布）２１が、上記室２５及び３５との間の対流性流体交換を防ぐために取り付けられる。
【００４３】
析出タンク１は、第一の流体循環において貯蔵タンク３と接続されている：電解質流体は析出タンク１の上部から導管４を通って抜き取られ、貯蔵タンク３に運ばれる。例えば流体はオーバーフロー室を介して析出タンク１から抜き取られ（流れ落ち）ることができる。貯蔵タンク３に含まれる流体は、このタンクの下部において導管５を通ってポンプ６によって抜き取られ、フィルター部７、例えば巻きキャンドルフィルター（テーパー状のフィルターキャンドル）を介して導かれる。濾過された溶液は導管８を通って析出タンク１に再び戻される。
【００４４】
貯蔵タンク３は更に、金属イオン発生器２と第二の流体循環において接続されている：流体は貯蔵タンク３の底で導管を通って導き出され、篩い底３１より下方にある下部域において金属イオン発生器２内に引き入れられる。上記流体はカソード室３５の上部域においてオーバーフローにより金属イオン発生器２から再び取り去られ（流れ落ち）、導管１０を通って貯蔵タンク３に再び戻される。
【００４５】
図２では金属イオン発生器２の第一の実施形態が断面図で示されている。金属イオン発生器２は例えばポリプロピレン製の管状ケース１５からなり、それはまた一方の底１６も同様に例えばプロピロピレン製からなっている。上記管状ケース１５は上部端面に開口部１７を備えている。管状ケース１５の下部領域には電解質流体のための流体入口１８が設けられている。上部領域には対応して流体出口１９が配置されている。管状ケース１５の断面は好適には矩形、正方形又は円形である。
【００４６】
金属イオン発生器２にはアノード室２５及びカソード室３５がある。アノード室２５及びカソード室３５は、壁２４及び当該壁の下淵に固定されたイオン透過性クロス２１により、互いに隔てられている。イオン透過性クロスには、この場合ポリプロピレンクロスが使われている。これは図３で詳細に示されている。それにより両方の室２５及び３５の間での対流性の流体交換がかなり阻止される。上記壁２４は上部開口部を形成し、管状ケース１５の上部端面にある淵に固定されている（図示せず）。
【００４７】
アノード室２５には補助アノード２０が収容されている。カソード室３５には金属片３０が含まれ、当該金属片はこの場合にはリンを含有しない銅ボールであり、例えば直径約３０ｍｍの大きさである。上記銅ボール３０は管状ケース１５の下部領域にあるチタン製篩い３１の上に積み重ねられバルクを形成している。補助アノード２０は直流電源の陽極端末に、篩い底３１は陰極端末に接続されている。ねじ連結個所３８は直流電圧源から補助アノード２０へのアノードの電流供給するためのもので、またカソードのねじ連結個所３９は篩い底３１への電線のためのもので、図３に概略的に示されている。この場合では篩い底３１のための電気供給は、金属イオン発生器２から上方へ分離して引き出されている。
【００４８】
導管９は流体入口１８を介してイオン発生器２へ通じている。流体入口１８は篩い３１よりも下方に設けられている。篩いは、金属片又はスライムが導管９を詰まらせるのを防ぐ。金属イオン発生器２は更に流体出口１９で導管１０と連通されている。流体出口１９は金属イオン発生器２の上領域に設けられている。金属イオン発生器２が絶えず流体レベル２２まで満たされていることを保証するために、流体出口１９は管状のケース１５から外に導かれる導管１０として構成され、それはカソード室３５の上領域で出口部１１を備えている。電解質流体は出口部１１によってカソード室３５から導管１０の中に出る。この出口部１１は補助アノード２０のレベルより上にあるように設けられ、補助アノード２０が絶えず流体内に存在するように保証する。
【００４９】
貯蔵タンク３から又は直接析出タンク１から出る電解質流体は、銅イオンの他にメインアノードで形成されるFe^３＋イオン及び場合によって付加的にFe^２＋イオンを含んでいて、流体入口１８を通って金属イオン発生器２にポンプで送られる。流体はその後、矢印２３の方向に篩い底３１を通り抜けて、銅ボール３０が存するカソード室３５に入る。Fe^３＋イオンと銅との反応によって、Cu^２＋イオンが形成され、その際同時にFe^２＋イオンが発生する。銅イオンの形成速度（率）は、銅ボール３０のカソード極性化により篩い底３１を介して調節される：銅ボール３０でカソード的電位を高めることによって、Cu^２＋イオンの形成速度は抑制される。Cu^２＋イオンを多く含む溶液はカソード室３５の上領域において、開口部１１を通り流体出口１９を介して金属イオン発生器２から再び外に出る。カソード的電位を篩い底３１とともに銅ボール３０にかけ、及びアノード的電位をアノード室２５における補助アノード２０にかけることにより、電気化学的反応が可能となる。アノード室２５に含まれる電解質流体の水分は、アノード的に酸素に酸化され、金属イオン発生器の上領域から出口１７を通って出る。場合によっては更にまたアノード室２５に含まれるFe^２＋イオンも補助アノード２０で酸化される。カソード室３５とアノード室２５での流体の交換は、隔壁２１，２４により著しく妨げられるため、アノード室２５においてFe^２＋イオンは減少し、その結果、この濃度は定常（一定）作業ではほぼゼロになる。
【００５０】
図４には本発明に係る金属イオン発生器２の第二の実施形態が示されている。金属イオン発生器２はこの場合、側壁１５を備えたタンクであり、側壁は金属イオン発生器２の正方形、矩形又は円形の基礎面を形成している。その上タンクは底１６を備えている。側壁１５及び底１６はポリプロピレンからできている。金属イオン発生器２は上方に開口部１７を形成している。
【００５１】
金属イオン発生器２は同様にカソード室３５及びアノード室２５を有している。上記室２５及び３５は更に、垂直に配置されたイオン透過性の壁２１により、この場合にはイオン交換膜、好適にはアニオン〈陰イオン〉交換膜により互いに隔てられている。更に穴の明いた壁２６が設けられ、それにより膜に必要な安定性が付与される。
【００５２】
カソード室３５には、下領域にチタンネットにより形成される篩い底３１が配置されている。篩い底３１の上に金属片３０のバルク（部分のみで表される）が置かれている。金属片はここでは直径約３０ｍｍの銅のボールである。アノード室には補助アノード２０が収められている。補助アノード２０は直流電源の陽極端末に、篩い底３１はその陰極端末に接続されている（図示せず）。
【００５３】
電解質流体は下部の流体入口１８を通って金属イオン発生器２に流入する。流体入口１８は篩い底３１の下に配置されている。流体は上部流体出口１９を介して金属イオン発生器２から再び流出する。出口１９はカソード室３５の上領域に配置されている。
【００５４】
この実施形態における金属イオン発生器２の機能方法は図２及び３における第一の実施形態に対応する。これに関しては上記説明を参照されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】 電気めっきのための装置配置の概略図である。
【図２】 第一実施形態における金属イオン発生器の断面図である。
【図３】 第一実施形態における金属イオン発生器の上部領域の断面図である。
【図４】 第二実施形態における金属イオン発生器の断面図である。
【符号の説明】
１ 析出タンク
２ 金属イオン発生器
３ 貯蔵タンク
４,５,８,９,１０ 導管
６ ポンプ
７ フィルターユニット
１１ 出口部
１５ 金属イオン発生器２の管状ケース
１６ 金属イオン発生器２の底
１７ 金属イオン発生器２の端面上部開口部
１８ 金属イオン発生器２中への流体入口
１９ 金属イオン発生器２からの流体出口
２０ 補助アノード
２１ イオン透過性手段（クロス）
２２ 流体レベル
２３ 電解質流体の流れの方向
２４ アノード室２５をカソード室３５から隔てる壁
２５ アノード室
２６ 穴の明いた隔離壁
３０ 金属片（塊）、銅ボール
３１ 篩い底、チタンネット
３５ カソード室
３８ 補助アノード２０への電流供給のための電気接触
３９ 篩い底３１への電流供給のための電気接触
４０ 補助アノード２０への配電線
４１ 篩い底３１への配電線
５０ 電源、直流電源

Claims (23)

1. 金属電解析出に供せられ電気化学的可逆的酸化還元系物質の酸化型及び還元型を付加的に含有する電解質流体内における金属イオンの濃度を調整するための方法にして、少なくとも電解質流体の一部が、それぞれ少なくとも一つの不溶性補助アノード及び少なくとも一つの補助カソードを備え且つそれらの間に電圧をかけることにより電流の流れを生じる少なくとも一つの補助槽を通って案内されるような、方法において、
   析出されるべき金属の部片（３０）が少なくとも一つの補助カソードとして使用されることを特徴とする金属イオン濃度調整方法。
2. 上記補助アノード（２０）を取り巻くアノード室（２５）及び上記金属の部片（３０）を取り巻くカソード室（３５）は、少なくとも部分的にイオン透過性の手段（２１）により互いに隔てられていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 貴金属及び／又は酸化混合物で活性化された不活性金属電極が不溶性補助アノード（２０）として使われることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
4. 上記金属の部片（３０）は球形で使われることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5. 上記金属の部片（３０）の上記少なくとも一つの補助アノード（２０）に対する表面積比は、少なくとも４：１の値に調整されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 上記補助槽（２）は管状をした金属イオン発生器として形成され、及び金属の部片（３０）の上方に少なくとも一つの補助アノード（２０）が設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 上記補助槽（２）は金属イオン発生器として形成され、また垂直区分でアノード室（２５）とカソード室（３５）に分けられ、その際に上記カソード室（３５）には金属の部片（３０）が、また上記アノード室（２５）には少なくとも補助アノード（２０）が配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
8. 上記金属の部片（３０）に篩い状の形状をした電極（３１）を介して電流が供給されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 少なくとも部分的にイオン透過性の手段（２１）が液体透過性クロスとして形成されていることを特徴とする請求項２に記載の方法。
10. イオン透過性の手段（２１）としてイオン交換膜が使われることを特徴とする請求項２に記載の方法。
11. 金属の電解析出に供せされ電気化学的可逆的酸化還元系物質の酸化型及び還元型を付加的に含有する電解質流体内の金属イオン濃度を調整するための装置にして、
    ａ．少なくとも一つの不溶性補助アノード、
    ｂ．少なくとも一つの補助カソード並びに
    ｃ．少なくとも一つの補助アノード及び少なくとも一つの補助カソード間に電流の流れを生じるための電源を
    備えた装置において、
    上記装置が析出すべき金属の部片（３０）を補助カソードとして含むことを特徴とする金属イオン濃度調整装置。
12. 補助アノード（２０）を取り巻くアノード室（２５）及び金属の部片（３０）が充填されたカソード室（３５）を互いに隔てる、少なくとも部分的にイオン透過性の手段（２１）が設けられていることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
13. 不溶性補助アノード（２０）が、貴金属及び／又は酸化混合物で活性化された不活性金属電極であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の装置。
14. 上記金属の部片（３０）が金属球であることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の装置。
15. 上記金属の部片（３０）の上記少なくとも一つの補助アノード（２０）に対する表面積比は、少なくとも４：１であることを特徴とする請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の装置。
16. 上記装置（２）は管状の金属イオン発生器として形成され、上記金属の部片（３０）で占められる室の上方に少なくとも一つの補助アノード（２０）が配置されていることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の装置。
17. 上記装置（２）は垂直区分でアノード室（２５）とカソード室（３５）に分けられ、その際にカソード室（３５）には金属の部片（３０）が充填され並びにアノード室（２５）には少なくとも補助アノード（２０）が配置されていることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の装置。
18. 篩い状の形状をした電極（３１）は、金属の部片（３０）に上記電極（３１）を介して電流が供給されるようにカソード室（２５）内に配置されていることを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の装置。
19. 篩い状の形状をした電極（３１）は、金属の部片（３０）が上記電極（３１）の上に置かれるようにカソード室（３５）の下部に配置されていることを特徴とする請求項１８に記載の装置。
20. 少なくとも部分的にイオン透過性の手段（２１）が液体透過性クロスとして形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
21. 少なくとも部分的にイオン透過性の手段（２１）がイオン交換膜であることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
22. 銅の電解析出に供せられ並びに付加的にFe(II)化合物及びFe(III)化合物を含有する銅析出溶液内における銅イオンの濃度を調整するための請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法の使用法。
23. 銅の電解析出に供せられ並びに付加的にFe(II)化合物及びFe(III)化合物を含有する銅析出溶液内における銅イオンの濃度を調整するための請求項１１〜２１のいずれか一項に記載の装置の利用法。

Images