KR20140034529A - 전기 동도금 장치 - Google Patents

전기 동도금 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140034529A
KR20140034529A KR1020120100969A KR20120100969A KR20140034529A KR 20140034529 A KR20140034529 A KR 20140034529A KR 1020120100969 A KR1020120100969 A KR 1020120100969A KR 20120100969 A KR20120100969 A KR 20120100969A KR 20140034529 A KR20140034529 A KR 20140034529A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
copper
plating
manganese oxide
plating solution
insoluble anode
Prior art date
Application number
KR1020120100969A
Other languages
English (en)
Inventor
남효승
김미금
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020120100969A priority Critical patent/KR20140034529A/ko
Priority to US13/842,947 priority patent/US20140069805A1/en
Priority to JP2013179274A priority patent/JP6026976B2/ja
Priority to DE102013109528.3A priority patent/DE102013109528A1/de
Publication of KR20140034529A publication Critical patent/KR20140034529A/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/16Regeneration of process solutions
    • C25D21/18Regeneration of process solutions of electrolytes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

본 발명은 음극, 불용성 양극, 구리 볼, 및 도금액이 단일 베쓰에 포함되며, 상기 도금액에 망간산화물을 포함하는 전기 동도금 장치; 또는 음극, 불용성 양극, 및 도금액을 포함하는 본조 및 구리 볼, 및 망간산화물을 포함하는 용해조를 포함하는 전기 동도금 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 전기동도금 장치에서 구리 공급원으로 종래 Fe3 + 대신 산화환원전위가 더 높은 망간산화물을 사용하여 저농도로 적용해도 높은 표면 도금 억제 효과를 얻을 수 있다.

Description

전기 동도금 장치{Electro-copper plating apparatus}
본 발명은 전기 동도금 장치에 관한 것이다.
전기동도금에서 불용성 양극은 구리를 녹여서 쓸 때 이물질을 최소화하기 위하여 사용되며, 상기 불용성 양극을 이용한 전기동도금 방식은 구리(Cu)를 공급하는 방법에 따라 크게 CuO를 도금액으로 보충하는 방법 및 도금액 내에 Fe3+ 이온을 용해시켜 구리 이온을 본조로 보내는 방식 두 가지로 나눌 수 있다.
  다음 도 1은 CuO 보충 방식으로 된 불용성 양극을 이용한 전기동도금 장치로서, 본조(10)에서 도금 반응에 의해 소모되는 Cu를 별도의 용해조(14)에서 분말상의 CuO(15)를 투입하여 에어 교반 등으로 용해시켜 본조(10)로 재순환하여 보충되는 방식이다. 이때, 상기 본조(10)에는 음극(11)과 양극(12)이 포함되고, 도금액(13)은 황산동/황산/염소의 무기물을 주성분으로 사용된다.
다음 도 2는 Fe3 + 방식을 이용한 불용성 양극을 이용한 전기동도금 장치로서, 본조(20)에서 도금 반응에 의해 소모되는 구리를 별도의 용해조(24)에서 순수한 구리 볼(25)을 도금액에 투입하여 순환시키면 Fe3+(26)의 자발적인 환원 반응에 의해 구리 볼(24)이 녹아 구리 이온이 공급되는 방식이다. 이때, 상기 본조(20)에는 음극(21)과 양극(22)이 포함되고, 도금액(23)은 황산동/황산/염소의 무기물을 주성분으로 사용된다.
상기 두 가지 방식은 수직 및 수평 도금 설비 방식에 널리 사용되고 있으나, CuO 의 경우 무기 및 유기 불순물의 유입으로 보충(Fill) 성능 저하를 유발하는 경우가 많고, Fe3 +의 경우 특정 업체의 독점 방식으로 개선/개조에 대한 제약이 큰 상황이기 때문에, 이를 대체할 수 있는 장치의 개발이 필요한 실정이다.
일본 공개 특허 2008-513985
본 발명에서는 종래 불용성 양극을 이용한 전기 동도금 방식의 문제들을 유발시키지 않고, 이를 대체할 수 있는 새로운 전기 동도금 장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전기 동도금 장치는 음극, 불용성 양극, 구리 볼, 및 도금액이 단일 베쓰(bath)에 포함되는 전기 동도금 장치이고, 상기 도금액에 망간산화물을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 망간산화물은 KMnO4, 및 NaMnO4 중에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 망간산화물은 0.1~10g/L의 농도로 포함되는 것이 바람직하다.
상기 도금액은 황산구리 50~350g/L, 황산 10~150g/L, 및 염소 10~200mg/L를 포함한다.
상기 불용성 양극은 티타늄(Ti)에 백금(Pt) 또는 IrO2로 코팅된 재질을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 전기 동도금 장치는 음극, 불용성 양극, 및 도금액을 포함하는 본조; 및 구리 볼, 및 상기 불용성 양극의 구리 공급원으로 망간산화물을 포함하는 용해조를 포함한다.
상기 용해조로부터 본조의 도금액으로 구리의 공급은 상기 용해조의 망간산화물과 구리 볼의 반응으로 구리가 구리 이온으로 용해되어 이루어지는 것일 수 있다.
상기 망간산화물은 KMnO4, 및 NaMnO4 중에서 선택되는 것이 바람직하다.
상기 망간산화물은 0.1~10g/L의 농도로 포함되는 것이 바람직하다.
상기 전기 동도금 장치의 도금액은 황산구리 50~350g/L, 황산 10~150g/L, 및 염소 10~200mg/L를 포함한다.
본 발명에 따르면, 전기동도금 장치에서 구리 공급원으로 종래 Fe3 + 대신 산화환원전위가 더 높은 망간산화물을 사용하여 저농도로 적용해도 높은 표면 도금 억제 효과를 얻을 수 있다. 또한, 스루 홀(Through Hole) 또는 블라인드 비아 홀(Blind via hole)과 같은 구조물에서 홀 내부보다 표면의 도금 속도를 억제하여 균일전착성을 개선시킬 수 있다.
도 1은 종래 CuO 보충 방식으로 된 불용성 양극을 이용한 전기동도금 장치이고,
도 2는 종래 Fe3 + 방식을 이용한 불용성 양극을 이용한 전기동도금 장치이고,
도 3과 4는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 불용성 양극을 이용한 전기동도금 장치이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.
본 발명은 불용성 양극을 이용한 전기 동도금 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 전기 동도금 장치는 다음 도 3에 나타낸 바와 같다.
이를 참조하면, 음극(111), 불용성 양극(112), 구리 볼(115), 및 도금액(113)이 단일 베쓰(110)에 포함되는 전기 동도금 장치이고, 상기 도금액(113)에는 망간산화물(116)을 포함한다.
상기 도 1에 따른 전기 동도금 장치는 하나의 베쓰(110) 내에 전기 동도금을 위한 모든 구성 요소들이 포함되는 구조이다.
상기 전기 동도금 장치에서 음극(111)은 전기 동도금이 되는 피도금체로서 예를 들어, 판넬 형태의 인쇄회로기판이 될 수 있다.
또한, 상기 불용성 양극(112)은 티타늄(Ti)에 백금(Pt) 또는 IrO2로 코팅된 재질을 사용할 수 있으며, 전기동도금에서 구리를 사용하여 도금할 때 이물질을 최소화하기 위하여 사용된다.
또한, 상기 전기동도금에 사용되는 구리 도금액은 황산구리 50~350g/L, 황산 10~150g/L, 염소 이온 10~200mg/L을 포함하며, 본 발명에서는 특별히 불용성 양극의 Cu 공급을 위한 성분으로 산화력이 강한 망간산화물을 포함한다.
상기 망간산화물은 KMnO4, 및 NaMnO4 중에서 선택되는 것일 수 있다. 상기 망간산화물은 구리 볼을 용해시켜, 구리 이온을 생성시키는 역할을 한다. 또한, 이 반응 후 생성된 부산물인 KMnO2는 KMnO4로 다시 산화되어 재생된다. 상기 망간산화물은 피도금체인 음극의 표면에 작용하여 도금을 억제하는 효과를 나타낸다.
상기 망간산화물은 0.1~10g/L의 농도로 포함되는 것이 바람직하며, 상기 망간산화물의 농도가 0.1g/L 미만인 경우 표면 도금억제 효과가 미미해져 균일 전착성을 얻을 수 없고, 또한, 10g/L를 초과하는 경우 과다한 표면 도금억제 효과로 표면 도금 두께 미달 또는 미도금이 발생하여 바람직하지 못하다.
또한, 상기 도금액에 포함되는 황산구리는 5수화물의 형태로 포함될 수 있으며, 그 농도가 너무 낮을 경우 음극전류 효율이 저하하기 때문에, 50~350g/L인 것이 안정된 도금효율을 얻기 위해서 바람직하다.
또한, 상기 도금액에서 황산은10~150g/L 의 농도로 포함되는 것이 전도도를 증가시켜 전류를 잘 통하게 한다는 면에서 바람직하다.
또한, 상기 도금액에서 염소 이온은 HCl 또는 KCl 형태로 포함될 수 있으며, 그 농도는 10~200mg/L 인 것이 첨가제의 평활 작용 및 광택 작용이 잘 나타나게 하기 위해 바람직하다.
또한, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 전기 동도금 장치는 다음 도 4에 나타낸 바와 같으며, 이를 참조하면, 음극(121), 불용성 양극(122), 및 도금액(123)을 포함하는 본조(120); 및 구리 볼(125), 및 망간산화물(126)을 포함하는 용해조(124)를 포함한다.
상기 실시예에 따르면, 음극(121)과 불용성 양극(122) 및 도금액(123)은 본조(120)에 포함되고, 구리 공급을 위하여 용해조(124)에서 구리 볼(125)과 망간산화물(126)을 별도로 포함하는 구조이다.
따라서, 상기 용해조(124)에 구리 볼(125)을 투입하면 이 구리 볼(125)이 망간산화물(126)에 의해 구리 이온으로 용해되어 본조(120)의 도금액(123)으로 공급된다. 또한, 상기 반응 후 생성된 부산물인 KMnO2 는 본조(120)의 양극(122)에서 KMnO4 로 다시 산화되어 재생된다. 따라서, 피도금체인 음극(121) 표면에 작용하여 도금을 억제하는 효과를 나타낸다.
상기 전기 동도금 장치에서 음극(111)은 전기 동도금이 되는 피도금체로서 예를 들어, 판넬 형태의 인쇄회로 기판이 될 수 있다.
또한, 상기 불용성 양극(112)은 티타늄(Ti)에 백금(Pt) 또는 IrO2로 코팅된 재질을 사용할 수 있으며, 전기동도금에서 구리를 사용하여 도금할 때 이물질을 최소화하기 위하여 사용된다.
또한, 상기 전기동도금에 사용되는 구리 도금액은 황산구리 50~350g/L, 황산 10~150g/L, 염소 이온 10~200mg/L을 포함하며, 본 발명에서는 특별히 불용성 양극의 Cu 공급을 위한 성분으로 산화력이 강한 망간산화물을 포함한다.
상기 망간산화물은 KMnO4, 및 NaMnO4 중에서 선택되는 것일 수 있으며, 그 농도는 0.1~10g/L로 포함되는 것이 바람직하며, 상기 망간산화물의 농도가 0.1g/L 미만인 경우 표면 도금억제 효과가 미미해져, 균일 전착성을 얻을 수 없고, 또한, 10g/L를 초과하는 경우 과다한 표면 도금억제 효과로 표면 도금 두께 미달 또는 미도금이 발생하여 바람직하지 못하다.
이 경우, 상기 불용성 양극(112, 122)에서의 반응은 다음 반응식 (1)과 같다.
(반응식 1)
  Mn2 + + 4H2O → MnO4 - + 8H+ + 5e-
  Mn2 + + 2H2O → MnO2 + 4H+ + 2e-
또한, 상기 음극(111, 121)에서의 반응은 다음 반응식 (2)와 같다.
(반응식 2)
  MnO4- + 8H+ + 5e- → Mn2 + + 4H2O    Eo = +1.51V
  Cu2 + + 2e- → Cu                   Eo = +0.34V
또한, 구리 이온을 발생시키는 반응은 다음 반응식 (3)과 같다. 다음 반응의 경우 본조와 용해조가 별도로 구성된 실시예의 경우 용해조에서 일어나는 것이다.
(반응식 3)
2MnO4 - + 16H+ + 5Cu → 2Mn2 + + 5Cu2 + + 8H2O
본 발명에서 구리 공급원으로 사용되는 망간산화물의 산화환원전위는 +1.51V로서, Fe3+/Fe2+ 의 산화환원전위인 +0.77V에 비해 높기 때문에 저농도로 적용해도 높은 표면 도금 억제 효과를 얻을 수 있다.
또한, 스루 홀(Through Hole) 또는 블라인드 비아 홀(Blind via hole)과 같은 구조물에서 홀 내부보다 표면의 도금 속도를 억제하여 균일 전착성을 개선시킬 수 있다.
10, 20, 110, 120 : 본조
11, 21, 111, 121 : 음극
12, 22, 112, 122 : 양극
13, 23, 113, 123 : 도금액
14, 24, 124 : 용해조
25, 125 : 구리 볼
26 : Fe3 +
126 : 망간산화물

Claims (10)

  1. 음극, 불용성 양극, 구리 볼, 및 도금액이 단일 베쓰(bath)에 포함되는 전기 동도금 장치이고,
    상기 도금액은 망간산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 동도금 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 망간산화물은 KMnO4, 및 NaMnO4 중에서 선택되는 것인 전기 동도금 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 망간산화물은 0.1~10g/L의 농도로 포함되는 것인 전기 동도금 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 도금액은 황산구리 50~350g/L, 황산 10~150g/L, 및 염소 10~200mg/L를 포함하는 것인 전기 동도금 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 불용성 양극은 티타늄(Ti)에 백금(Pt) 또는 IrO2로 코팅된 재질을 사용하는 것인 전기 동도금 장치.
  6. 음극, 불용성 양극, 및 도금액을 포함하는 본조; 및
    구리 볼, 및 망간산화물을 포함하는 용해조를 포함하는 전기 동도금 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 용해조로부터 본조의 도금액으로 구리의 공급은 상기 용해조의 망간산화물과 구리 볼의 반응으로 구리가 구리 이온으로 용해되어 이루어지는 것인 전기 동도금 장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 망간산화물은 KMnO4, 및 NaMnO4 중에서 선택되는 것인 전기 동도금 장치.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 망간산화물은 0.1~10g/L의 농도로 포함되는 것인 전기 동도금 장치.
  10. 제6항에 있어서,
    상기 전기 동도금 장치의 도금액은 황산구리 50~350g/L, 황산 10~150g/L, 및 염소 10~200mg/L를 포함하는 것인 전기 동도금 장치.
KR1020120100969A 2012-09-12 2012-09-12 전기 동도금 장치 KR20140034529A (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120100969A KR20140034529A (ko) 2012-09-12 2012-09-12 전기 동도금 장치
US13/842,947 US20140069805A1 (en) 2012-09-12 2013-03-15 Electro-copper plating apparatus
JP2013179274A JP6026976B2 (ja) 2012-09-12 2013-08-30 電気銅めっき装置
DE102013109528.3A DE102013109528A1 (de) 2012-09-12 2013-09-02 Electro-copper plating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120100969A KR20140034529A (ko) 2012-09-12 2012-09-12 전기 동도금 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20140034529A true KR20140034529A (ko) 2014-03-20

Family

ID=50153455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120100969A KR20140034529A (ko) 2012-09-12 2012-09-12 전기 동도금 장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20140069805A1 (ko)
JP (1) JP6026976B2 (ko)
KR (1) KR20140034529A (ko)
DE (1) DE102013109528A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104499012B (zh) * 2015-01-14 2018-02-13 东北大学 一种碱性铜基复合镀液及电镀工艺
CN112210801A (zh) * 2019-07-09 2021-01-12 江西博泉化学有限公司 一种用于高纵横比电路板通孔电镀的电镀液及其电镀方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4344387C2 (de) * 1993-12-24 1996-09-05 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens
DE10013339C1 (de) * 2000-03-17 2001-06-13 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Regulieren der Konzentration von Metallionen in einer Elektrolytflüssigkeit sowie Anwendung des Verfahrens und Verwendung der Vorrichtung
US6736954B2 (en) * 2001-10-02 2004-05-18 Shipley Company, L.L.C. Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate
US6911068B2 (en) * 2001-10-02 2005-06-28 Shipley Company, L.L.C. Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate
DE102004045451B4 (de) 2004-09-20 2007-05-03 Atotech Deutschland Gmbh Galvanisches Verfahren zum Füllen von Durchgangslöchern mit Metallen, insbesondere von Leiterplatten mit Kupfer
CN101522956A (zh) * 2006-08-03 2009-09-02 巴斯夫欧洲公司 在基质上施加金属层的方法
KR101086931B1 (ko) * 2006-10-03 2011-11-29 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 황산 산성 동전해액의 제조 방법 및 그 제조 방법을 이용하여 제조한 황산 산성 동전해액, 그리고 전해석출 동피막
JP5110269B2 (ja) * 2007-08-09 2012-12-26 上村工業株式会社 電気銅めっき方法
CA2777055C (en) 2009-10-07 2021-04-06 Genentech, Inc. Methods for treating, diagnosing, and monitoring lupus

Also Published As

Publication number Publication date
US20140069805A1 (en) 2014-03-13
JP2014055355A (ja) 2014-03-27
DE102013109528A1 (de) 2014-03-13
JP6026976B2 (ja) 2016-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5293276B2 (ja) 連続電気銅めっき方法
TWI268966B (en) Electrolytic copper plating method
JP5971521B2 (ja) 金属の製造方法
WO2017204246A1 (ja) 溶解性銅陽極、電解銅めっき装置、電解銅めっき方法、及び酸性電解銅めっき液の保存方法
WO2008016541B1 (en) Constituent maintenance of a copper sulfate bath through chemical dissolution of copper metal
JP6653799B2 (ja) 電解銅めっき用陽極、及びそれを用いた電解銅めっき装置
KR20140034529A (ko) 전기 동도금 장치
JP2510422B2 (ja) プリント基板の銅メッキ方法
JP2008266766A (ja) ハロゲン系溶液からの板状電気銅の製造方法
KR20140115568A (ko) 인쇄회로기판 내 주석 제거방법
CN112011821A (zh) 三价铁溶铜系统
EP2606163B1 (en) METHOD FOR THE ADJUSTMENT OF NICKEL CONTENT AND pH OF A PLATING SOLUTION
CA2592199A1 (en) Method for producing sheet-form electrolytic copper from halide solution
KR20170106941A (ko) 에칭액 재생 및 구리 회수 장치
CN111893514A (zh) 一种电解碱性蚀刻液回收铜用的添加剂及使用其制备铜的方法
CN204959050U (zh) 一种电解酸性氯化铜的装置
WO2020049657A1 (ja) 電気めっき浴、電気めっき製品の製造方法、及び電気めっき装置
CN113667980B (zh) 一种酸性蚀刻液闭环再生的方法及系统
JP2005179736A (ja) 電解銅めっき方法及び電解銅めっき装置
JP2010138429A (ja) 不溶性陽極を用いた電解銅めっき方法
CN107849717A (zh) 一种蚀刻液再生与铜回收的装置及方法
JP2010095761A (ja) 不溶解性陽極を用いる電解銅めっき方法
CN111733419A (zh) 酸性蚀刻液及其电解提铜再生利用装置和方法
CN106480473A (zh) 一种电解酸性氯化铜的方法
JPS6254100A (ja) めつき液中の3価の鉄イオンの除去方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application