JP4420156B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置に関し、特に、内包する回路部をスタンバイ状態にする機能を有する半導体装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
原理上、CMOS回路で構成される半導体装置においては、状態変動がない限り、電源−GND間のパスが遮断される。したがって、一般的に、CMOS回路で構成される半導体装置の消費電力が低いことも知られている。
【0003】
しかし、近年の半導体装置の高集積化が進み、CMOS回路を構成するMOSトランジスタ(以下、単に「トランジスタ」ともいう。)のゲート長が短く素子サイズが小さくなるにつれて、トランジスタのサブスレッショルド特性が劣化し、リーク電流が流れてしまうという問題が生じている。
【0004】
このようなリーク電流は、一部の回路部をスタンバイ状態におく機能を有するような半導体装置において、特に問題となる。かかる半導体装置に対してスタンバイ状態を設けたのは、消費電力を更に低減するためであるにもかかわらず、リーク電流が流れることにより、無駄に電力を消費してしまうからである。
【0005】
その一方、素子サイズが小さくなると、トランジスタの閾値が下がり、動作速度が速くなるという利点もあり、この利点は、保持しておきたいという要望もある。
【0006】
従来、かかる課題に着目し、速い動作速度を所望する回路部を低閾値のトランジスタで構成すると共に、その低閾値のトランジスタで構成される回路部をスタンバイ状態におく際には、その回路部への電源経路を遮断してしまうという技術が提案されている。例えば、特開昭60−48525号においては、スイッチとして、スタンバイ状態におかれる回路部を構成するトランジスタよりも、チャネル長の長い(従って、閾値の高い)トランジスタを用いる技術が開示されており、また、特許第2631335号においては、複数の閾値のトランジスタを用意し、低閾値トランジスタを内部回路に用いる一方、高閾値トランジスタをスイッチとして用いることにより、高速な回路を構成しつつリーク電流を抑制することとしている。いずれの技術においても、スイッチとしてサブスレッショルド特性の良い高閾値のトランジスタを採用していることから、低閾値のトランジスタと比較してリーク電流を遥かに小さくでき、実質上、スタンバイ状態においては回路部への電源供給が遮断されることとなる。
【0007】
更に、この種の半導体装置では、通常の動作状態の回路部における瞬時的な電源変動に対応するため、瞬時的な電荷供給用の容量部が回路部に対して並列に接続される。この容量部は、デカップリング容量やバイパスコンデンサと呼ばれる。
【0008】
このようなスイッチ及びデカップリング容量を有する半導体装置の一例(以下、従来例という)は、図9に示される。
【0009】
従来例の半導体装置400は、外部電源に接続されるチップ内電源端子101と、外部GNDに接続されるチップ内GND端子102とを有する。
【0010】
従来例の半導体装置400において、第1回路部111は、低閾値のトランジスタで構成されている。この第1回路部111には、デカップリング容量114が並列に接続されていると共に、チャネル長の長い高閾値のpMOSトランジスタからなるスイッチ113が直列に接続されている。
【0011】
このスイッチ113は、スタンバイ状態におかれることのない第2回路部120に含まれる制御回路121からの制御信号123を入力されることにより、制御される。スイッチ113がpMOSトランジスタからなることからも明らかなように、制御信号123の入力先は、トランジスタのゲートであり、制御信号123がローレベルを有するときに、スイッチがオンされることとなる。
【0012】
なお、第2回路部120は、例えば閾値の高いトランジスタで構成され、常時電源が供給されている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来例の半導体装置においては、スタンバイ状態から復帰して通常の動作状態に移行する際に、図10において参照符合150で示されるように、チップ内電源端子101(第1の接続点131)における電位が一時的に急降下するなど種々の問題が生じる。以下、この問題について詳述する。
【0014】
図9に示されるような半導体装置400において、第1及び第2回路部111及び120は、一般に、ある程度の寄生容量112及び122を有しており、この寄生容量112及び122とデカップリング容量114は、スイッチ113がオンしている際には充電されている。しかし、スイッチ113がオフすると、第2回路部120の寄生容量122のみがその状態を保ち、その一方で、第1回路部111の寄生容量112やデカップリング容量114に充電されていた電荷は第1回路部111のリーク電流として消費されて。すなわち、スイッチ113をオンする直前において電荷を保持しているのは、第2回路部120の寄生容量122のみということになる。
【0015】
この状態においてスイッチ113がオンになると、寄生容量122に充電されている電荷は、寄生容量112及び122並びにデカップリング容量114間において、平衡状態になるまで再分配されることとなり、その結果、チップ内電源端子101(第1の接続点131)における電位は、図10において参照符号150で示されるように、一時的に急降下する。また、これにより、チップ内電源端子101と外部電源との間には、電位差が生じることとなるため、外部電源から半導体装置400に対して過渡電流が流れようとする。
【0016】
ここで、チップ内電源端子111と外部電源との間に介在するボンディングワイヤやプリント配線などは、寄生インダクタンスLを構成している。このインダクタンスLは、過渡電流が流れる際に、jωLのインピーダンスとして働き、外部からのスムーズな電荷の供給に対する足枷となる。そのため、チップ内電源端子111等の電位が安定するまでには所定の時間を要することとなる。
【0017】
それに加えて、寄生インダクタンスや寄生容量等は、一種のLCR回路を構成しているので、発振する可能性もある。このような発振は、電源ノイズとなり、これにより、図示されない他の回路が誤動作に至るという問題も起こり得る。
【0018】
本発明は、このような従来の半導体装置における問題点を解決し、スタンバイ状態から復帰する際における電源ノイズを抑制することのできる半導体装置を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上述した課題を解決するために、回路部(第1回路部)と容量部(デカップリング容量)との間の接続のうち、スタンバイ状態に関連して制御されるスイッチ側の接続を、オン・オフするための付加的なスイッチを設けることとした。そして、もともとからあるスイッチのオン・オフに併せて、この付加的なスイッチをオン・オフすることとした。
【0020】
このようなスイッチ制御を行うと、前記スイッチがオンしている場合には、前記付加的なスイッチをオンすることとなり、前記容量部に対する充電が行われ、その後、前記スイッチがオフした場合には、前記付加的なスイッチがオフになることから、前記容量部に充電された電荷が保持されることとなる。従って、スタンバイ状態から復帰する際に、前記スイッチを再度オンすると共に前記付加的なスイッチをも再度オンした場合には、前記回路部の有する寄生容量への充電が、前記容量部に保持された電荷によりまかなえる。そのため、従来例において問題とされるような、チップ内電源端子における瞬時的な電圧降下は、かなり低減されることとなる。
【0021】
具体的には、本発明は、以下に示すような半導体装置を提供する。
【0022】
すなわち、本発明によれば、第1の半導体装置として、いずれか一方がチップ内電源端子として動作し且つ他方がチップ内GND端子として動作する第1及び第2の端子と、2つの端部を有し且つ一端を前記第1の端子に接続された回路部と、前記回路部の他端と前記第2の端子との間の電気的接続をオン・オフするための第1のスイッチと、前記回路部の2つの端部間において当該回路部に並列接続された容量部とを備えた半導体装置において、
前記第1のスイッチのオン・オフに応じて、前記第1のスイッチ側における前記容量部と前記回路部との接続をオン・オフするための第2のスイッチを更に備え、前記第1のスイッチをオンにするとき前記第2のスイッチをオンにし、前記第1のスイッチをオフにするとき前記第2のスイッチをオフすることを特徴とする半導体装置が得られる。
【0023】
また、本発明によれば、第2の半導体装置として、前記第1の半導体装置において、前記第2の端子は前記チップ内電源端子であり、前記第2のスイッチは前記容量部と前記第1のスイッチとの間に設けられていることを特徴とする半導体装置が得られる。
【0024】
更に、本発明によれば、第3の半導体装置として、前記第2の半導体装置において、前記第1及び第2のスイッチは、pMOSトランジスタからなることを特徴とする半導体装置が得られる。
【0025】
また、本発明によれば、第4の半導体装置として、前記第1の半導体装置において、前記第1の端子は前記チップ内電源端子であり、前記第2のスイッチは前記容量部と前記第1のスイッチとの間に設けられていることを特徴とする半導体装置が得られる。
【0026】
更に、本発明によれば、第5の半導体装置として、前記第4の半導体装置において、前記第1及び第2のスイッチは、nMOSトランジスタからなることを特徴とする半導体装置が得られる。
【0027】
また、本発明によれば、第6の半導体装置として、前記第1の半導体装置において、前記容量部の容量値は、前記回路部の有する寄生容量の容量値よりも大きいことを特徴とする半導体装置が得られる。
【0028】
また、本発明によれば、第7の半導体装置として、前記第1の半導体装置において、前記第2のスイッチのオン抵抗は前記第1のスイッチのオン抵抗よりも小さいことを特徴とする半導体装置が得られる。
【0029】
更に、本発明によれば、第8の半導体装置として、前記第1の半導体装置において、前記回路部、前記容量部、並びに第1及び第2のスイッチを一単位とするブロックを複数個有することを特徴とする半導体装置が得られる。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態による半導体装置及びそのスイッチ制御方法について図面を参照して詳細に説明する。
【0031】
(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態による半導体装置100は、図1に示されるように、チップ内電源端子101及びチップ内GND端子102の二つの端子を備えている。特に、本実施の形態においては、半導体装置100は、半導体チップの形態で提供されるものであり、従って、チップ内電源端子101及びチップ内GND端子102は、それぞれ、電源用電極パッド及びGND用電極パッドの形態で構成される。このような半導体装置100は、ワイヤボンディングなどにより、外部に電源用及びGND用のラインを引き出され、パッケージングされる。使用時においては、それら引き出されたラインに外部電源103及びGND104が接続される。この際、ラインを構成するボンディングワイヤやプリント配線等は、寄生インダクタンス105及び106を有する。従って、図1においては、外部電源103及びチップ内電源端子101間を寄生インダクタンス105で示し、GND104及びチップ内GND端子102間を寄生インダクタンス106で示してある。
【0032】
半導体装置100は、詳しくは、図2に示されるように、第1回路部111、第2回路部120、第1のスイッチ113、第2のスイッチ115及びデカップリング容量114を有している。このうち、第1回路部111、第1のスイッチ113、第2のスイッチ115及びデカップリング容量で構成される部分を、説明の便宜上、ブロック110とも呼ぶ。
【0033】
第1のスイッチ113は、第1の接続点131及び第2の接続点132間に接続されており、第1回路部111は、第2の接続点132及び第3の接続点133間に接続されている。すなわち、第1のスイッチ113と第1回路部111は、チップ内電源端子101及びチップ内GND端子102間において、直列に接続されている。この第1のスイッチ113は、接続関係から明らかなように、電源経路を接続・切断するものであり、電源スイッチとも呼ばれる。
【0034】
第2の接続点132及び第3の接続点133間には、第2のスイッチ115及びデカップリング容量114を直列接続してなる回路が接続されている。特に、第2のスイッチ115は、デカップリング容量114の第1スイッチ113側に設けられている。すなわち、従来例(図9参照)と比較すれば明らかなように、第2のスイッチは、第1回路部111とデカップリング容量114との接続のうち、第1スイッチ113側の接続をオン・オフできる位置に設けられている。この第2のスイッチは、デカップリング容量114における電荷の充放電と電荷保持とを切り換えるものであることから、容量スイッチとも呼ばれる。
【0035】
第2回路部120は、第1の接続点131及び第3の接続点133間に接続されており、第1及び第2のスイッチ113及び115を制御するための制御回路121を含んでいる。詳しくは、制御回路121は、第1のスイッチ113に対して第1の制御信号123を入力し、第2のスイッチ115に対して第2の制御信号124を入力することで、スイッチ制御を行う。特に、本実施の形態においては、第1及び第2のスイッチ113及び115は、図3に示されるように、pMOSトランジスタで構成されており、従って、第1及び第2の制御信号123及び124は、第1及び第2のスイッチ113及び115をオンにしたい場合にはローレベルを示し、第1及び第2のスイッチ113及び115をオフにしたい場合にはハイレベルを示す。なお、このpMOSトランジスタの構成(ゲート長、イオン注入量、ゲート絶縁膜厚等)と制御信号レベルとは、オフリーク電流が極めて小さくなるように選択・設計されている。
【0036】
以下、上述した構成の半導体装置100の動作について、図4に示されるタイミングチャートを用いて、詳細に説明する。なお、本実施の形態における半導体装置100においても、第1回路部111及び第2回路部120には夫々寄生容量112及び122があるものとする。
【0037】
前述の通り、本実施の形態においては、第1及び第2のスイッチ113及び115の双方ともpMOSトランジスタで構成されていることから、各スイッチは、制御信号がハイレベルの時にオフになり、制御信号がローレベルの時にオンになる。また、スタンバイ状態に入る前は両スイッチ113及び115ともオンになっており、この際、寄生容量112及び122並びにデカップリング容量114は、充電されている。
【0038】
この状態で、第1及び第2の制御信号123及び124の双方ともハイレベルとなると、第1及び第2のスイッチ113及び115は、いずれもオフになる。これにより、寄生容量112に充電されていた電荷は、第1回路部111を構成するトランジスタのリーク電流として放電される(第2の接続点のレベル降下参照)ものの、デカップリング容量114に充電された電荷は、第1回路部111側への電流経路が第2のスイッチ115により遮断されていることから、第2のスイッチ115がオンするまで保持されることとなる。なお、第2の回路部120は、第1のスイッチ113とは無関係に電源を供給され続けているので、寄生容量122における電荷量は、第1のスイッチがオフすることによっては変化しない。このことは、図4においてチップ内電源端子101(第1の接続点131)のレベルが、第1のスイッチ113がオフになるのとは無関係に、一定のレベルを保っていることからも理解される。
【0039】
次いで、第1及び第2の制御信号123及び124がローレベルをとり、第1及び第2のスイッチ113及び115がオンすると、第1回路部111がスタンバイ状態から動作状態へと移行することとなる。この際、従来例と同様、寄生容量112及び122並びにデカップリング容量114間で電荷の再分配が行われることとなる。
【0040】
ここで、本実施の形態と従来例との異なる点は、寄生容量112及び122並びにデカップリング容量114間で再分配される電荷の総量である。従来例においては、再分配される電荷の総量は、寄生容量122に充電されていた電荷量であったが、本実施の形態においては、デカップリング容量114の電荷を保持していることから、再分配される電荷の総量は、寄生容量122の電荷量とデカップリング容量114の電荷量との和ということになる。従って、電荷の再分配が生じたとしても、第1の接続点131における電圧降下は、従来例に比して格段に小さくなる。
【0041】
また、この電圧降下によって外部電源103及びチップ内電源端子101間には電位差が生じ、過渡電流が流れようとする。この際、寄生インダクタンス105などは、インピーダンスとして働くこととなるが、電位差自体が小さいことから、外部からの電荷の供給に要する時間は、従来例と比較して、短縮される。従って、図4に示されるように、第2の接続点132のレベル立ち上がりは、従来例と比較して急峻なものとなる。
【0042】
更に、電荷の再分配に関し、視点を変えてみると、ブロック110外からブロック110内への電荷の移動も低減されていることが理解される。すなわち、第1回路部111の寄生容量112に対する電荷の供給を、ある程度までブロック110内部においてまかなえることとなったことから、電源ノイズが低減される。この効果を更に顕著なものとするために、デカップリング容量114の容量値を第1回路部111の寄生容量112の容量値よりも大きくすることとしても良い。デカップリング容量114が大きければ大きいほど、第2回路部120の寄生容量122やチップ外部からの電荷の供給を考慮せずとも、電源ノイズ低減の効果は顕著なものとなる。
【0043】
また、本実施の形態においては、第1のスイッチ113がオフした際に、従来、第1の回路部111におけるリーク電流として消費されていた、デカップリング容量114の電荷は上述のように保持される。これは、スイッチ113がオフの際の第1回路部111におけるリーク電流が削減できることを意味する。すなわち、従来例と比較して、更なる低消費電力化が図られているといえる。
【0044】
なお、上述した実施の形態においては、第1のスイッチ113と第2のスイッチ115を同時にオン・オフするようにスイッチング制御しているが、これらの制御に関しては、わずかであれば時間差を持たせるとしてもよい。
【0045】
また、第1のスイッチ113のオン抵抗をある程度大きなものとしておくことで、ブロック110から外へ伝搬されるノイズのピークを抑制することが可能となる。加えて、このような構成を採用すると、電源系をLCR回路とみたときの発振条件を満たさなくなるため、発振を回避できる。
【0046】
一方、第2のスイッチ115は、そのオン抵抗が大きいと、デカップリング容量114からの電荷の供給を妨げることとなってしまい、本発明による効果が低減されることとなるので、小さい方が好ましい。特に、第1のスイッチ113との関係で言及すれば、ブロック110の電源ノイズがブロック110の外へ伝わるのを抑制するためにも、第2のスイッチ115のオン抵抗は、第1のスイッチ113のオン抵抗以下であることが望まれる。
【0047】
(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態による半導体装置100は、上述した第1の実施の形態による半導体装置の変形例である。その構成は、図5に示される通りであり、第1のスイッチ113aが第1回路部111のGND側に設けられ、第2のスイッチ115aもまた第1のスイッチ113a側、すなわちデカップリング容量114のGND側に設けられている。更には、本実施の形態においては、第1及び第2のスイッチ113a及び115aとして、図6に示されるように、nMOSトランジスタを採用している。それに伴い、第1及び第2の制御信号123a及び124aは、第1及び第2のスイッチ113a及び115aをオンさせる場合にハイレベルをとり、第1及び第2のスイッチ113a及び115aをオフさせる場合にローレベルをとる。
【0048】
このようなスイッチ配置に関する変更は、上述のように、nMOSトランジスタをスイッチ素子として用いた場合に、特に有用である。上述の第1の実施の形態による第1のスイッチとして、nMOSトランジスタを採用するとVGSとVthとの関係から、第2の接続点132における電位の上限が制限される(いわゆる「Vth落ち」が生じる)こととなるが、本実施の形態のように配置すると、nMOSトランジスタを用いたとしてもその制限が生じることがない。しかも、良く知られているように、nMOSトランジスタからなるスイッチは、pMOSトランジスタからなるスイッチよりも駆動能力が大きい。換言すれば、nMOSトランジスタをスイッチとして用いることにより、スイッチサイズを小さくすることができる。
【0049】
なお、上述した本発明の実施の形態においては、第1回路部111及び第2回路部120は、便宜上、抽象化して示してある。特開昭60−48525号を参照すれば明らかなように、第1回路部111は例えばCPUなどであり、また、第2回路部120は例えばRAMやその他の回路などである。すなわち、第1回路部111は、比較的高速な動作を望まれるものであり、低閾値のトランジスタで構成され、また、スタンバイ状態の対象となるものである。一方、第2回路部120の方は、常時、チップ内電源端子101及びチップ内GND端子102間に接続されるものであり、第1回路部111に要求されるような仕様は必要とされないものである。
【0050】
更には、これら第1回路部111等を含むブロック110と第2回路部120との数的関係は、かならずしも1:1である必要はなく、上述した実施の形態に制限されるわけではない。例えば、図7に示されるように、1つの第2回路部120に対して、n個のブロック110−1〜110−nが並列に接続され、これらn個のブロック110−1〜110−nが第2の回路部120に含まれる制御回路121からの制御信号によってスイッチ制御されるものとしても良い。また、図8に示されるように、m個の第2回路部120−1〜120−mとn個のブロック110−1〜110−nが並列接続されていても良い。この場合、m個の第2回路部120−1〜120−mは夫々所定数個のブロック110に対し制御信号を送出し、スイッチ制御を行うこととなる。これらのように複数のブロックがある場合においては、上述した効果に加え、1つのブロックがスタンバイ状態から動作状態に移行する際に、通常動作中の他のブロックへのノイズの影響をも削減することができる。
【0051】
また、上述した実施の形態において、第1及び第2のスイッチとして、2つの異なる極性のトランジスタスイッチを共用することとしても良い。この場合、各スイッチの特性を考慮し、Vth落ちなどの現象が起きないように配慮する必要がある。更には、第1及び第2のスイッチを互いに異なる極性のトランジスタで構成することとしても良い。また、第2のスイッチの位置は、スタンバイ状態においてデカップリング容量に保持された電荷が第1回路部におけるリーク電流として消費されるのを防ぎうる位置であれば、いずれの場所でも良い。たとえば、第1のスイッチ側における第1回路部とデカップリング容量との接続をオン・オフするために、第1回路部と第1のスイッチとの間に第2のスイッチを設けることとしても良い。この場合であっても、第1のスイッチがオフになった際に第2のスイッチもオフになれば、デカップリング容量に充電された電荷が流出することはなく保持され、上述した実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0052】
【発明の効果】
以上説明したように、本願発明によれば、デカップリング容量に対し、スタンバイ状態において電荷を保持させるように接続を遮断することができるスイッチを更に設けたことにより、スタンバイ状態から通常の動作状態に移行する際における電荷の再分配時の電源ノイズ発生を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の半導体装置と外部電源及びGNDとの関係を示す図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態による半導体装置の回路図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態による半導体装置におけるスイッチの具体的構成を示す図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態による半導体装置における動作を説明するためのタイムチャートである。
【図5】本発明の第2の実施の形態による半導体装置の回路図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態による半導体装置におけるスイッチの具体的構成を示す図である。
【図7】本発明による他の形態による半導体装置の回路図である。
【図8】本発明による他の形態による半導体装置の回路図である。
【図9】従来の実施の形態の回路図である。
【図10】従来の実施の形態の動作を説明するためのタイムチャートである。
【符号の説明】
100 半導体装置
101 チップ内電源端子
102 チップ内GND端子
103 外部電源
104 GND
105 寄生インダクタンス
106 寄生インダクタンス
110 ブロック
111 第1回路部
112 寄生容量
122 寄生容量
113 第1のスイッチ
114 デカップリング容量
115 第2のスイッチ
120 第2回路部
131 第1の接続点
132 第2の接続点
133 第3の接続点

Claims (9)

  1. いずれか一方がチップ内電源端子として動作し且つ他方がチップ内GND端子として動作する第1及び第2の端子と、2つの端部を有し且つ一端を前記第1の端子に接続された回路部と、前記回路部の他端と前記第2の端子との間の電気的接続をオン・オフするための第1のスイッチと、前記回路部の2つの端部間において当該回路部に並列接続された容量部とを備えた半導体装置において、
    前記第1のスイッチのオン・オフに応じて、前記第1のスイッチ側における前記容量部と前記回路部との接続をオン・オフするための第2のスイッチを更に備え、前記第1のスイッチをオンにするとき前記第2のスイッチをオンにし、前記第1のスイッチをオフにするとき前記第2のスイッチをオフすることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記第2の端子は前記チップ内電源端子であり、前記第2のスイッチは前記容量部と前記第1のスイッチとの間に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1及び第2のスイッチは、pMOSトランジスタからなることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記第1の端子は前記チップ内電源端子であり、前記第2のスイッチは前記容量部と前記第1のスイッチとの間に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  5. 前記第1及び第2のスイッチは、nMOSトランジスタからなることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
  6. 前記容量部の容量値は、前記回路部の有する寄生容量の容量値よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  7. 前記第2のスイッチのオン抵抗は前記第1のスイッチのオン抵抗よりも小さいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  8. 前記回路部、前記容量部、並びに第1及び第2のスイッチを一単位とするブロックを複数個有することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  9. 2つの端部を有する回路部に対して直列的に接続されたスイッチを有し、当該スイッチをオフすることにより、前記回路部での消費電力を抑えたスタンバイ状態を実現するとともに、前記回路部に対して並列的に接続された容量部を有し、前記スイッチがオンになった際には、前記回路部における瞬時的な電圧変動に対して当該容量部に蓄積された電荷で対応することにより他の回路へのノイズ伝播を抑える半導体装置において、前記回路部がスタンバイ状態から復帰する際に前記回路部の有する寄生容量に起因してノイズが発生するのを防止するために、
    前記スイッチ側における前記回路部と前記容量部との接続をオン・オフする付加的なスイッチを設け、
    前記スイッチがオンしている場合には、前記付加的なスイッチをオンして、前記容量部に対する充電を行い、
    前記スイッチがオフした場合には、前記付加的なスイッチをオフして、前記容量部に充電された電荷を保持させ、
    前記スイッチを再度オンした際には、前記付加的なスイッチを再度オンして、前記回路部の有する寄生容量への充電を前記容量部に保持された電荷でまかない、その後、再度前記容量部に対する充電を行う
    ことを特徴とする半導体装置におけるスイッチ制御方法。
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007108047A1 (ja) 2006-03-16 2007-09-27 Fujitsu Limited 電源ノイズを抑制可能とする半導体装置
JP4896974B2 (ja) 2006-06-01 2012-03-14 富士通株式会社 多電源集積回路を有する電子機器システム
JP4774000B2 (ja) * 2007-03-19 2011-09-14 富士通セミコンダクター株式会社 半導体集積回路及び半導体集積回路が組み込まれた半導体装置
JP5241193B2 (ja) 2007-10-16 2013-07-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
JP5130904B2 (ja) 2007-12-21 2013-01-30 富士通セミコンダクター株式会社 電子回路装置及び電子回路装置の制御方法
JP5579369B2 (ja) * 2008-01-24 2014-08-27 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 半導体装置
JP5104383B2 (ja) * 2008-02-20 2012-12-19 富士通株式会社 電子回路装置
KR101046731B1 (ko) * 2008-12-26 2011-07-05 주식회사 하이닉스반도체 파워 분배 장치와 그를 갖는 메모리 장치
JP5271850B2 (ja) * 2009-08-26 2013-08-21 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
JP2011159765A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Oki Semiconductor Co Ltd 半導体装置
US9035626B2 (en) * 2010-08-18 2015-05-19 Volterra Semiconductor Corporation Switching circuits for extracting power from an electric power source and associated methods
JP5763670B2 (ja) 2010-11-04 2015-08-12 株式会社ソシオネクスト 半導体集積回路
JP5145436B2 (ja) * 2011-02-24 2013-02-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US9166560B2 (en) * 2011-11-14 2015-10-20 Nec Corporation Decoupling circuit and semiconductor integrated circuit
US9454923B2 (en) * 2013-05-17 2016-09-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
JP6275478B2 (ja) * 2013-12-26 2018-02-07 ラピスセミコンダクタ株式会社 電源装置、電源装置の制御方法、及び電源装置を含む通信装置
US9871506B2 (en) 2014-04-16 2018-01-16 Qualcomm Incorporated Switchable decoupling capacitors
KR20200140119A (ko) 2019-06-05 2020-12-15 삼성전자주식회사 반도체 디바이스를 테스트하기 위한 프로브 카드를 포함하는 테스트 장치 및 그의 동작 방법
CN113394213B (zh) * 2021-06-10 2023-04-14 海光信息技术股份有限公司 集成电路芯片及其操作方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6048525A (ja) 1983-08-26 1985-03-16 Nec Corp マイクロコンピユ−タ
US4937538A (en) * 1988-04-05 1990-06-26 U.S. Philips Corporation Circuit arrangement for synchronizing an oscillator
DE69205885T2 (de) * 1991-05-15 1996-06-13 Matsushita Electric Works Ltd Apparat für den Betrieb von Entladungslampen.
JP2631335B2 (ja) 1991-11-26 1997-07-16 日本電信電話株式会社 論理回路
JP3725911B2 (ja) * 1994-06-02 2005-12-14 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP3561012B2 (ja) * 1994-11-07 2004-09-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
JPH10107210A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JPH10200050A (ja) * 1997-01-06 1998-07-31 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積装置
JP3732914B2 (ja) * 1997-02-28 2006-01-11 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP3309898B2 (ja) * 1997-06-17 2002-07-29 日本電気株式会社 電源回路
US6339338B1 (en) * 2000-01-18 2002-01-15 Formfactor, Inc. Apparatus for reducing power supply noise in an integrated circuit
JP3584205B2 (ja) * 2000-09-18 2004-11-04 シャープ株式会社 半導体装置
JP3598976B2 (ja) * 2001-01-31 2004-12-08 日本電気株式会社 電源ノイズセンサ
TWI231088B (en) * 2002-11-14 2005-04-11 Int Rectifier Corp Control IC for low power auxiliary supplies

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