JP4378352B2 - 周期構造体の製造方法 - Google Patents
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Description
第1の間隔で並んでいる複数の第1の柱状部材で構成される第1の層と、
該第1の柱状部材の長軸方向と異なる方向に、第2の間隔で並んでいる複数の第2の柱状部材で構成される第2の層とを備え、該第1の層と該第2の層とが積層されている構造を有する周期構造体の製造方法において、
表面に第1の凸部を有し、且つ該第1の凸部の該長軸方向の長さが、該第2の柱状部材の幅よりも長い該第1の柱状部材を用意する工程、及び
該第1の柱状部材と該第2の柱状部材とを、該第1の凸部を介して積層する工程を有することを特徴とする。
基体上に表面に凸部の無いロッド(角柱)を周期的に形成し、二次元周期構造を複数作製する工程と、
該複数の二次元周期構造を積層する工程である。
該表面に凸部を有するロッドと該表面に凸部の無いロッドとを交互に積層し、かつ二次元周期構造のロッドが互いに直交するように積層することを特徴とする。
図2は本発明による製造方法により作製した三次元周期構造(三次元フォトニック結晶)の一部(一周期分)を示した図である。図2において、100はロッドa(角柱)、102はロッドa表面に形成した凸部である。104はロッドb、106はロッドb表面に形成した凸部、108はロッドc、110はロッドc表面に形成した凸部、112はロッドd及び114はロッドd表面に形成した凸部である。
図5は本発明による製造方法により作製した三次元周期構造(三次元フォトニック結晶)の一部(一周期分)を示した図である。図5において、400はロッドa(角柱)、402及び404はロッドa表面に形成した凸部、406はロッドb、408及び410はロッドb表面に形成した凸部である。412はロッドc、414及び416はロッドc表面に形成した凸部、418はロッドd及び420及び422はロッドd表面に形成した凸部である。
図8は本発明による製造方法により作製した三次元周期構造(三次元フォトニック結晶)の一部(一周期分)を示した図である。図8において、700はロッドa(角柱)、702及び704はロッドa表面に形成した凸部、706はロッドb、708はロッドc、710及び712はロッドc表面に形成した凸部、714はロッドdである。
なお、二周期に限らず、それ以上の周期の三次元構造体を製造する場合においても、本実施例に示した方法を繰り返すことにより、所望の周期を有した三次元周期構造体を製造することが可能である。
図10は、本発明による三次元フォトニック結晶構造の製造方法の別の例である。
102,106,110,114 ロッド表面に形成した凸部
200 基体(サファイア)
202 誘電体(窒化ガリウム)
204 金属層(ニッケル)
206 ハードマスクパターン(ニッケルマスクパターン)
208 レジストマスクパターン
210 表面に凸部を有するロッド
212 表面に凸部を有したロッドが周期的に形成された二次元周期構造体
300 基体上に表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造
302 基体上に表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造を二つ積層した三次元周期構造
304 基体上に表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造を四つ積層した三次元周期構造の一周期分
306 基体上に表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造を積層した三次元周期構造の二周期分
400,406,412,418 ロッド(角柱)
402,404,408,410,414,416,420,422 ロッド表面に形成した凸部
500 基体(シリコン)
502 酸化シリコン
504 成長時マスク(酸化シリコン)パターン
506 誘電体層(窒化ガリウム)
508 金属層(ニッケル)
510 ハードマスクパターン(ニッケルマスクパターン)
512 レジストパターン
514 相対する表面に凸部を有したロッド
516 相対する表面に凸部を有したロッドが周期的に形成された二次元周期構造体
600 基体上に、相対する表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造
602 相対する表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造を二つ積層した三次元周期構造
604 相対する表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造を四つ積層した三次元周期構造の一周期分
606 相対する表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造を積層した三次元周期構造の二周期分
700,706,708,714 ロッド(角柱)
702,704,710,712 ロッド表面に形成した凸部
800 基体上に、相対する表面に凸部を有するロッドを周期的に形成した二次元周期構造
802 基体上に、表面に凸部の無いロッドを周期的に形成した二次元周期構造
804 相対する表面に凸部を有するロッドと表面に凸部の無いロッドを周期的に形成した二次元周期構造を二つ積層した三次元周期構造
806 相対する表面に凸部を有するロッドと表面に凸部の無いロッドを交互に周期的に形成した二次元周期構造を四つ積層した三次元周期構造の一周期分
808 相対する表面に凸部を有するロッドと表面に凸部の無いロッドを交互に周期的に形成した二次元周期構造を積層した三次元周期構造の二周期分
Claims (9)
- 第1の間隔で並んでいる複数の第1の柱状部材で構成される第1の層と、
該第1の柱状部材の長軸方向と異なる方向に、第2の間隔で並んでいる複数の第2の柱状部材で構成される第2の層とを備え、該第1の層と該第2の層とが積層されている構造を有するフォトニック結晶の製造方法において、
表面に第1の凸部を有し、且つ該第1の凸部の該長軸方向の長さが、該第2の柱状部材の幅よりも長い該第1の柱状部材を用意する工程、及び
該第1の柱状部材と該第2の柱状部材とを、該第1の凸部を介して積層する工程を有することを特徴とするフォトニック結晶の製造方法。 - 前記第2の柱状部材側に第2の凸部が設けられており、該第1の凸部と該第2の凸部が積層されていることを特徴とする請求項1記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の柱状部材と前記第2の柱状部材は、それらを積層方向側から見る場合に直交するように積層されていることを特徴とする請求項1あるいは2記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の凸部は、前記第1の柱状部材に第1の周期で複数形成されており、該第1の周期と前記第2の間隔が同じであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の柱状部材の、前記第1の凸部が形成されている面と反対側の面に、第3の凸部が複数形成されており、該第1の凸部と該第3の凸部は、互いに半周期ずれて形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の層と前記第2の層とが交互に複数層積層されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の凸部と、前記第1の柱状部材を構成する該第1の凸部以外の部分とが同一の材料で構成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の凸部と、前記第1の柱状部材を構成する該第1の凸部以外の部分とが異なるの材料で構成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のフォトニック結晶の製造方法。
- 前記第1の柱状部材を構成する材料からなる膜を基板上に形成する工程、
該膜上に、前記第1の凸部に対応する位置に第1のマスクを形成する工程、
前記膜及び前記第1のマスク上に第2のマスクを形成する工程、
該第2のマスクに前記第1の間隔で溝を形成する工程、
該膜の該溝の位置に対応する部分を除去する工程、
該第2のマスクを除去する工程、及び
該第1のマスクを用いて前記第1の凸部を形成する工程
を経ることにより、前記第1の凸部を有する前記第1の柱状部材を用意することを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のフォトニック結晶の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006032502A JP4378352B2 (ja) | 2005-04-28 | 2006-02-09 | 周期構造体の製造方法 |
US11/411,783 US7295745B2 (en) | 2005-04-28 | 2006-04-27 | Method for fabricating periodic structure |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005131644 | 2005-04-28 | ||
JP2006032502A JP4378352B2 (ja) | 2005-04-28 | 2006-02-09 | 周期構造体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006330681A JP2006330681A (ja) | 2006-12-07 |
JP4378352B2 true JP4378352B2 (ja) | 2009-12-02 |
Family
ID=37234515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006032502A Active JP4378352B2 (ja) | 2005-04-28 | 2006-02-09 | 周期構造体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7295745B2 (ja) |
JP (1) | JP4378352B2 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4341296B2 (ja) * | 2003-05-21 | 2009-10-07 | 富士ゼロックス株式会社 | フォトニック結晶3次元構造体の製造方法 |
JP4564929B2 (ja) * | 2006-02-21 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | 3次元フォトニック結晶の形成方法 |
JP4743867B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2011-08-10 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ |
JP2007234824A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Canon Inc | 垂直共振器型面発光レーザ |
US7459792B2 (en) * | 2006-06-19 | 2008-12-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Via layout with via groups placed in interlocked arrangement |
JP2008244431A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-10-09 | Canon Inc | 面発光レーザアレイ及びその製造方法、面発光レーザアレイを備えている画像形成装置 |
JP5159363B2 (ja) * | 2007-03-01 | 2013-03-06 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、面発光レーザアレイおよびそれを用いた画像形成装置 |
EP1994921A1 (fr) * | 2007-05-21 | 2008-11-26 | L'Oreal | Composition parfumante comprenant l'association d'un filtre A hydroxyaminobenzophenone, d'un filtre B cinnamate et d'un composé C pipéridinol, benzotriazole ou dibenzoylméthane |
JP4338211B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2009-10-07 | キヤノン株式会社 | フォトニック結晶を有する構造体、面発光レーザ |
JP4974981B2 (ja) * | 2007-09-21 | 2012-07-11 | キヤノン株式会社 | 垂直共振器型面発光レーザ素子、及び該垂直共振器型面発光レーザ素子を用いた画像形成装置 |
JP5173386B2 (ja) * | 2007-12-10 | 2013-04-03 | キヤノン株式会社 | 3次元フォトニック結晶及び機能素子 |
JP5084540B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2012-11-28 | キヤノン株式会社 | 垂直共振器型面発光レーザ |
JP5274038B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2013-08-28 | キヤノン株式会社 | 垂直共振器型面発光レーザの製造方法とレーザアレイの製造方法 |
JP5106487B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2012-12-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザの製造方法及び面発光レーザアレイの製造方法、該製造方法による面発光レーザアレイを備えている光学機器 |
JP5183555B2 (ja) | 2009-04-02 | 2013-04-17 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザアレイ |
JP4975130B2 (ja) * | 2009-05-07 | 2012-07-11 | キヤノン株式会社 | フォトニック結晶面発光レーザ |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6358854B1 (en) * | 1999-04-21 | 2002-03-19 | Sandia Corporation | Method to fabricate layered material compositions |
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JP4414535B2 (ja) * | 2000-01-13 | 2010-02-10 | 進 野田 | 半導体装置の製造方法 |
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JP4612844B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2011-01-12 | キヤノン株式会社 | 3次元周期構造及びそれを有する機能素子 |
JP5188009B2 (ja) * | 2004-03-08 | 2013-04-24 | キヤノン株式会社 | 3次元周期構造及びそれを有する機能素子および発光素子 |
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JP4560348B2 (ja) * | 2004-08-04 | 2010-10-13 | キヤノン株式会社 | 3次元フォトニック結晶およびそれを用いた光学素子 |
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-
2006
- 2006-02-09 JP JP2006032502A patent/JP4378352B2/ja active Active
- 2006-04-27 US US11/411,783 patent/US7295745B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060245716A1 (en) | 2006-11-02 |
JP2006330681A (ja) | 2006-12-07 |
US7295745B2 (en) | 2007-11-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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