JP4377861B2 - 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット - Google Patents

光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット Download PDF

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Description

本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに関する技術分野に属し、特には、CD,DVD ,Blu-ray Disk,HD-DVD等の光情報記録媒体において、光ディスク形成後にレーザー等を用いたマーキングを可能とするために、低熱伝導率、低溶融温度、高反射率、高耐食性を有する反射膜、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲット、及び、この反射膜を備えた光情報記録媒体に関する技術分野に属するものである。
光ディスクにはいくつかの種類があるが、記録再生原理から大きくは、再生専用型、追記型、書換型の3種類に分類される。
この中、再生専用型光ディスクは、図1に例示するように、透明プラスチック基体(例えばポリカーボネート基体)上に設けた凹凸の記録ピットによって記録データを形成した後にAl、Ag、Au等を主成分とする反射膜層を設けた構造を有しており、データ読み出しはディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することにより、行う。また、それぞれ個別の記録ピットを形成した透明プラスチック基体上に反射膜層を設けたものと半透明反射層を設けた透明プラスチック基体の2枚の基体を張り合わせて2層に記録したデータを読み出すタイプもある。片面でこの記録再生方式では、データは再生専用(追記、書換不可)であり、この方式を採る光ディスクとしては、CD-ROM, DVD-ROM, DVD-Videoなどが挙げられる。なお、図1は断面構造を示す模式図であって、図1において、符番の1と5はポリカーボネート基体、2は半透明反射膜層(Au,Ag合金,Si)、3は接着層、4は全反射膜層(Ag合金)を示すものである。
このような再生専用型の光ディスクでは、あらかじめ光ディスク形成時に情報のパターンを形成したスタンパによるプレス加工でディスクを大量生産することから、光ディスク個別にIDをつけることは困難であった。しかしながら、ディスクの不正コピーの防止、商品流通のトレーサビリティの向上、付加価値の向上等の目的から、再生専用型光ディスクにおいてもレーベルゲート方式や BCA(Burst Cutting Area)方式など、ディスク形成後に、専用の装置を用いてディスク一枚毎のIDを記録したディスクが規格化され始めている。このIDのマーキングは、現状では主に製造後のディスクにレーザー光を照射して、反射膜のAl合金を溶融し、反射膜に穴(空洞)をあけることにより記録を行うという方法により行われている。
再生専用の光ディスクの反射膜としては、これまで一般構造材として流通量が多く、そのため安価な JIS6061(Al-Mg系合金)を中心としたAl合金が広く使用されてきた。また、記録型(追記、書換)の光ディスクでは、より高反射率なAg合金が広く使用されている。
しかしながら、これらの材料は、熱伝導率が高く、マーキングに高いレーザーパワーを要し、そのため基体であるポリカーボネート基体や接着層にダメージを与えるといった問題点がある。また、耐食性が低く、レーザーマーキングを行った場合、マーキングあとに空洞が出来るため、その後の恒温恒湿試験において反射膜の腐食が発生するという問題点がある。Ag合金を使用する場合、Agの耐熱性の低さから、高温でAg膜が凝集し、反射率が低下するという問題がある。レーザーマーキングのパワーを低下させるためには、反射層の熱伝導率の低下に加えて、光吸収率(レーザー光の吸収率)の増加、溶融温度の低下が必要である。
Ag合金の熱伝導率の低減に関して、特開1992-252440 号公報にはAgにGe,Si,Sn,Pb,Ga,In,Tl,Sb,Biを添加して熱伝導率を低減する方法が開示されている。特開1992-28032号公報にはAgにCr,Ti,Si,Ta,Nb,Pt,Ir,Fe,Re,Sb,Zr,Sn,Niを添加して熱伝導率を低減する方法が示されている。しかしながら、これらの反射膜は、レーザー照射により膜を溶融・除去することは前提としていないため、膜の熱伝導率の低下と同時に溶融温度が上昇するものもあり、レーザーマーキング用Ag合金として十分な要求特性を満たすものは未だ提供されていないのが現状である。
特開1992-252440 号公報 特開1992-28032号公報
以上述べたように、レーザーマーキングをするAg合金には、低熱伝導率、低溶融温度、高耐食性が必要とされる。
現状、再生専用の光ディスクでは、反射膜にはJIS 6061系Al合金が使用されているが、本合金は熱伝導率、耐食性の観点で上記レーザーマーキングには対応が困難である。
本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、その目的は、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる光情報記録媒体用Ag合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供しようとするものである。
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、Agに対して特定の合金元素を特定量含有させたAg合金薄膜が低い熱伝導率、低い溶融温度、高い耐食性を有し、レーザーマーキングに適した光情報記録媒体用反射膜として好適な反射膜(金属膜)であるとの知見を得た。本発明はこのような知見に基づきなされたものであり、本発明によれば上記目的を達成することができる。
このようにして完成され上記目的を達成することができた本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに係わり、特許請求の範囲の請求項1〜3記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜(第1〜3発明に係るAg合金反射膜)、請求項4記載の光情報記録媒体(第4発明に係る光情報記録媒体)、請求項5〜8記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット(第5〜8発明に係るスパッタリングターゲット)であり、それは次のような構成としたものである。
即ち、請求項1記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第1発明〕。
請求項2記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、前記希土類元素の1種以上が、Nd,Gd,Yの1種以上である請求項1記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第2発明〕。
請求項3記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、Bi,Sbの1種以上を0.01〜3原子%含有している請求項1または2記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第3発明〕。
請求項4記載の光情報記録媒体は、請求項1〜3のいずれかに記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体である〔第4発明〕。
請求項5記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共に、In,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第5発明〕。
請求項6記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、前記希土類元素の1種以上が、Nd,Gd,Yの1種以上である請求項5記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第6発明〕。
請求項7記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Sbを0.01〜3原子%含有している請求項5または6記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第7発明〕。
請求項8記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Biを0.03〜10原子%含有している請求項5または6記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第8発明〕。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜によれば、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる。本発明に係る光情報記録媒体は、かかるAg合金反射膜を有し、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングを好適に行うことができる。本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットによれば、かかるAg合金反射膜を形成することができる。
前述したように、レーザーマーキングに適したAg合金薄膜では、低い熱伝導率、低い溶融温度、高い耐食性を有することが必要である。
本発明者らは、Agに種々の元素を添加したAg合金スパッタリングターゲットを製作し、これらターゲットを使用してスパッタリング法により種々の成分・組成のAg合金薄膜を形成し、その組成及び反射薄膜層としての特性を調べ、以下〔下記(1) 〜(2) 〕のことを見いだした。
(1) Agに希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%(at%)添加すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)添加し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上となるようにすることにより、光記録媒体に必要な反射率を維持しながら、熱伝導率の低下、光吸収率の増大が可能である。上記希土類元素の1種以上の添加量が1原子%(以降、単に%ともいう)未満の場合には、熱伝導率低下の効果が小さく、10%超の場合には、溶融温度の上昇が起こり、また、薄膜の耐久性が低下する。上記In,Sn,Alの1種以上の添加量が1%未満の場合には、溶融温度低下の効果が小さく、15%超の場合には、光記録媒体の読み出し波長に対する反射率が小さくなり、信号出力が低下する。上記希土類元素の1種以上の添加量と上記In,Sn,Alの1種以上の添加量のいずれもが5%未満の場合には、熱伝導率低下、溶融温度低下の効果が小さく、低レーザーパワーでのマーキングが困難である。
(2) さらにBi,Sbの1種以上を添加することにより、高温高湿環境下での腐食や凝集による反射率低下を更に抑制することができる。合金化による反射率低下の観点から、これらは3%以下の添加が良い。0.01%未満では上記反射率低下を抑制する効果が小さい。これらの元素の好ましい下限値は0.1 %であり、好ましい上限値は2%である。
以上のような知見に基づいて本発明は完成されたものであり、前述のような構成の光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットとしている。
このようにして完成された本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第1発明〕。
この光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、前記(1) のことからわかるように、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることにより、光記録媒体に必要な反射率を有すると共に、溶融温度が低く、また、熱伝導率が低く、且つ、光吸収率が高くてレーザーマーキングしやすく、耐食性に優れて耐久性が良好である。
従って、本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、レーザーマーキングに良好に対応でき、光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができる。即ち、レーザーマーキングが容易にでき、光記録媒体に必要な反射率を有すると共に、耐食性に優れて耐久性が良好である(高温高湿環境下での腐食やAg凝集による反射率低下が抑制される)。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜において、更にBi,Sbの少なくとも1種を0.01〜3%含有するようにした場合、前記(2) のことからわかるように、高温高湿環境下での腐食や凝集による反射率低下を更に抑制することができる〔第2発明〕。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜において、希土類元素の1種以上としては、例えばNd,Gd,Yの1種以上を挙げることができる〔第3発明〕。
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の膜厚については、5nm〜200nm とすることが望ましく、更には10nm〜100nm とすることが望ましい。この理由を以下説明する。膜厚が5nm未満の場合、光の透過成分が大きく、高い反射率が得られなくなるので、膜厚5nm以上とすることが望ましく、更には10nm以上とすることが望ましい。膜厚が厚いとAg合金反射膜を溶融させるためにレーザーが与えるエネルギーを大きくする必要があり、マーキングが困難になり、また、膜厚の増加と共に表面平滑性が低下し、光が散乱されやすくなり、高い信号出力が得られなくなるので、膜厚200nm 以下とすることが望ましく、更には100nm 以下とすることが望ましい。
本発明に係る光情報記録媒体は、前述のような本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を有していることとしている〔第4発明〕。この光情報記録媒体は、レーザーマーキングを好適に行うことができる。このため、過大レーザー出力によるディスク構成材(ポリカーボネート基体や接着層)の熱ダメージがなく、また、耐食性に優れていることから、高温高湿環境下での腐食や凝集による反射率低下が生じ難く、かかる点において優れた特性を有することができる。
本発明に係る光情報記録媒体は、上記のように優れた特性を有することができるので、レーザーマーキング用として特に好適に用いることができる。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第5発明〕。このAg合金スパッタリングターゲットによれば、本発明の第1発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を形成させることができる。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にSbを0.01〜3原子%含有するようにした場合は、本発明の第3発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の中、Sbを0.01〜3原子%含有するものを形成させることができる〔第7発明〕。本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にBiを0.03〜10原子%含有するようにした場合は、本発明の第3発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の中、Biを0.01〜3原子%含有するものを形成させることができる〔第8発明〕。なお、前記希土類元素、In,Sn,Alの場合や前記Sbの場合、ターゲット中に添加された元素量がそのまま薄膜中の含有量に反映されるが、上記Biの場合には、薄膜中のBi量はターゲット中のBi量の数十%程度に減少してしまうので、上記のようなターゲット組成(含有量)としている。
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、希土類元素の1種以上としてはNd,Gd,Yの1種以上を挙げることができる〔第6発明〕。このように希土類元素の1種以上としてNd,Gd,Yの1種以上を用いた場合、本発明の第2発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を形成させることができる。
本発明の実施例および比較例について、以下説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。Ag-A-B合金は、A 及びB を含有するAg合金のことである。Ag-A-B-C合金は、A 、B 及びC を含有するAg合金のことである。Ag-aA-bBは、A を a%(原子%)、B を b%含有するAg合金のことである。Ag-aA-bB-cC は、A を a%(原子%)、 Bを b%、C をc %含有するAg合金のことである。
〔例1〕
表1に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜(Nd及びInを含有するAg合金薄膜)〔No.1〜5 〕、Ag-Gd-In合金薄膜〔No.6〜10〕、及び、 Ag-Y-In 合金薄膜〔No.11 〜15〕を作製し、Nd,Gd,Yの添加量(含有量)と薄膜の溶融温度、熱伝導率、反射率、BCA (Burst Cutting Area )方式によるマーキング(以下、 BCAマーキングという)時のレーザーパワーとの関係を調べた。
上記薄膜は、次のようにして作製した。即ち、DCマグネトロンスパッタリング法により、ポリカーボネート基板(基板サイズ:直径120mm 、厚さ 0.6mm)上に、Ag-Nd-In合金薄膜、Ag-Gd-In合金薄膜、あるいは、 Ag-Y-In 合金薄膜を作製(成膜)した。このとき、成膜条件は、基板温度:22℃,Arガス圧:3mTorr ,成膜速度:30nm/sec,背圧:5×10-6Torr以下である。スパッタリングターゲットとしては、各種添加元素のチップを純Agターゲット上に配置した複合ターゲットを用いた。
薄膜の溶融温度は、次のようにして測定した。厚さ1μm に成膜したAg合金薄膜を基板より剥離し、約5mg収集したものを示差熱測定器を用いて測定した。このとき溶け初めの温度と溶け終わりの温度の平均値を溶融温度とした。熱伝導率については、厚さ100nm で作製したAg合金薄膜の電気抵抗率から換算した。反射率については、波長405nm における反射率を測定して求めた。 BCAマーキング時のレーザーパワーは次のようにして調べた。BCA マーキングには日立コンピュータ機器製POP-120-8Rを使用し、線速度8m/sでランダムなBCA パターンを記録し、光学顕微鏡により溶融が開始するときのレーザーパワーを調べた。
上記測定(調査)の結果を表1に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、In含有量は全て5%であり、Nd、Gd、Y含有量を変化させている。即ち、No.1〜5 のようにNd含有量を変化させ、No.6〜10のようにGd含有量を変化させ、No.11 〜15のようにY含有量を変化させている。In含有量は全て5%であるので、本発明の第1発明の要件の中、In,Sn,Alの1種以上:1〜15%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)という要件、及び、希土類元素の含有量とIn,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量:5%以上という要件は全て満たしている。希土類元素の含有量:1〜10%という要件を満たすものと満たしていないものとがある。
表1からわかるように、Nd、Gd、Yの添加量(含有量)の増加とともに熱伝導率が低下し、また、溶融温度が低下している。即ち、Nd含有量の増加とともに熱伝導率が低下し、溶融温度が低下しており〔No.1〜5 〕、Gd含有量の増加とともに熱伝導率が低下し、溶融温度が低下しており〔No.6〜10〕、Y含有量の増加とともに熱伝導率が低下し、溶融温度が低下している〔No.11 〜15〕。Nd、Gd、Y添加量が1%未満の場合、レーザーマーキングに高いパワーを要している。Nd、Gd、Y添加量が10%超の場合、十分に高い反射率が得られていない。
これらの結果から、In,Sn,Alの1種以上:1〜15%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)という要件、及び、希土類元素の含有量とIn,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量:5%以上という要件を満たすと共に、希土類元素の含有量:1〜10%という要件を満たす必要があることが確認された。つまり、本発明の第1発明の要件を満たす必要があることが確認された。
〔例2〕
前記例1の場合と同様の作製方法により、表2に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜〔No.1a 〜3a〕、Ag-Nd-Sn合金薄膜〔No.4a 〜6a〕作製し、前記例1の場合と同様の測定方法により、薄膜の溶融温度、熱伝導率および反射率を測定し、前記例1の場合と同様の方法により、 BCAマーキング時のレーザーパワーを調べた。
上記測定(調査)の結果を表2に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、Nd含有量は全て5%であり、In,Sn等の含有量を変化させている。即ち、No.1a 〜3aのようにIn含有量を変化させ、No.4a 〜6aのようにSn含有量を変化させている。Nd含有量は全て5%であるので、本発明の第1発明の要件の中、希土類元素の含有量:1〜10%という要件、及び、希土類元素の含有量とIn,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量:5%以上という要件は全て満たしている。In,Sn,Alの1種以上:1〜15%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)という要件も満たしている。
表2からわかるように、In,Snの添加によりマーキングに必要なレーザーパワーを大きく低下することができ、これら元素の添加量(含有量)の増加とともにマーキングに必要なレーザーパワーが低下している。即ち、In含有量の増加とともにマーキングに必要なレーザーパワーが低下しており〔No.1a 〜3a〕、Sn含有量の増加とともにマーキングに必要なレーザーパワーが低下している〔No.4a 〜6a〕。InやSnの含有量の増大とともに反射率が低下し、No.1a 〜3aの中では No.3a(In含有量:15%)が最も反射率が低く、No.4a 〜6aの中では No.6a(Sn含有量:15%) が最も反射率が低い。これら元素の含有量が15%を超えると反射率の低下がさらに大きくなる。
これらの結果から、希土類元素の含有量:1〜10%という要件、及び、希土類元素の含有量とIn,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量:5%以上という要件を満たすと共に、In,Sn,Alの1種以上:1〜15%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)という要件を満たす必要があることが確認された。つまり、本発明の第1発明の要件を満たす必要があることが確認された。
〔例3〕
前記例1の場合と同様の作製方法により、表3に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-Nd-In合金薄膜〔No.1b 〕、Ag-Nd-In-Bi 合金薄膜〔No.2b 〜4b〕、Ag-Nd-In-Sb 合金薄膜〔No.5b 〜7b〕を作製した。膜厚はいずれも100nm とした。この薄膜について、波長405nm における反射率を測定し、そして、環境試験を行い、この環境試験後の薄膜について波長405nm における反射率を測定し、これにより環境試験による反射率の変化量(低下量)を求めた。このとき、環境試験の条件は、温度80℃,湿度85%RHで、保持時間は96時間とした。
上記測定(調査)の結果を表3に示す。表3からわかるように、Bi,Sbの添加により、環境試験による反射率の変化量(低下量)が小さくなり、環境試験による反射率低下が大幅に抑制されている。この効果は、より具体的には、No.1b 及びNo.2b 〜4bからと、No.1b 及びNo.5b 〜7bからわかる。即ち、No.1b 、No.2b 〜4bから、Biの添加効果がわかり、No.1b 、No.5b 〜7bから、Sbの添加効果がわかる。
Bi,Sbの含有量が増えるに伴って環境試験による反射率低下量が小さくなるが、それに伴って環境試験前の薄膜の反射率が小さくなっている。表3に示すBi,Sbの含有量の場合には環境試験前の薄膜の反射率は、不充分というほどではないが、Bi含有量やSbの含有量が3%を超えると、環境試験前の薄膜の反射率が更に小さくなり、好ましくない。また、Bi含有量やSbの含有量が0.01%未満の場合は、環境試験による反射率低下の抑制効果が小さくなるので、環境試験による反射率低下の抑制の点では0.01%以上とすることが好ましい。
Figure 0004377861
Figure 0004377861
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本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできるので、再生専用型光ディスクの光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができて有用である。
再生専用型光ディスクの断面構造を示す模式図である。
符号の説明
1--ポリカーボネート基体、2--半透明反射膜層(Au,Ag合金,Si)、3--接着層、
4--全反射膜層(Ag合金)、5--ポリカーボネート基体。

Claims (8)

  1. 光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
  2. 前記希土類元素の1種以上が、Nd,Gd,Yの1種以上である請求項1記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
  3. Bi,Sbの1種以上を0.01〜3原子%含有している請求項1または2記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体。
  5. Agを主成分とし、希土類元素の1種以上を合計で1〜10原子%含有すると共にIn,Sn,Alの1種以上を合計で1〜15原子%(但し、Alを含有する場合、Al含有量は1〜5原子%を除く)含有し、且つ、前記希土類元素の1種以上の含有量と前記In,Sn,Alの1種以上の含有量のうち何れかの含有量が5原子%以上であることを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
  6. 前記希土類元素の1種以上が、Nd,Gd,Yの1種以上である請求項5記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
  7. Sbを0.01〜3原子%含有している請求項5または6記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
  8. Biを0.03〜10原子%含有している請求項5または6記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
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US11/425,062 US7695792B2 (en) 2005-07-22 2006-06-19 Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
CN2006101019513A CN1901053B (zh) 2005-07-22 2006-07-11 光学信息记录介质用银合金反射膜,为此的银合金溅射靶,以及光学信息记录介质
TW095125495A TWI307097B (en) 2005-07-22 2006-07-12 Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
SG200604798A SG129400A1 (en) 2005-07-22 2006-07-13 Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
BRPI0602895-0A BRPI0602895A (pt) 2005-07-22 2006-07-24 filmes refletivos de liga de prata (ag) para meios de registro de informação ótica, alvo de crepitação de liga de prata (ag) e meios de registro de informação ótica

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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100568392B1 (ko) * 2002-06-24 2006-04-05 가부시키가이샤 코베루코 카겐 은 합금 스퍼터링 타겟 및 그의 제조 방법
US7514037B2 (en) 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
JP3993530B2 (ja) * 2003-05-16 2007-10-17 株式会社神戸製鋼所 Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP2006294195A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kobe Steel Ltd 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2007335061A (ja) * 2006-05-16 2007-12-27 Sony Corp 光情報記録媒体とそのBCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
US8092889B2 (en) * 2006-08-28 2012-01-10 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective film for optical information storage media, optical information storage medium, and sputtering target for the deposition of silver alloy reflective film for optical information storage media
JP2008117470A (ja) * 2006-11-02 2008-05-22 Sony Corp 光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法、BCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
JP4540687B2 (ja) * 2007-04-13 2010-09-08 株式会社ソニー・ディスクアンドデジタルソリューションズ 読み出し専用の光情報記録媒体
JP4694543B2 (ja) * 2007-08-29 2011-06-08 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット、およびその製造方法
JP4833942B2 (ja) * 2007-08-29 2011-12-07 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット
JP2009076129A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Kobe Steel Ltd 読み出し専用の光情報記録媒体
JP5046890B2 (ja) * 2007-11-29 2012-10-10 株式会社コベルコ科研 Ag系スパッタリングターゲット
JP2010049736A (ja) 2008-08-21 2010-03-04 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報記録媒体
JP5331420B2 (ja) 2008-09-11 2013-10-30 株式会社神戸製鋼所 読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の半透過反射膜形成用スパッタリングターゲット
JP2010225572A (ja) * 2008-11-10 2010-10-07 Kobe Steel Ltd 有機elディスプレイ用の反射アノード電極および配線膜
CN102369571A (zh) 2009-04-14 2012-03-07 株式会社神户制钢所 光信息记录媒体、形成光信息记录媒体的反射膜用的溅射靶
JP5488849B2 (ja) * 2011-06-24 2014-05-14 三菱マテリアル株式会社 導電性膜およびその製造方法並びにこれに用いるスパッタリングターゲット
JP5806653B2 (ja) * 2011-12-27 2015-11-10 株式会社神戸製鋼所 反射電極用Ag合金膜、反射電極、およびAg合金スパッタリングターゲット
US9074681B2 (en) * 2012-11-20 2015-07-07 United Technologies Corporation Hardened silver coated journal bearing surfaces and method
JP5522599B1 (ja) * 2012-12-21 2014-06-18 三菱マテリアル株式会社 Ag合金スパッタリングターゲット
JP5590258B2 (ja) * 2013-01-23 2014-09-17 三菱マテリアル株式会社 Ag合金膜形成用スパッタリングターゲットおよびAg合金膜、Ag合金反射膜、Ag合金導電膜、Ag合金半透過膜
WO2014208341A1 (ja) * 2013-06-26 2014-12-31 株式会社神戸製鋼所 反射電極用または配線電極用Ag合金膜、反射電極または配線電極、およびAg合金スパッタリングターゲット
TWI727322B (zh) * 2018-08-09 2021-05-11 日商Jx金屬股份有限公司 濺鍍靶及磁性膜
CN109306414A (zh) * 2018-10-24 2019-02-05 吉晟光电(深圳)有限公司 银合金靶材、薄膜及其制备方法
CN112323030A (zh) * 2020-11-17 2021-02-05 昆山全亚冠环保科技有限公司 一种银合金靶材及其制备方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4998239A (en) * 1987-10-07 1991-03-05 The Dow Chemical Company Optical information recording medium containing a metal alloy as a reflective material
JPH0428032A (ja) 1990-05-24 1992-01-30 Daicel Chem Ind Ltd 光情報記録媒体
JPH04252440A (ja) 1991-01-28 1992-09-08 Hitachi Maxell Ltd 光情報記録媒体
JPH05258363A (ja) 1992-03-10 1993-10-08 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 光磁気記録媒体
US5328813A (en) 1992-06-30 1994-07-12 The Dow Chemical Company Method for the preparation of optical recording media containing overcoat
US5948497A (en) * 1992-10-19 1999-09-07 Eastman Kodak Company High stability silver based alloy reflectors for use in a writable compact disk
JP3638152B2 (ja) 1996-09-09 2005-04-13 松下電器産業株式会社 光学的情報記録媒体とその製造方法、光学的情報記録・再生方法及び光学的情報記録・再生装置
EP0831473B1 (en) * 1996-09-24 2004-11-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical information recording disc
JPH11134715A (ja) * 1997-10-28 1999-05-21 Kao Corp 光記録媒体
US6544616B2 (en) * 2000-07-21 2003-04-08 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6007889A (en) * 1998-06-22 1999-12-28 Target Technology, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
JP2000057627A (ja) 1998-08-04 2000-02-25 Mitsui Chemicals Inc 光反射膜及びそれを用いた光記録媒体
US6177186B1 (en) * 1999-04-30 2001-01-23 General Electric Company Heat reflective, erosion and wear resistant coating mixture, method and coated article
JP2001184725A (ja) 1999-12-21 2001-07-06 Victor Co Of Japan Ltd 光学的情報記録媒体
JP3365762B2 (ja) 2000-04-28 2003-01-14 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲット
SG116432A1 (en) * 2000-12-26 2005-11-28 Kobe Steel Ltd Reflective layer or semi-transparent reflective layer for use in optical information recording media, optical information recording media and sputtering target for use in the optical information recording media.
JP3656898B2 (ja) * 2001-01-31 2005-06-08 日立金属株式会社 平面表示装置用Ag合金系反射膜
JP4023136B2 (ja) * 2001-11-19 2007-12-19 三菱マテリアル株式会社 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット
JP4023135B2 (ja) * 2001-11-19 2007-12-19 三菱マテリアル株式会社 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット
JP3772972B2 (ja) * 2001-11-26 2006-05-10 三菱マテリアル株式会社 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット
US7022384B2 (en) * 2002-01-25 2006-04-04 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Reflective film, reflection type liquid crystal display, and sputtering target for forming the reflective film
KR100568392B1 (ko) * 2002-06-24 2006-04-05 가부시키가이샤 코베루코 카겐 은 합금 스퍼터링 타겟 및 그의 제조 방법
ES2263985T3 (es) * 2002-06-28 2006-12-16 Williams Advanced Materials Inc. Aleaciones metalicas de plata resistentes a la corrosion para el almacenamiento optico de grabacion que las contine.
US20040005432A1 (en) 2002-07-08 2004-01-08 Ridout James W. Reflective or semi-reflective metal alloy coatings
US7514037B2 (en) * 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
JP2004158145A (ja) 2002-11-08 2004-06-03 Tdk Corp 光記録媒体
TWI368819B (en) 2003-04-18 2012-07-21 Target Technology Co Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
JP3993530B2 (ja) * 2003-05-16 2007-10-17 株式会社神戸製鋼所 Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP4009564B2 (ja) * 2003-06-27 2007-11-14 株式会社神戸製鋼所 リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜のAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2005029849A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Kobe Steel Ltd リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
US20050112019A1 (en) * 2003-10-30 2005-05-26 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho(Kobe Steel, Ltd.) Aluminum-alloy reflection film for optical information-recording, optical information-recording medium, and aluminum-alloy sputtering target for formation of the aluminum-alloy reflection film for optical information-recording
TWI248978B (en) * 2003-12-04 2006-02-11 Kobe Steel Ltd Ag-based interconnecting film for flat panel display, Ag-base sputtering target and flat panel display
EP1736558A4 (en) * 2003-12-10 2009-06-17 Tanaka Precious Metal Ind SILVER ALLOY FOR REFLECTIVE FILM
EP1734139A4 (en) * 2003-12-10 2009-03-18 Tanaka Precious Metal Ind SILVER ALLOY WITH EXCELLENT PERFORMANCE IN THE MAINTENANCE OF REFLECTANCE
JP4320000B2 (ja) 2004-04-21 2009-08-26 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用半透過反射膜と反射膜、および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット
TWI325134B (en) * 2004-04-21 2010-05-21 Kobe Steel Ltd Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target
EP1612784B1 (en) * 2004-06-29 2007-11-28 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target
JP3907666B2 (ja) * 2004-07-15 2007-04-18 株式会社神戸製鋼所 レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体

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