JPH0428032A - 光情報記録媒体 - Google Patents

光情報記録媒体

Info

Publication number
JPH0428032A
JPH0428032A JP2134636A JP13463690A JPH0428032A JP H0428032 A JPH0428032 A JP H0428032A JP 2134636 A JP2134636 A JP 2134636A JP 13463690 A JP13463690 A JP 13463690A JP H0428032 A JPH0428032 A JP H0428032A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording
write
film
reflectance
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2134636A
Other languages
English (en)
Inventor
Etsuji Akimoto
秋本 悦二
Masahiro Tsumura
昌弘 津村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP2134636A priority Critical patent/JPH0428032A/ja
Publication of JPH0428032A publication Critical patent/JPH0428032A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、基板上に形成されたレーザー光の照射によっ
て非可逆的な変化を生じる記録層と、この記録層上に形
成された反射層とを有するレーザー光によって情報を記
録・再生する追記型の光情報記録媒体に関するものであ
る。
特に、本発明は、情報の記録は追記型光ディスクの書込
み装置で行い、情報の再生はCD5VDとよばれる再生
専用光ディスクの再生装置(プレーヤ)を用いて行う方
式に用いられるいわゆるCD−ライトワンス(CD −
Write−Once)ディスりまたはVD−ライトワ
ンスディスクに関するものである。
従来の技術 再生専用の光ディスク、すなわち、オーディオ信号をデ
ジタル信号の形で記録したCDとよばれる光ディスクや
、ビデオ信号をアナログ信号の形で記録したVDとよ−
ばれる光ディスクは古(から実用化されている。
また、レーザー光の照射によって記録膜に非可逆的な特
性変化、特に記録膜の形状・形態の変化を起こさせて情
報を記録する追記型(ライトワンス型)の光情報記録媒
体は静止画ファイリングシステムの記録媒体等として実
用化されている。このライトワンス型の光ディスクでは
、記録膜としてTe、旧等の低融点金属やその合金化合
物または分散物あるいは色素等が用いられている。
最近、この追記型の記録膜に書込み装置を用いて記録し
た記録済みの光ディスクを、安価なCD用の再生装置(
プレーヤー)を利用して再生しようとする試みがなされ
ている。この方式ではCDを作るた約の原盤製造設備、
基板成形設備、反射膜の蒸着設備といった大型設備が不
用となり、ユーザーが小型の書込み装置を用いて追記型
の光ディスクに書込んだ情報を広く普及したCDプレー
ヤーで簡単に再生することができるという利点がある。
しかし、この方式に用いられるCD−ライトワンス型デ
ィスクは、追言己型光ディスク用の書込み装置で書き込
みができ、しかも、CDプレーヤーで再生できなければ
ならないため、追記型の光ディスクの特性とCDまたは
VDの性能とを同時に有していなければならない。換言
すれば、CD−ライトワンス型ディスクは追記型光デイ
スク用の書込み装置で非可逆変形ができる高い記録特性
、特に高い記録感度特性と、CDプレーヤーで再生がで
きる再生特性、特に高い反射特性との両方の性能を持っ
ていなければならない。この記録感度特性と反射特性と
を同時に大きくすることは一般には極めて困難である。
これまでに提案されたCD−ライトワンス型ディスクは
、追記型光ディスクの記録膜にAu5A1等の高反射率
の反射膜を設けて反射特性を高くしたものが多いが、こ
れらの反射膜の材料はいずれも熱伝導が高いために、記
録時に記録膜に吸収されたレーザーエネルギーが有効に
利用できず、従って、十分満足できるような記録感度が
得られながった。
発明が解決する課題 従って、本発明はの目的は、上記問題点のない高反射率
で且つ高記録感度のCD−ライトワンス型ディスクを提
供することにある。
問題点を解決するための手段 本発明者等は、高反射率且つ高記録感度が得られる反射
膜を種々検討した結果、Au、 A1等の純金属に少量
の異種金属を混合して合金化することによって上記問題
点を解決できることを見出し本発明を完成した。
本発明の提供する追記型の光情報記録媒体は、基板上に
形成されたレーザー光の照射によって非可逆的な形状お
よび/または形態変化を生じる記録層と、この記録層上
に形成された反射層とを有する追記型の光情報記録媒体
において、上記反射層がAu、 Ag、 CuSAlか
らなる群(以下この群をA群と呼ぶ)の中から選択され
た少なくとも1種の元素と、C5Ti、 Si、Ta、
 Nb、 Pt、 Ir、 Fe、 Re。
Sb、 Zr、 5nSNi、 Tl、 Pd、 Co
からなる群(以下この群をB群と呼ぶ)の中から選択さ
れた少なくとも1種の元素との合金の薄膜であることを
特徴としている。
上記基板は一般にディスク形状であるが、カードやドラ
ム状のものでもよい。基板の材料はガラス、金属、セラ
ミック、プラスチックにすることができるが、特に透明
なプラスチックが好ましい。
透明プラスチック基板材料としては、射出成形可能なポ
リカーボネート樹脂、アクリル樹脂(ポリメチルメタク
リレート樹脂等)、アモルファスポリオレフィン等の特
殊オレフィン樹脂の他に、2P法と呼ばれる注型成形用
のエポキシ樹脂等を挙げることができる。
上記の追記型の記録層は、レーザー光によって非可逆的
な形状および/または形態の変化を生じさせる公知の任
意の材料を用いることができる。
具体的には、Te−3e、 TTe−5e−PbSTe
−3e−TiA、 Te−B1. Te= C−H等の
Teを主成分とした合金薄膜、シアニン系、フタロシア
ニン系等の有機色素薄膜等を挙げることができるが、こ
れらに限定されるものではない。この記録膜およびその
成膜方法は公知であり、また、本発明の対象ではないの
で詳細は省略するが、一般に、Te系の合金薄膜の場合
には蒸着、スパッタリング等の物理蒸着法を用い、有機
色素薄膜の場合にはスピンコード等の塗布法を用いるこ
とが多い。また、これら記録膜の厚さは各言己録膜の特
性によって決められた範囲に選択する。
本発明の特徴は、上記A群の中から選択された少なくと
も1種の金属元素と、上gEB群の中から選択された少
なくとも1種の元素との合金によって反射膜を作る点に
あり、この合金の組成は下記の式を満足するようにする
のが好ましい:A10O−)lBx (ここで、XはBの元素の原子%で0<X≦10である
) 合金中OBの含有量が10%を超えると十分満足な高反
射率が得られない。
また、反射層の膜厚は合金組成によって異なるが、一般
には100人〜1000人、好ましくは200人〜60
0人にする。100Å以下では十分高い反射率が得られ
ずまた1000人を越えると満足できる記録感度が得ら
れない。
反射膜は一般に蒸着、スパッタリング等の物理的蒸着法
によって記録膜上に直接形成することができる。蒸着源
としては上記合金を直接用いるか、Aの金属とBの金属
を同時に用いて、各蒸着源の面積を変えるか、各蒸着源
に加えるEBガンのエネルギーを変えるか、蒸着レート
を変えて、基板上で上記の組成比となるようにする。
第1図は本発明が特に好ましく適用される追記型の光デ
ィスクの断面構造を示す概念図であり、透明プラスチッ
ク基板1上に形成された記録層2の上に本発明による反
射層3が形成されている。
実際には、この構成の光ディスクを2枚を反射層3が互
いに対向した状態で貼り合わて用いることが多い。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例、比較例では得られた光ディスクの
記録・再生特性を評価用測定装置で測定しているが、デ
ィスク基板に付ける案内溝、信号ピット等をCD用規格
に合わせることによって、CDプレーヤーで再生するこ
とが可能であるということは理解できよう。
実施例1 射出成形法で作られた直径が120mm、厚さが1.2
mmのISO規格のスパイラル溝付きポリカーボネート
樹脂のディスク基板にDCスパッタリング装置でTeS
eTiAgの4成分の合金ターゲット[Te:Se:T
i:Ag(原子比)=90.0:8.9:1. o:o
、 1]を用いてTe系の記録簿を300人の膜厚に成
膜した。
次いで、同じDCスパッタリング装置中でアルミニウム
とクロムの2元ターゲット(Al:Crの面積比−95
+ 5)を用いて、上記のTe系の記録膜の上に膜厚3
00人のA15sCr5の反げ膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについてを780nmの半
導体レーザーを用いてC/N比、記録感度および反射率
を測定した。
なお、C/N比は780 n mの半導体レーザーを用
いて線速1.3m/秒、記録周波数700 k Hzで
、duty=30%の条件で書き込みを行ない、0.7
mWで読み出したときのC/Nの最大値であり、記録感
度は上記の測定条件でC/N=45dBになる書き込み
出力を表している。
得られた結果は、C/Nが48 dB、記録感度が4m
W、反射率が35%であった。
比較例1 実施例1の操作を繰り返したが、この場合には、反射膜
用のターゲットとしてA195CrSの代りに純金属の
Alを用いて300人のAlの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて、実施例1と同様
にしてC/N比、記録感度、反射率を測定した結果、C
/Nは47 dB、記録感度は5mW。
反射率は36%であった。
実施例1の結果と比較すると、本発明による実施例1で
は、反射率の低下割合(35−36)/36 =−3%
に比べて、記録感度は(5−4)m1115mW= +
20%の率で大幅に向上することが分かる。
実施例2 実施例1の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてAl、sCr、の代りに金とクロム
との2元ターゲット (Au : Crの面積比=95
 : 5)を用いてTe系の記録膜の上に膜厚300人
の八09scrsの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
比較例2 実施例2の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲラ)&してAu、、5C’rs代わりに純金を
用いて300AのAuの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
実施例3 実施例1の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとして^1ssCr5の代りに銅とクロム
との2元ターゲット(Cu : Crの面積比=95 
: 5)を用いてTe系の記録膜の上に膜厚300人の
Cus、Cr、の反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
比較例3 実施例3の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてCUs5Cr5代わりに純銅を用い
て300人のCuの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
実施例4 実施例1の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のタニゲットとしてAl3.Crsの代りに銀とクロム
との2元ターゲット(Ag : Crの面積比=95 
: 5)を用いてTe系の記録膜の上に膜厚300人の
Ag5sCrsの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
比較例4 実施例4の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてAg55Cr4.代わりに純銀を用
いて300人のAgの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
実施例5 実施例1の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてAl5scr5の代りにアルミとチ
タンとの2元ターゲット (Al : Ti の面積比
=95 : 5)を用いてTe系の記録膜の上に膜厚3
00人のA195T15の反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
実施例6 実施例1の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてA19SCrSの代りにアルミと珪
素との2元ターゲッ) (Al : Si の面積比=
95 : 5)を用いてTe系の記録膜の上に膜厚30
0人のA19.Si5の反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/’N比、記録感度および反射率を測定した結果
は表−1に示しである。
実施例7 2P法によってガラス基板上に紫外線硬化型の樹脂を用
いてISO規格のスパイラル溝を付けた直径が120m
m5厚さが1.2mωの光デイスク基板上にスピンコー
ターを用いてシアニン系色素薄膜を1200人の厚さに
成膜した。
このシアニン系色素は下記の式で表される化合物であり
、この色素の0,7%2,2′−ジクロロエタン溶液を
塗布した: このシアニン系色素薄膜の記録膜の上に実施例1と同じ
アルミニウムとクロムの2元ターゲット(Al:Crの
面積比=95 : 5)を用いて、DCスパッタリング
装置中で膜厚300人のAl5scrsの反射膜を成膜
した。
得られた追記型の光ディスクについてを780nmの半
導体レーザーを用いてC/N比、8己録感度および反射
率を測定した。
C/Nは53 dB、記録感度は7.5mW、反射率は
63%であった。
比較例5 実施例7の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとして^1ssCrg代わりに純金属のA
lを用いてシアニン系色素薄膜の上に300人のA1の
反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
実施例7の結果と比較すると、本発明による実施例7で
は、反射率の低下割合(65−63)/65= 3%に
比べて、8己録感度が7.5 mW /8.5 mW=
  %大幅に向上することが分かる。
実施例7の結果と比較すると、本発明による実施例7で
は、反射率の低下割合(63−65)/65=−3%に
比べて、記録感度は(8,5−7,5)mW/8.5 
+t+W =+24%の率で大幅に向上することが分か
る。
実施例8 実施例7の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてA1g5Cr5の代りに金とクロム
との2元ターゲット (Au : Crの面積比−95
: 5)を用いてシアニン系色素薄膜の上に膜厚300
人のAu9scrsの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
比較例6 実施例8の操作を繰り返したが、この場合には反射膜用
のターゲットとしてAl5scrs代わりに純金を用い
てシアニン系色素薄膜の上に300人のAuの反射膜を
成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
実施例9 実施例7の操作を繰り返したが、この場合には有機記録
材としてシアニン系色素の代わりにフタロシアニン系色
素(オレオノール ファーストブルーEL、住友化学社
製)のトルエン溶液(色素:溶媒=160重量ひ)をス
ピンコーターにより1200人成膜した。得られたフタ
ロシアニン系色素の記録膜上に実施例2で用いたのと同
じ金とクロムとの2元ターゲット(Au:Crの面積比
=95 + 5)を用いてDCスパッタリング装置中で
膜厚300人のAu9SCrSの反射膜を成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
比較例7 実施例9の操作を繰り返したが、この場合には1射膜用
のターゲットとしてAu5sCr5代わりに純金を用い
てシアニン系色素薄膜の上に300AのAuの反射膜を
成膜した。
得られた追記型の光ディスクについて実施例1と同様に
してC/N比、記録感度および反射率を測定した結果は
表−1に示しである。
表 発明の効果 以上の結果から明らかなように、本発明による合金薄膜
を反射層として用いた光ディスクはその合金の主成分で
ある金属元素を単独で反射層として用いた場合に比べて
、記録感度が大幅に向上し、従って、追記型記録媒体用
の書込み装置で記録する場合の感度不足が大幅に完全さ
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明が適用される追記型の光デイグの断面構
造を示す概念図。 (主な参照番号) に基板      2:記録層 3:反射層 ス

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に形成されたレーザー光の照射によって非
    可逆的な形状および/または形態変化を生じる記録層と
    、この記録層上に形成された反射層とを有する追記型の
    光情報記録媒体において、上記反射層がAu、Ag、C
    u、Alからなる群の中から選択された少なくとも1種
    の元素と、Cr、Ti、Si、Ta、Nb、Pt、Ir
    、Fe、Re、Sb、Zr、Sn、Ni、Tl、Pd、
    Coからなる群の中から選択された少なくとも1種の元
    素との合金の薄膜であることを特徴とする光情報記録媒
    体。
  2. (2)上記反射層を構成する合金が下記組成:A_1_
    0_0_−_xB_x (ここで、AはAu、Ag、Cu、Alからなる群の中
    から選択された少なくとも1種の元素であり、BはCr
    、Ti、Si、Ta、Nb、Pt、Ir、Fe、Re、
    Sb、Zr、Sn、Ni、Tl、Pd、Coからなる群
    の中から選択された少なくとも1種の元素であり、Xは
    0<X≦10の範囲を満たす数である) を有することを特徴とする請求項1に記載の光情報記録
    媒体。
JP2134636A 1990-05-24 1990-05-24 光情報記録媒体 Pending JPH0428032A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2134636A JPH0428032A (ja) 1990-05-24 1990-05-24 光情報記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2134636A JPH0428032A (ja) 1990-05-24 1990-05-24 光情報記録媒体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0428032A true JPH0428032A (ja) 1992-01-30

Family

ID=15133004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2134636A Pending JPH0428032A (ja) 1990-05-24 1990-05-24 光情報記録媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0428032A (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0594516A2 (en) * 1992-10-19 1994-04-27 Eastman Kodak Company High stability silver based alloy reflectors for use in a writable compact disk
WO2001008145A1 (fr) * 1999-07-22 2001-02-01 Sony Corporation Support optique d'enregistrement, procede optique d'enregistrement, procede optique de reproduction, dispositif optique d'enregistrement, dispositif optique de reproduction, et dispositif optique d'enregistrement/reproduction
EP1746591A2 (en) 2005-07-22 2007-01-24 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
EP1746180A1 (en) 2005-07-22 2007-01-24 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Optical information recording media and silver alloy reflective films for the same
EP1746590A2 (en) 2005-07-22 2007-01-24 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical
US7419711B2 (en) 2002-08-08 2008-09-02 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7476431B2 (en) 2005-04-14 2009-01-13 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
US7507458B2 (en) 2004-06-29 2009-03-24 Kobe Steel, Ltd. Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target
US7790263B2 (en) 2005-12-21 2010-09-07 Sony Corporation Ag alloy reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium and Ag alloy sputtering target for forming Ag alloy reflective film for optical information recording medium
US7833604B2 (en) 2006-12-01 2010-11-16 Kobe Steel, Ltd. Ag alloy reflective layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target for forming Ag alloy reflective layer for optical information recording medium
US7843796B2 (en) 2006-05-16 2010-11-30 Sony Corporation Optical information recording medium and method of marking BCA (burst cutting area) into the same
US8092889B2 (en) 2006-08-28 2012-01-10 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective film for optical information storage media, optical information storage medium, and sputtering target for the deposition of silver alloy reflective film for optical information storage media
US8152976B2 (en) 2007-08-29 2012-04-10 Kobelco Research Institute, Inc. AG-based alloy sputtering target
US8309195B2 (en) 2007-09-19 2012-11-13 Kobe Steel, Ltd. Read-only optical information recording medium
US8431931B2 (en) 2008-11-10 2013-04-30 Kobe Steel, Ltd. Reflective anode and wiring film for organic EL display device
US8470426B2 (en) 2008-09-11 2013-06-25 Kobe Steel, Ltd. Read-only optical information recording medium and sputtering target for depositing reflective film for the optical information recording medium
US8530023B2 (en) 2009-04-14 2013-09-10 Kobe Steel, Ltd. Optical information recording medium and sputtering target for forming reflective film for optical information recording medium

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0594516A2 (en) * 1992-10-19 1994-04-27 Eastman Kodak Company High stability silver based alloy reflectors for use in a writable compact disk
EP0594516A3 (en) * 1992-10-19 1995-03-22 Eastman Kodak Co Reflective layers made of highly stable, silver-based alloy for a writable compact disc.
WO2001008145A1 (fr) * 1999-07-22 2001-02-01 Sony Corporation Support optique d'enregistrement, procede optique d'enregistrement, procede optique de reproduction, dispositif optique d'enregistrement, dispositif optique de reproduction, et dispositif optique d'enregistrement/reproduction
US6788635B1 (en) 1999-07-22 2004-09-07 Sony Corporation Optical recording medium, optical recording method, optical reproducing method, optical recording device, optical reproducing device, and optical recording/reproducing device
US7566417B2 (en) 2002-08-08 2009-07-28 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US8178174B2 (en) 2002-08-08 2012-05-15 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7871686B2 (en) 2002-08-08 2011-01-18 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7419711B2 (en) 2002-08-08 2008-09-02 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7514037B2 (en) 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
US7776420B2 (en) 2002-08-08 2010-08-17 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7758942B2 (en) 2002-08-08 2010-07-20 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US8936856B2 (en) 2002-08-08 2015-01-20 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
US7722942B2 (en) 2002-08-08 2010-05-25 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7507458B2 (en) 2004-06-29 2009-03-24 Kobe Steel, Ltd. Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target
US7476431B2 (en) 2005-04-14 2009-01-13 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
US7754307B2 (en) 2005-04-14 2010-07-13 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
US7713608B2 (en) 2005-07-22 2010-05-11 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
EP1746180A1 (en) 2005-07-22 2007-01-24 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Optical information recording media and silver alloy reflective films for the same
US7517575B2 (en) 2005-07-22 2009-04-14 Kobe Steel, Ltd. Optical information recording media and silver alloy reflective films for the same
US7695792B2 (en) 2005-07-22 2010-04-13 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
EP1746590A2 (en) 2005-07-22 2007-01-24 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical
EP1746591A2 (en) 2005-07-22 2007-01-24 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Silver alloy reflective films for optical information recording media, silver alloy sputtering targets therefor, and optical information recording media
US7790263B2 (en) 2005-12-21 2010-09-07 Sony Corporation Ag alloy reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium and Ag alloy sputtering target for forming Ag alloy reflective film for optical information recording medium
US7843796B2 (en) 2006-05-16 2010-11-30 Sony Corporation Optical information recording medium and method of marking BCA (burst cutting area) into the same
US8092889B2 (en) 2006-08-28 2012-01-10 Kobe Steel, Ltd. Silver alloy reflective film for optical information storage media, optical information storage medium, and sputtering target for the deposition of silver alloy reflective film for optical information storage media
US7833604B2 (en) 2006-12-01 2010-11-16 Kobe Steel, Ltd. Ag alloy reflective layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target for forming Ag alloy reflective layer for optical information recording medium
US8152976B2 (en) 2007-08-29 2012-04-10 Kobelco Research Institute, Inc. AG-based alloy sputtering target
US8309195B2 (en) 2007-09-19 2012-11-13 Kobe Steel, Ltd. Read-only optical information recording medium
US8470426B2 (en) 2008-09-11 2013-06-25 Kobe Steel, Ltd. Read-only optical information recording medium and sputtering target for depositing reflective film for the optical information recording medium
US8431931B2 (en) 2008-11-10 2013-04-30 Kobe Steel, Ltd. Reflective anode and wiring film for organic EL display device
US8530023B2 (en) 2009-04-14 2013-09-10 Kobe Steel, Ltd. Optical information recording medium and sputtering target for forming reflective film for optical information recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5325351A (en) Optical recording medium having a reflective layer made of Cu-Ag or Cu-Au alloy
JPH0428032A (ja) 光情報記録媒体
JP2008186580A (ja) 光学記録媒体
JPH09106546A (ja) 光ディスク
JP2004119007A (ja) 高密度再生専用光ディスク
JPH02152029A (ja) 光情報記録媒体
JP3688044B2 (ja) 光記録媒体
US6866910B2 (en) Information recording medium
JPH09265660A (ja) 追記型の光記録媒体及びその光記録方法
JPH02235789A (ja) 光学情報記録部材及びその記録再生方法
JP2521178B2 (ja) 光学的記録媒体円盤
JPH04284289A (ja) 光情報記録媒体
KR100207582B1 (ko) 광기록매체
JPH0349051A (ja) 光情報記録媒体
JPH0367692A (ja) 光情報記録媒体及び記録方法
JPS60246606A (ja) 非晶質磁気光学層
JP2002008271A (ja) 光ディスク
JPS62256691A (ja) 光情報記録媒体およびその製造方法
KR100207581B1 (ko) 광기록매체
JP2993762B2 (ja) 光記録媒体
JP2003242687A (ja) 多層相変化型情報記録媒体
JPH02187937A (ja) 光記録媒体および光記録再生方法
JPH0397585A (ja) 光情報記録媒体
JPH10199031A (ja) 光情報記録媒体及び記録再生方法
JPH04214386A (ja) 光記録媒体