JP4362414B2 - ワークセンタリング・クランプ装置、回転駆動装置及び電子ビーム露光装置 - Google Patents
ワークセンタリング・クランプ装置、回転駆動装置及び電子ビーム露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4362414B2 JP4362414B2 JP2004139968A JP2004139968A JP4362414B2 JP 4362414 B2 JP4362414 B2 JP 4362414B2 JP 2004139968 A JP2004139968 A JP 2004139968A JP 2004139968 A JP2004139968 A JP 2004139968A JP 4362414 B2 JP4362414 B2 JP 4362414B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotary table
- work
- rotation
- electron beam
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
5;電子ビームユニット、6;回転移動部、7;回転ふれ検出部、8;レジスト板、
9;ワークセンタリング・クランプ装置、10;ワークセンタリング・クランプ装置、
31;ゲートバルブ、32;昇降軸、33;給熱バー、41;上方入口、
42;移載ユニット、51;電子銃、52;コンデンサレンズ、
53;電子ビーム変調部、54;アパーチャ、55;電子ビーム偏向部、
56;第一フォーカスレンズ、57;第二フォーカスレンズ、61;固定ベース、
62;回転ユニット、63;移動ユニット、71;ミラー、72;計測装置、73;窓、
91;クランプ機構、92;クランパ、93;リンク、94;ウェイト、
95;スプリング、96;リンクピン、97;ストッパ、101;クランプ機構、
102;クランパ、103;リンク、104;ウェイト、105;スプリング、
106;リンクピン、107;ストッパ、108;リンクガイド、
109;ウェイトガイド、110;光ディスク原盤露光装置、
111;光ディスク原盤露光装置、112;回転駆動装置、
113;ワーク押圧部材着脱機構、114;ワーク押圧部材、
115;ワークセンタリング・クランプ装置、116;クランプ用開口、
117;Oリング、621;回転テーブル、622;スピンドルモータ、
623;回転テーブル、631;移動ベース、632;モータ、633;送りねじ、
634;リニアガイド、635;スプリング、636;ディテクタ、
637;レーザスケール。
Claims (8)
- ワークを載せて回転する回転テーブルに搭載されてワークを、回転テーブル上に回転の中心に対して対称に配置された少なくとも3組のクランプ手段でセンタリングしてクランプするワークセンタリング・クランプ装置であって、
前記クランプ手段は、クランパとリンクとウェイトとスプリング及びクランプ解除手段とを有し、
前記クランパは前記回転テーブルに搭載したワークの外周端を保持するものであり、前記リンクの一方の端部に固定され、
前記リンクは他方の端部にウェイトが固定され、中間部がリンクピンにより前記回転テーブル上のワークが配置される領域の外周近傍に回動自在に取付けられ、
前記スプリングは前記リンクのウェイトを固定したアームと前記回転テーブルの外周端部の間に設けられ、前記ウェイトを固定したアームに対して前記回転テーブルの外周側から内側に向かう弾性力を付与し、
前記回転テーブルを回転したとき、前記ウェイトに作用する遠心力によって前記リンクを前記回転テーブルと平行に回動して前記クランパにより前記ワークの外周端に半径方向の力を与えて芯出しして保持し、
前記クランプ解除手段は前記クランパに対してワークから離れる方向の力を一時的に加えることを特徴とするワークセンタリング・クランプ装置。 - 前記回転テーブルの外周から回転の中心に向けて延びて各前記ウェイトを案内する中空のガイドを備え、
各前記ウェイトは各前記ガイドに案内されて重心を前記回転テーブルの回転軸に直交する直線の一部に沿って移動させる請求項1に記載のワークセンタリング・クランプ装置。 - 各前記クランパは、ワークとの接触部分にテーパを有する請求項1又は請求項2に記載のワークセンタリング・クランプ装置。
- ワークの外周を押さえる力を加えてワークを前記回転テーブルに均一に押し付けるワーク押圧部材を備える請求項1から請求項3のいずれかに記載のワークセンタリング・クランプ装置。
- 前記ワーク押圧部材は弾性体を介してワークと接触する請求項4に記載のワークセンタリング・クランプ装置。
- 回転テーブルとスピンドルモータとを備え、
前記回転テーブルは請求項1から請求項5のいずれかに記載のワークセンタリング・クランプ装置を搭載し、
前記スピンドルモータは前記回転テーブルを回転させることを特徴とする回転駆動装置。 - 前記回転テーブルの回転時のふれを検出する回転ふれ検出手段を備える請求項6に記載の回転駆動装置。
- 請求項7に記載の回転駆動装置と移動ステージと電子ビーム照射手段と真空チャンバとを備え、
前記移動ステージは前記回転駆動装置を搭載して一軸方向に移動し、
前記電子ビーム照射手段は電子ビームをワーク上に照射し、
前記真空チャンバは前記回転駆動装置と前記移動ステージと前記電子ビーム照射手段とを覆い、その内部を真空環境にすることを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004139968A JP4362414B2 (ja) | 2003-12-18 | 2004-05-10 | ワークセンタリング・クランプ装置、回転駆動装置及び電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003420275 | 2003-12-18 | ||
JP2004139968A JP4362414B2 (ja) | 2003-12-18 | 2004-05-10 | ワークセンタリング・クランプ装置、回転駆動装置及び電子ビーム露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005203726A JP2005203726A (ja) | 2005-07-28 |
JP4362414B2 true JP4362414B2 (ja) | 2009-11-11 |
Family
ID=34829251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004139968A Expired - Fee Related JP4362414B2 (ja) | 2003-12-18 | 2004-05-10 | ワークセンタリング・クランプ装置、回転駆動装置及び電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4362414B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4814731B2 (ja) | 2006-08-30 | 2011-11-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板保持装置、検査または処理の装置、基板保持方法、検査または処理の方法および検査装置 |
JP5085394B2 (ja) * | 2007-08-02 | 2012-11-28 | 株式会社リコー | 回転機構及び電子線描画装置 |
WO2009028065A1 (ja) | 2007-08-30 | 2009-03-05 | Fujitsu Microelectronics Limited | イオン注入装置、基板クランプ機構、及びイオン注入方法 |
JP5006173B2 (ja) * | 2007-12-04 | 2012-08-22 | 平田機工株式会社 | アライナおよびそれを用いたエッジクランプ検出方法 |
US20120189421A1 (en) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Samsung Austin Semiconductor, L.P. | Parallel multi wafer axial spin clean processing using spin cassette inside movable process chamber |
JP6302665B2 (ja) * | 2013-12-24 | 2018-03-28 | 株式会社ディスコ | スピンナー装置 |
CN108788714A (zh) * | 2017-04-26 | 2018-11-13 | 东莞市亿金金属制品有限公司 | 一种脚杯自动组装设备 |
JP7132739B2 (ja) * | 2018-04-06 | 2022-09-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
CN109029316B (zh) * | 2018-06-11 | 2024-03-26 | 杭州集智机电股份有限公司 | 用于盘状转子综合检测的自动定心夹具装置及方法 |
KR102217780B1 (ko) * | 2018-06-12 | 2021-02-19 | 피에스케이홀딩스 (주) | 정렬 장치 |
KR20210128064A (ko) * | 2020-04-16 | 2021-10-26 | 주식회사 제우스 | 기판 처리용 통전장치 |
CN112706105B (zh) * | 2020-12-10 | 2023-07-14 | 广州正准精密机械有限公司 | 一种机械加工用带有辅助机构的装配台 |
CN112792595A (zh) * | 2021-01-09 | 2021-05-14 | 段元荣 | 一种用于精雕机的定位治具 |
KR102438947B1 (ko) * | 2021-04-12 | 2022-09-01 | 에이엠티 주식회사 | Ssd메모리기판의 얼라인지그 및 이를 이용한 커팅방법 |
CN114277332A (zh) * | 2021-11-11 | 2022-04-05 | 宁波大东南万象科技有限公司 | 一种用于bopp电工膜的镀膜工序 |
CN114886274B (zh) * | 2022-05-27 | 2023-02-24 | 长春光华学院 | 一种艺术设计产品展示装置 |
CN114951730B (zh) * | 2022-06-15 | 2023-03-24 | 广东鑫光智能系统有限公司 | 一种偏心零件自动配重夹具、油泵泵体自动化生产线及加工工艺 |
CN115740640A (zh) * | 2023-01-02 | 2023-03-07 | 江西万泰铝业有限公司 | 一种铝棒料夹持机构 |
CN115999856B (zh) * | 2023-01-28 | 2023-09-22 | 深圳市丰源升科技有限公司 | 一种钙钛矿涂膜组件及自动涂膜机 |
-
2004
- 2004-05-10 JP JP2004139968A patent/JP4362414B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005203726A (ja) | 2005-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4362414B2 (ja) | ワークセンタリング・クランプ装置、回転駆動装置及び電子ビーム露光装置 | |
TWI751209B (zh) | 用於夾持彎曲晶圓之方法及系統 | |
TWI820161B (zh) | 接合裝置及接合方法 | |
JP5319154B2 (ja) | ステージ装置 | |
JP4875905B2 (ja) | 試料保持装置および荷電粒子線装置 | |
TW201535577A (zh) | 用於扁平物件之固持及翻轉裝置 | |
JP2008300756A (ja) | ウェーハ保持機、および荷電粒子線装置 | |
US7032287B1 (en) | Edge grip chuck | |
JP4062956B2 (ja) | 検出装置、検出方法および電子ビーム照射装置 | |
US7679071B2 (en) | Electron beam drawing apparatus | |
JP2006286131A (ja) | ワーク回転駆動装置及び光ディスク原盤露光装置 | |
US6965428B2 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and semiconductor device manufacturing method | |
JP4647288B2 (ja) | 回転駆動装置及び電子線描画装置 | |
JP5085394B2 (ja) | 回転機構及び電子線描画装置 | |
JP2002342988A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
US11545383B2 (en) | Substrate positioning apparatus, substrate positioning method, and bonding apparatus | |
JP4485934B2 (ja) | フォーカスマーク作成方法及びその装置並びに電子ビーム照射型光ディスク原盤露光装置 | |
JP2006309821A (ja) | 電子ビーム調整方法及び該方法を用いた光ディスク原盤描画装置 | |
JP4886984B2 (ja) | 電子線描画装置 | |
WO2023112243A1 (ja) | 表面検査装置 | |
JP2004213707A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
TWI834093B (zh) | 用於sem度量衡工具之雙聚焦解決方案 | |
JP2002342989A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
JP4379020B2 (ja) | 電子ビームフォーカス制御装置、電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御装置、電子ビームフォーカス制御方法及び電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御方法 | |
JP2004213708A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060724 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090722 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090811 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090817 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130821 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |