JP4340719B2 - 浸漬露光前の基板のプレウェッティング - Google Patents
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Description
放射ビームPB(例えばUV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明系(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するように構築された支持構造(例えばマスク・テーブル)MTであって、パターン形成装置をある種のパラメータに従って正確に配置するように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造MTと、
基板(例えばレジストでコーティングされたウェーハ)Wを保持するように構築された基板テーブル(例えばウェーハ・テーブル)WTであって、基板をある種のパラメータに従って正確に配置するように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、
パターン形成装置MAによって放射ビームPBに付与されたパターンを、基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)標的部分Cの表面に投影するように構成された投影系(例えば屈折投影レンズ系)PLと
を備えている。
BD ビーム送達系
IL 照明系(照明器)
AM 可調整構成要素
IN インテグレータ
CO コンデンサ
PB 投影ビーム
MA パターン形成装置(マスク又はレクチル)
M1 マスク位置調整用マーク
M2 マスク位置調整用マーク
IF 位置センサ
MT 支持構造(マスク・テーブル)
PM 第1の位置決め装置
PL 投影系(レンズ)
W 基板(ウェーハ)
P1 基板位置調整用マーク
P2 基板位置調整用マーク
IH 浸漬フード
WT 基板テーブル(ウェーハ・テーブル)
PW 第2の位置決め装置
C 標的部分
IN 入口
OUT 出口
RES レジスト
LIQ 浸液
PLIQ プレウェッティング液
10 リザーバ
12 シール部材
14 第1の出口
15 入口
16 ガス・シール
20 レジスト層の表面
22 浸液とレジスト層の界面
24 気泡
30 測定ステーション
32 露光ステーション
34 測定センサ
36A 給液構造
36B 給液構造
37 入口
38 液源
39 出口
40 ポンプ
41 入口
42 液源
43 出口
44 ポンプ
Claims (5)
- リソグラフィ投影装置であって、
所望のパターンに従って放射ビームにパターンを形成するように構成されたパターン形成装置を保持するように構成された支持構造と、
放射感受性材料の層で少なくとも部分的に覆われた表面を有する基板を保持するように構成された第1の基板テーブルと、
前記表面を有する更に別の基板を保持するように構成された第2の基板テーブルと、
基板の標的部分に前記放射ビームを向け露光ステーションを有する投影系と、
基板を測定する測定ステーションと、を備え、
前記第1の基板テーブルは、前記第2の基板テーブルが前記測定ステーションにある間に前記露光ステーションにあるように構成及び配置され、各々の基板テーブルは、前記露光ステーション及び測定ステーションを交互に使用し、
前記放射感受性材料の層の上にプレウェッティング液を供給して露光される基板を予め濡らすように構成され、予め濡らされた基板と前記投影系の少なくとも一部との間の空間に浸液を供給するように構成された給液系を備え、
前記給液系は、前記装置内の第1の位置で前記プレウェッティング液を供給するように構成された第1の給液構造と、前記第1の位置から変位した前記装置内の第2の位置で前記浸液を供給するように構成された第2の給液構造とを備えたリソグラフィ投影装置。 - 前記第1の位置が前記装置内の測定ステーションの位置である、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の位置がプリアラインメントステーションの位置である請求項1に記載の装置。
- 前記第1の位置が基板ハンドリング室である請求項1に記載の装置。
- 前記第2の位置が前記装置内の露光ステーションの位置である、請求項1乃至4に記載の装置。
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