JP4304235B2 - 酸化チタン薄膜の製造方法および光分解触媒 - Google Patents
酸化チタン薄膜の製造方法および光分解触媒 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4304235B2 JP4304235B2 JP50782798A JP50782798A JP4304235B2 JP 4304235 B2 JP4304235 B2 JP 4304235B2 JP 50782798 A JP50782798 A JP 50782798A JP 50782798 A JP50782798 A JP 50782798A JP 4304235 B2 JP4304235 B2 JP 4304235B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium oxide
- thin film
- tif
- aqueous solution
- fluoride ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 104
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 86
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 title claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 9
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 title claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 46
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 35
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 31
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 21
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 claims description 20
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 17
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 claims description 14
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 claims description 14
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 8
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 claims description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims description 3
- VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N oxoborinic acid Chemical compound OB=O VGTPKLINSHNZRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 240000008415 Lactuca sativa Species 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 235000012045 salad Nutrition 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Natural products CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003708 H2TiF6 Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020491 K2TiF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZOAJBFFBLATMV-UHFFFAOYSA-M [Ti]F Chemical compound [Ti]F DZOAJBFFBLATMV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 1
- 238000012966 insertion method Methods 0.000 description 1
- 238000006713 insertion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O.CC(C)O RLJWTAURUFQFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- BFXAWOHHDUIALU-UHFFFAOYSA-M sodium;hydron;difluoride Chemical compound F.[F-].[Na+] BFXAWOHHDUIALU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N tetraisopropyl titanate Substances CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/08—Halides
- B01J27/12—Fluorides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J35/39—Photocatalytic properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/02—Halides of titanium
- C01G23/028—Titanium fluoride
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
本発明は、基材表面に酸化チタン薄膜を形成させる方法に関し、さらに詳細には、液相析出法によって、酸化チタン薄膜を形成させる方法に関する。さらに、本発明は、このようにして製造された酸化チタン薄膜からなる光分解触媒に関する。
背景技術
酸化チタンは、光照射によって120kcal/mol相当の大きなエネルギーを有するOHラジカルを生じる。このエネルギーは、有機化合物のC−C結合、C−H結合、C−N結合、C−O結合、O−H結合およびN−H結合のそれぞれの結合エネルギーよりも大きく、これらの結合を容易に分解できる。この作用により、有機物を容易に分解できるので、酸化チタンを光分解反応の触媒として用いて、各種の有機物の分解反応、たとえば水中に溶解、または空気中に浮遊している有害物質や悪臭物質の分解、殺菌などに用いることができ、環境浄化、防疫などへの応用が実用化されてきている。
このような触媒としての利用は、酸化チタン薄膜を、ガラス、タイルなどのセラミックスや無機繊維のような基材の表面に形成することにより、効果的になされる。一方、ガラスのような光透過性物質の表面に形成された酸化チタン薄膜は、その屈折率が高く、化学的に安定であることを利用して、光学レンズのコーティングのような光学的用途や、熱線反射ガラスに用いられるほか、低コストの太陽光発電を可能にする太陽電池としても期待されている。
基材表面に酸化チタン薄膜を形成させる方法としては、CVD、イオンプレーティング、スパッタリングなどの方法がある。しかし、これらの方法では、特殊で高価な装置が必要であるほか、大面積の基材における薄膜や、複雑な形状の基材の表面における均質な薄膜の形成は困難である。
さらに、チタン酸テトラエチル、チタン酸テトラ−n−プロピル、チタン酸テトライソプロピル、チタン酸テトラ−n−ブチルのようなチタンアルコキシド;またはチタンアセチルアセトナートのようなチタンキレート化合物を有機溶媒に溶解させた溶液を基材表面に吹きつけ、または基材を該溶液に浸漬して溶媒を除去した後、高温で酸化させて酸化チタン薄膜を形成させる方法、基材を四塩化チタンの蒸気に暴露する方法もあるが、いずれも方法が煩雑で、加水分解性物質の取扱いを必要とし、また大面積の基材や複雑な形状を有する基材に、均一に薄膜を形成させることは困難である。
基材表面に酸化チタン薄膜を形成させる他の方法として、酸化チタンの微粉末を、バインダーおよび分散剤と混練して得られた混和物を基材表面に塗布し、乾燥させる方法もある。しかし、このような方法では、十分に薄くて均質で、かつ強度のある薄膜を形成させることは困難である。そのうえ、酸化チタンの有する光分解触媒能によって、有機物であるバインダーが分解して、基材への付着性が永続しない。
フルオロチタン酸を含む水溶液に、ホウ酸のようなフッ化物イオン捕捉剤を存在させて基材を浸漬し、基材表面に酸化チタン被覆層を形成させる方法が、特開昭51−141441号公報および特開平1−93443号公報に開示されている。前者は、該水溶液に酸化亜鉛を飽和させており、被覆層にZn原子が取り込まれて、屈折率にムラを生ずるという問題がある。また、フルオロチタン酸濃度が、前者では0.3〜1.0mol/Lであり、後者では0.1〜3mol/Lとされ、その実施例では、0.5〜3.4mol/Lのフルオロチタン酸溶液が用いられている。このような高濃度のフルオロチタン酸を用いた場合、フッ化イオン捕捉剤の添加とともに多量の酸化チタンが溶液中に析出して溶液が白濁し、基材表面に薄膜を物質収支よく形成できない。そればかりか、形成された薄膜が不均質で、表面状態が悪く、光の透過性やその均質性が求められる光学的用途、および光反応触媒や太陽電池のような用途には適さない。
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を克服して、簡単な装置により、均一性の優れた酸化チタン薄膜を基材表面に形成させる方法を提供することである。本発明のもうひとつの目的は、そのような方法によって基材表面に形成された酸化チタン薄膜からなる光分解反応触媒を提供することである。
発明の開示
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意研究を行った結果、酸化チタン薄膜を析出させるのに用いるフルオロチタン錯化合物の水溶液中における濃度を10-9〜9×10-2mol/Lという希薄領域に限定することにより、その目的を達成しうることを見出して、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の酸化チタン薄膜の製造方法は、1種または2種以上のフルオロチタン錯化合物10-9〜9×10-2mol/Lを含む水溶液中に、フッ化物イオン捕捉剤の存在下に基材を浸漬して、基材表面に酸化チタン薄膜を形成させることを特徴とする。また、本発明の触媒は、上記の製造方法によって基材表面に形成された酸化チタン薄膜からなり、有機化合物や窒素酸化物、たとえば微量の有機化合物の光分解反応に用いられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例4で得られた酸化チタン膜のX線回折図である。
第2図は、実施例13で得られた熱処理ソーダライムガラス表面に形成した酸化チタン膜のオイルに対する光触媒反応を示す図である。
発明を実施するための最良の形態
本発明において、酸化チタン薄膜の形成に用いられるフルオロチタン錯化合物は、一般式(I):
AaTibFc (I)
式中、Aはたがいに同一でも異なっていてもよい水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または配位水を表し;a、bおよびcは、該錯化合物を電気的に中性にする数である、
で示される水に溶解する酸または塩が用いられる。Aとしては、水素原子のほか;リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウムのようなアルカリ金属原子;ならびにアンモニウム基および配位水が挙げられる。式中、aは通常2であり、bが1のとき、cは通常6である。すなわち、該錯化合物は、代表的にはA2TiF6で表されるが、複数のTi原子を有する多核錯化合物も得られる。このような一般式(I)で示されるフルオロチタン錯化合物としては、H2TiF6、(NH4)、TiF6、Na2TiF6、K2TiF6、Rb2TiF6、Cs2TiF6などが例示される。
本発明に用いられるフルオロチタン錯化合物は、どのような方法で製造されたものでもよい。たとえば、酸化チタンと粉末をフッ化水素酸で処理して、フルオロチタン酸としてもよい。酸化チタンとしては、ルチル型、アナタース型、ブルッカイト型、アモルファスのいずれを用いてもよい。
また、チタンの水酸化物またはオキシ水酸化物を、二フッ化水素アンモニウム、または二フッ化水素ナトリウムのような二フッ化水素アルカリ金属の水溶液に溶解させて、フルオロチタン錯化合物を合成して、本発明の製造方法に用いてもよい。
フルオロチタン錯化合物は、10-9〜9×10-2mol/L、好ましくは10-6〜6×10-2mol/L、さらに好ましくは10-2〜4×10-2mol/Lの濃度の水溶液に調製して用いられる。たとえば、酸化チタンを濃度0.001〜0.6mol/Lのフッ化水素酸水溶液400mlに対し0.001〜20g程度混合させて、10-9〜9×10-2mol/Lのフルオロチタン錯イオンを含む水溶液が得られる。10-9mol/L未満では基材表面に薄膜を形成できず、9×10-2mol/Lを越える水溶液を用いると、フッ化物イオン捕捉剤またはその溶液の添加とともに白濁を生じ、均質な酸化チタン薄膜を基材表面に形成できない。ここに、水溶液とは、前述のような酸化チタンから前述の錯化合物を合成するために用いた過剰のフッ化水素を含む水溶液であってもよい。また、調製されたフルオロチタン錯化合物の水溶液(以下、上記の定義による)に、さらに酸化チタンの過剰量を添加して、上記の錯化合物の飽和溶液にした後に、溶解しない酸化チタンをろ別して除いた水溶液を用いてもよい。なお、本発明において、水溶液とは、水と可溶な有機溶媒を含有するものも含み、水が主成分である限り、たとえば、メタノール、エタノール等のアルコール類;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類;アセトン等のケトン類;その他水に可溶な有機溶媒が存在することを妨げない。
さらに、このようなフルオロチタン錯化合物の水溶液に、酸化チタン薄膜製造のための種結晶を添加しても差支えない。用いる種結晶は、目的とする酸化チタンの結晶がよい。種結晶は平均粒径が0.001〜10μmほどの微少なものでよく、その添加量は任意であるが微量でよい。種結晶の添加によって、結晶質酸化チタン薄膜の析出速度を上げることができる。
本発明で用いられるフッ化物オン捕捉剤には、液相内に溶解させて用いる均一系と、固形物である不均一系とがある。目的に応じて、これら両者の一方を用いても、併用しても差し支えない。
均一系フッ化物イオン捕捉剤は、フッ化物イオンと反応して安定なフルオロ錯化合物および/または安定なフッ化物を形成することにより、基材表面に酸化チタン薄膜を析出させるように加水分解反応の平衡を移動させるもので、オルトホウ酸、メタホウ酸、酸化ホウ素などのホウ素化合物のほか;塩化アルミニウム、水酸化ナトリウム、アンモニア水などが例示される。たとえば、オルトホウ酸を用いてHaTibFc(式中、a〜cは前述のとおり)からTiO2を析出させる際には、たとえばH2TiF6を例にとると、式(III)で示される反応が、F-を消費する方向に移動するので、式(II)で示される平衡が、F-を生成する方向に移動し、その結果、TiO2からなる薄膜が析出する。このような捕捉剤は、通常、水溶液の形で用いられるが、粉末の形で添加して、系中に溶解させてもよい。該捕捉剤の添加は、1回に、または数回に分けて間欠的に行ってもよく、制御された供給速度、たとえば一定の速度で連続的に行ってもよい。
BO3 3-+4F-+6H+→BF4 -+3H2O (III)
不均一系フッ化物イオン捕捉剤としては、アルミニウム、チタン、鉄、ニッケル、マグネシウム、銅、亜鉛、ゲルマニウムなどの金属;ガラスなどのセラミックス;ケイ素;オルトホウ酸、メタホウ酸、酸化ホウ素などのホウ素化合物;および酸化カルシウム、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化マグネシウムなどの化合物が例示される。このような固形物を水溶液に添加または挿入すると、固形物近傍のF-が消費されて、その濃度が減少するので、その部分の化学平衡がシフトして、酸化チタンが析出する。このような固形物を用いると、その挿入方法と反応条件により、水溶液に浸漬した基材表面の全体に酸化チタン薄膜を析出させることも、その析出を選択された局部、すなわち該固形物の存在する近傍に限定することも可能である。本発明の主目的は均一な酸化チタン薄膜を得ることであるが、目的に応じて、場合によっては、均一系と不均一系のフッ化物イオン捕捉剤を併用することにより、基材表面の析出物薄膜を部分的に厚くすることもできる。
均一系フッ化物イオン捕捉剤は、析出物の種類や形状によっても異なるが、溶液中のフッ化物イオンの当量に相当する量に対して、通常、10-4〜3,000%であり、好ましくは10-1〜1,000%の範囲で用いられる。不均一系フッ化物イオン捕捉剤は、特に限定されず、本発明の目的および効果が達成されるような量で使用されることが好ましい。
基材としては、形成される酸化チタン薄膜を担持するため、あるいは形成された該薄膜によって特定の目的のためにコーティングされ、酸化などから保護されるための、広範囲の物質を用いることができる。このような物質としては、金属、セラミックス、有機高分子材料などが例示される。
特に、酸化チタン薄膜を光分解反応のための触媒、または太陽電池の太陽光エネルギー吸収層として用いる場合、あるいは光学的目的のためのコーティング層として用いる場合は、透明度の高い物質、たとえばガラス、ポリカーボネート、アクリル系樹脂などを基材として用いる。ガラスを基材として用いる場合、その種類は問わない。特に、ソーダライムガラスのようなアルカリ含有ガラスに対し、膜を形成する場合であっても、本発明の方法では比較的低温で膜を形成するため、膜中にアリカリ成分が溶出し、膜を劣化させる恐れが少ない。
基材をフルオロチタン錯化合物の水溶液に浸漬する時期は、フッ化物捕捉剤を添加ないし投入する前でも、同時でも、後でも差し支えない。ただし、系によって侵されるおそれのある基材を用いる場合は、溶液の組成、反応条件、および浸漬する時期に注意する必要がある。基材の形状は任意であり、板状に限定されず、複雑な形状のものも使用可能である。また、膜の均質性を向上させる目的で、たとえば、10rpm以下、好ましくは5rpm以下の回転速度で基材をゆっくりと回転させることができる。
反応温度は、膜の析出に影響するため、通常は、10〜80℃、好ましくは20〜50℃、さらに好ましくは35〜40℃の範囲で設定される。反応時間も任意であり、たとえば、目的とする析出物が多いときは、それに応じて長くなる。たとえば、0.2μm程度の膜厚を有する膜を析出するためには、反応時間は、1.5〜24時間程度とすることが好ましく、さらに好ましくは3〜10時間程度である。反応時間が上記時間より短いと、じゅうぶんに膜が析出されず、一方、上記時間より長いと膜が剥がれる恐れがあるからである。
このようにして、基材表面に均質で堅牢な酸化チタン薄膜を形成できる。このようにして形成された薄膜は、特に焼成のような加熱工程を経なくても、析出条件を適宜設定することにより、結晶化した酸化チタン薄膜として得られるが、目的に応じて加熱工程を設けてもよい。加熱工程は、たとえば、200〜600℃で0.5〜5時間程度行うことができる。このようにして基材表面に形成された酸化チタン薄膜は、たとえば0.1〜5.0μmの厚さと、6H〜7H以上のエンピツ硬度を有する。
産業上の利用可能性
本発明によって、簡単な装置を用いて、酸化チタン薄膜を、基材表面、特に大型または複雑な形状の基材表面に容易に形成できる。このようにして得られた薄膜を結晶化するための加熱工程を特に必要としないので、冷却の際の歪の発生がない。
本発明によって得られた酸化チタン薄膜は、堅牢で、耐食性があり、屈折率が高く、また光反応に対する触媒能がある。これらの諸性質を生かして、有機化合物や窒素酸化物の光分解反応触媒;太陽電池;光学レンズのコーティングのような光学的用途などに極めて有用である。光分解反応触媒として用いる場合、特に加熱処理を必要としないので、基材の材質の対象が広範囲で、家庭における浄化装置、工場における廃水処理などに、容易に現場施工できる。
実施例
以下、本発明を実施例によってさらに詳細に説明する。本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。
実施例1
純水500mlに、46%フッ化水素酸2mlおよびルチル型酸化チタン粉末7gを加え、温度35℃で24時間撹拌して溶解させ、反応させた。溶解しないで残った酸化チタン粉末を、孔径11μmのろ過によって除去した。得られたフルオロチタン酸溶液の濃度は10-3mol/Lであり、フィルターを通った微量の数μmの酸化チタンが種結晶として存在していた。これに温度35℃で、あらかじめアセトンで洗浄したガラス基板を浸漬し、オルトホウ酸を1時間間隔で5gずつ6回添加した。この反応液をさらに6時間静置したところ、液は透明を保ちながら、基板表面に、均質で干渉色のない薄膜が形成された。
薄膜を液より引上げ、水洗して乾燥した。薄膜は緻密、堅固で、スクラッチは認められなかった。これをエネルギー分散X線光分析(EDX)にかけたところ、基材表面にTiを含む結晶が存在していることが観察され、薄膜が酸化チタンであることが確認された。
実施例2
ルチル型酸化チタン粉末を5g用いたほかは実施例1と同様にして、濃度4×10-4mol/Lで微量の種結晶を含むフルオロチタン酸溶液を得た。これに、オルトホウ酸を1時間間隔で2gずつ5回添加し、12時間放置後、さらに同様に6回添加して、3日間静置したところ、基板表面に均質で堅固な薄膜が形成された。実施例1と同様にして、薄膜が酸化チタンであることを確認した。
実施例3
46%フッ化水素酸溶液の添加量を1mlとした以外は実施例1と同様にして、濃度10-4mol/Lで微量の種結晶を含むフルオロチタン酸溶液を得た。これに、オルトホウ酸を2時間間隔で5gずつ2回添加し、5日間静置したところ、基板表面に均質で堅固な薄膜が形成された。実施例1と同様にして、薄膜が酸化チタンであることを確認した。
実施例4
純水400mlに(NH4)2TiF60.933gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の1.179×10-2mol/L水溶液を得た。これを2個のポリスチレン容器に30mlずつとり、それぞれ、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板を基材として浸漬して、濃度0.5mol/Lのオルトホウ酸水溶液を、1.06ml(1当量)または2.12ml(2当量)添加して、6日間、30℃に保持した。
基材を取り出して蒸留水で洗浄し、風乾した後、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した。その結果、緻密な薄膜の形成が観察された。また、EDXにかけたところ、いずれもTiを含む結晶が析出していることが確認された。さらに、X線回折(XRD)の結果、アナタース型TiO2型粉末のXRDと一致するXRDピークが観察され、アナタース型TiO2結晶を含む薄膜が形成されたことが確認された。この結果を第1図▲1▼に示す。ただし、オルトホウ酸添加量が1当量である試料は、XRDパターンのピークが鋭くないので、アモルファスTiO2とアナタース型TiO2が混合した薄膜が形成されたものと考えられる。この結果を第1図▲2▼に示す。
実施例5
純水700mlに(NH4)2TiF61.75gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の1.263×10-2mol/L水溶液を得た。これにルチル型TiO2粉末17.5gを添加し、さらに24時間撹拌した。ついで、1μmのろ紙で粉末TiO2をろ別し、ろ紙を通過したTiO2微粒子を種結晶とした。これを4個のポリスチレン容器に30mlずつとり、それぞれ、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板を基材として浸漬して、濃度0.5mol/Lのオルトホウ酸水溶液を、2個ずつの溶液に1.14ml(1当量)または2.28ml(2当量)添加して、3日間または6日間、30℃に保持した。
得られた基材について、実施例4と同様にしてSEM、EDXおよびXRDで分析した結果、浸漬期間が長いほど、またオルトホウ酸添加量が多いほど析出量が増し、2当量のオルトホウ酸を加えて6日間浸漬した基材の表面には、緻密なTiO2薄膜が形成されていることが確認された。6日間浸漬した基材には、実施例4と同様な傾向でTiO2結晶の形成が認められたが、種結晶がルチル型であるにもかかわらず、得られた薄膜の結晶はアナタース型であった。
実施例6
種結晶をアナタース型TiO2とした以外は、実施例5と同様の実験を行った。その結果、実施例4および5と同様に、1当量または2当量のオルトホウ酸を加えて6日間浸漬した基材の表面には、ほぼ緻密な、または完全に緻密なTiO2薄膜が形成されていた。得られたTiO2薄膜は、いずれもアモルファスであった。
実施例7
純水400mlに(NH4)2TiF60.231gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の2.918×10-3mol/L水溶液を得た。これを3個のポリスチレン容器に30mlずつとり、それぞれ、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板を基材として浸漬して、濃度0.25mol/Lのオルトホウ酸水溶液を、0.42ml(0.8当量)、0.53ml(1当量)または1.05ml(2当量)添加して、6日間、30℃に保持した。
基材を取り出して蒸留水で洗浄し、風乾した後、SEMで観察した結果、緻密な薄膜の形成が観察された。また、XRDの結果、いずれもアナタース型TiO2型粉末のXRDと一致するXRDピークが観察され、アナタース型TiO2結晶を含む薄膜が形成されたことが確認された。ピーク強度は、オルトホウ酸添加量が多い方が大きかった。
実施例8
長さ350mm、内径1mmのガラス管の内面に、実施例1に準じた方法で、厚さ0.4μmのアナタース型TiO2結晶の薄膜を形成させた。これを12,000本束ねて、その両端に、上記のガラス管束の形状と大きさに合わせた環状の蛍光管を設置して、光触媒反応リアクターとした。リアクターの両端の蛍光管により、リアクターを構成するガラス管の内部に光が導かれるようにした。
このリアクターに光を当てながら、その一端から、有機物で汚染され、BOD値180mg/Lを有する原水を2.5L/hの流速で流し、他端から流出した水中の有機物を分析し、また臭気および菌の存在を調査したところ、BOD値は1mg/L以下であり、分析結果、脱臭、減菌の結果も十分で、満足できるものであった。
実施例9
808
純水500mlに(NH4)2TiF61.0gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の1.01×10-2mol/L水溶液を得た。これにアナタース型TiO2粉末17.5gを添加し、撹拌した。ついで、1μmのろ紙で粉末TiO2をろ別し、ろ紙を通過したTiO2微粒子を種結晶とした。これをポリスチレン容器にとり、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板(無アルカリガラス)を基材として浸漬して、酸化ホウ素(B2O3)を10g添加して、34℃で5時間保持した。
得られた基材について、実施例4と同様にしてSEM、EDXおよびXRDで分析した結果、透明なアナタース型TiO2薄膜が形成されていることが確認された。
実施例10
純水350mlに(NH4)2TiF61.5gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の2.17×10-2mol/L水溶液を得た。これにアナタース型TiO2粉末17.5gを添加し、撹拌した。ついで、1μmのろ紙で粉末TiO2をろ別し、ろ紙を通過したTiO2微粒子を種結晶とした。これをポリスチレン容器にとり、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板(無アルカリガラス)を基材として浸漬して、酸化ホウ素(B2O3)を30分間隔で5gずつ4回添加して、35℃で5時間保持した。
得られた基材について、実施例4と同様にしてSEM、EDXおよびXRDで分析した結果、透明なアナタース型TiO2薄膜が形成されていることが確認された。
実施例11
純水350mlに(NH4)2TiF62.0gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の2.89×10-2mol/L水溶液を得た。またアナタース型TiO2粉末17.5gを純水400mlに添加し、撹拌した。それを2日間放置後、その上澄み液2mlを上記水溶液中に添加し、種結晶とした。これをポリスチレン容器にとり、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板(無アルカリガラス)を基材として浸漬して、酸化ホウ素(B2O3)を10g添加して、35℃で5時間保持した。
得られた基材について、実施例4と同様にしてSEM、EDXおよびXRDで分析した結果、透明なアナタース型TiO2薄膜が形成されていることが確認された。
実施例12
純水350mlに(NH4)2TiF62.5gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の3.61×10-2mol/L水溶液を得た。これにアナタース型TiO2粉末17.5gを添加し、撹拌した。ついで、1μmのろ紙で粉末TiO2をろ別し、ろ紙を通過したTiO2微粒子を種結晶とした。これをポリスチレン容器にとり、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板(ソーダライムガラス)を基材として浸漬して、酸化ホウ素(B2O3)を10g添加して、40℃で7時間保持した。
得られた基材について、実施例4と同様にしてSEM、EDXおよびXRDで分析した結果、透明なアナタース型TiO2薄膜が形成されていることが確認された。
比較例1
純水350mlに(NH4)2TiF66.3gを加え、30℃で24時間撹拌して溶解させ、(NH4)2TiF6の9.10×10-2mol/L水溶液を得た。これにアナタース型TiO2粉末17.5gを添加し、撹拌した。ついで、1μmのろ紙で粉末TiO2をろ別し、ろ紙を通過したTiO2微粒子を種結晶とした。これをポリスチレン容器にとり、あらかじめエタノール中で超音波洗浄したガラス板(無アルカリガラス)を基材として浸漬して、酸化ホウ素(B2O3)を10g添加して、35℃で5時間保持した。
得られた基材について、実施例4と同様にしてSEM、EDXおよびXRDで分析した結果、白濁したアナタース型TiO2薄膜が形成されていることが確認された。
実施例13
上記実施例11に記載したと同様の方法により、50×70×1mmのソーダライムガラスの両面に酸化チタン膜を形成した。それぞれの膜厚は約0.25μmであった。
この酸化チタン膜の表面に、0.03mg/cm2の割合でサラダオイルを1mg塗布し、10Wのブラックライトで紫外線を照射したところ、第2図に示すような結果が得られた。
第2図に示したように、サラダオイルは顕著な重量減少を示し、本発明の酸化チタン膜がその光触媒反応によりサラダオイルを分解することが確認された。
Claims (16)
- 一般式(I):
A a Ti b F c (I)
(式中、Aは互いに同一でも異なっていてもよい水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または配位水を表し;a、bおよびcは、フルオロチタン錯化合物を電気的に中性にする数である)で示される少なくとも一つのフルオロチタン錯化合物10 -9 〜9×10 -2 mol/Lを含む水溶液に、酸化チタン薄膜製造のための種結晶をあらかじめ存在させ、
種結晶が存在する水溶液に基材を浸漬し、次いで、基材を浸漬した水溶液にフッ化物イオン捕捉剤を添加するか、または
種結晶が存在する水溶液にフッ化物イオン捕捉剤を添加し、次いで、フッ化物イオン捕捉剤を添加した水溶液に基材を浸漬し、
それにより、加熱工程を経ることなく基材表面に結晶質酸化チタンを含有する酸化チタン薄膜を形成する
ことを特徴とする、酸化チタン薄膜の製造方法。 - フルオロチタン錯化合物の一部または全部が、酸化チタンをフッ化水素酸と反応させて得られたものである、請求の範囲第1項記載の製造方法。
- Aが、水素原子;リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム;アンモニウム基および配位水からなる群より選択されたものである、請求の範囲第1項または第2項記載の製造方法。
- 一般式(I)で示される化合物が
A2TiF6
(式中、Aは前記と同義である)
で表される化合物である、請求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項記載の製造方法。 - 一般式(I)で示される化合物が、H2TiF6、(NH4)2TiF6、Na2TiF6、K2TiF6、Rb2TiF6およびCs2TiF6からなる群より選択された少なくとも1種である、請求の範囲第1項〜第4項のいずれか1項記載の製造方法。
- フルオロチタン錯化合物が、10-6〜6×10-2mol/Lの量で含有される、請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項記載の製造方法。
- フルオロチタン錯化合物が、10-2〜4×10-2mol/Lの量で含有される、請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項記載の製造方法。
- フッ化物イオン捕捉剤が、均一系フッ化物イオン捕捉剤または不均一系フッ化物イオン捕捉剤である、請求の範囲第1項〜第7項のいずれか1項記載の製造方法。
- 均一系フッ化物イオン捕捉剤が、ホウ素化合物、塩化アルミニウム、水酸化ナトリウムおよびアンモニア水からなる群より選択されたものである、請求の範囲第8項記載の製造方法。
- ホウ素化合物が、オルトホウ酸、メタホウ酸および酸化ホウ素から成る群より選択された少なくとも1種である、請求の範囲第9項記載の製造方法。
- 均一系フッ化物イオン捕捉剤が、溶液中のフッ化物イオンの当量に相当する量に対し、10-4〜3,000%の量で添加される、請求の範囲第9項記載の製造方法。
- 薄膜製造のための種結晶が、酸化チタンの種結晶である、請求の範囲第1項〜第11項のいずれか1項記載の製造方法。
- 種結晶が、アナタース型またはルチル型酸化チタンの結晶である、請求の範囲第12項記載の製造方法。
- 酸化チタンから成る種結晶が0.001〜10μmの平均粒径を有する、請求の範囲第13項記載の製造方法。
- 請求の範囲第1項〜第14項のいずれか1項記載の製造方法によって形成された、基材とその表面の酸化チタン薄膜からなる光分解触媒。
- 酸化チタン薄膜がアナタース型酸化チタンを含有する、請求の範囲第15項に記載の光分解触媒。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24377096 | 1996-09-13 | ||
PCT/JP1997/003155 WO1998011020A1 (fr) | 1996-09-13 | 1997-09-08 | Procede pour preparer un mince film d'oxyde de titane et catalyseur de photodecomposition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4304235B2 true JP4304235B2 (ja) | 2009-07-29 |
Family
ID=17108724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50782798A Expired - Fee Related JP4304235B2 (ja) | 1996-09-13 | 1997-09-08 | 酸化チタン薄膜の製造方法および光分解触媒 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6066359A (ja) |
EP (1) | EP0861805B1 (ja) |
JP (1) | JP4304235B2 (ja) |
KR (1) | KR19990067518A (ja) |
DE (1) | DE69728516T2 (ja) |
WO (1) | WO1998011020A1 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0924164A3 (en) * | 1997-12-18 | 2000-01-05 | Hoya Corporation | Methods for producing oxides or composites thereof |
TW389942B (en) * | 1998-09-28 | 2000-05-11 | Winbond Electronics Corp | Formation of a titanium dioxide film |
US6251803B1 (en) * | 1998-09-28 | 2001-06-26 | Winbond Electronics Corp. | Method for forming a titanium dioxide layer |
US6482751B2 (en) * | 1999-04-01 | 2002-11-19 | Winbond Electronics Corp. | Titanium dioxide layer serving as a mask and its removed method |
JP3122432B1 (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-09 | モリオキ産業株式会社 | 酸化チタン膜形成用溶液の生成方法 |
JP2001110801A (ja) | 1999-10-05 | 2001-04-20 | Takeshi Yao | パターン形成方法、並びに電子素子、光学素子及び回路基板 |
US20050224335A1 (en) * | 1999-11-22 | 2005-10-13 | Gary Carmignani | Apparatus and method for photocatalytic purification and disinfection of fluids |
US6524447B1 (en) | 1999-11-22 | 2003-02-25 | Titan Technologies | Apparatus and method for photocatalytic purification and disinfection of water and ultrapure water |
US6902653B2 (en) * | 1999-11-22 | 2005-06-07 | Titan Technologies | Apparatus and method for photocatalytic purification and disinfection of fluids |
TW490439B (en) * | 1999-12-10 | 2002-06-11 | Nat Science Council | Method for preparing a barium fluorotitante (BaTiF6) powder and depositing a barium titanate (BaTiO3) thin film on a silicon wafer |
US6683023B2 (en) * | 2000-04-21 | 2004-01-27 | Showa Denko K.K. | Photocatalytic powder and polymer composition |
JP4125560B2 (ja) * | 2001-08-16 | 2008-07-30 | 株式会社神戸製鋼所 | 耐水素吸収性に優れたチタン合金材 |
US20030231997A1 (en) * | 2002-06-18 | 2003-12-18 | Norman Kettenbauer | Titanium catalyst support substrate for selective catalytic reduction reactors |
US6902601B2 (en) * | 2002-09-12 | 2005-06-07 | Millennium Inorganic Chemicals, Inc. | Method of making elemental materials and alloys |
US7521039B2 (en) * | 2002-11-08 | 2009-04-21 | Millennium Inorganic Chemicals, Inc. | Photocatalytic rutile titanium dioxide |
MXPA05013497A (es) * | 2003-06-17 | 2006-03-09 | Ciba Sc Holding Ag | Proceso para la preparacion de material organico revestido de oxido metalico mediante deposito por microondas. |
JP4628011B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2011-02-09 | ダイセル化学工業株式会社 | 酸化チタン結晶、光触媒、及び有機化合物の酸化方法 |
KR20060007503A (ko) * | 2004-07-20 | 2006-01-26 | 삼성코닝 주식회사 | 가요성 기판 상의 고전도성 금속 패턴 형성 방법 및 이를이용한 전자파 차폐 필터 |
TWI304048B (en) * | 2005-10-21 | 2008-12-11 | Univ Nat Sun Yat Sen | A media having crystals of ammonium oxotrifluorotitanate, a method for preparing the same, and a method for preparing madias having crystals of titanium dioxide |
WO2009021292A1 (en) * | 2007-08-16 | 2009-02-19 | The University Of Queensland | Titanate photocatalyst |
GB0803194D0 (en) * | 2008-02-21 | 2008-04-02 | Microsphere Technology Ltd | Process for the manufacture of titania coated microspheres |
US20110189081A1 (en) * | 2008-03-25 | 2011-08-04 | Gao Qing Lu | Crystalline inorganic species having optimised reactivity |
US9347134B2 (en) | 2010-06-04 | 2016-05-24 | Prc-Desoto International, Inc. | Corrosion resistant metallate compositions |
JP5417618B2 (ja) * | 2010-06-14 | 2014-02-19 | 国立大学法人 大分大学 | 金属酸化物担持炭素材料の製造方法 |
CN102249296B (zh) * | 2011-05-07 | 2013-06-19 | 南昌航空大学 | 一种光催化分解水制氢材料及其制备方法 |
US9504986B2 (en) * | 2012-08-10 | 2016-11-29 | University Of South Florida | Metal-organic materials (MOMS) for polarizable gas adsorption and methods of using MOMS |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4359449A (en) * | 1980-12-15 | 1982-11-16 | Occidental Research Corporation | Process for making titanium oxide from titanium ore |
JPS59141441A (ja) * | 1983-02-01 | 1984-08-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 酸化チタン膜被覆ガラスを製造する方法 |
US4497779A (en) * | 1983-10-14 | 1985-02-05 | Amax Inc. | Production of potassium hexafluotitanates using dilute hydrofluoric acid |
JPH0735268B2 (ja) * | 1987-03-24 | 1995-04-19 | 日本板硝子株式会社 | 酸化チタン被膜の製造方法 |
DE68904311T2 (de) * | 1988-01-22 | 1993-07-15 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zur entfernung von unangenehmen geruechen. |
DE68919665T2 (de) * | 1988-12-28 | 1995-05-18 | Ishihara Sangyo Kaisha | Titandioxidaggregate, Verfahren zu ihrer Herstellung und elektrophotographisches, photosensibles Material, das diese Aggregate enthält. |
JPH0664353B2 (ja) * | 1989-02-02 | 1994-08-22 | 石原産業株式会社 | 電子写真用感光体 |
US5256616A (en) * | 1989-09-25 | 1993-10-26 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water |
JP2785433B2 (ja) * | 1990-03-30 | 1998-08-13 | 日本板硝子株式会社 | 酸化チタン被膜の製造方法 |
JP2716244B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1998-02-18 | 日本板硝子株式会社 | 酸化チタン被膜の製造方法 |
JP2870170B2 (ja) * | 1990-09-21 | 1999-03-10 | 日本板硝子株式会社 | 酸化チタン被膜の製造方法 |
KR100413850B1 (ko) * | 1995-03-15 | 2004-05-27 | 호야 가부시키가이샤 | 금속산화물석출물의제조방법 |
JPH08310802A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-11-26 | Takeshi Yao | ペロブスカイト型複合酸化物析出物の製造方法 |
JP2845195B2 (ja) * | 1996-01-12 | 1999-01-13 | 松下電工株式会社 | 光触媒活性酸化チタンの形成方法 |
US5811192A (en) * | 1996-01-12 | 1998-09-22 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Titanium dioxide film having photocatalytic activity and substrate having the same |
-
1997
- 1997-09-08 US US09/068,659 patent/US6066359A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-08 EP EP97939217A patent/EP0861805B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-08 DE DE69728516T patent/DE69728516T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-08 WO PCT/JP1997/003155 patent/WO1998011020A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1997-09-08 KR KR1019980703540A patent/KR19990067518A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-09-08 JP JP50782798A patent/JP4304235B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR19990067518A (ko) | 1999-08-25 |
WO1998011020A1 (fr) | 1998-03-19 |
EP0861805A4 (en) | 1999-11-24 |
EP0861805A1 (en) | 1998-09-02 |
EP0861805B1 (en) | 2004-04-07 |
US6066359A (en) | 2000-05-23 |
DE69728516D1 (de) | 2004-05-13 |
DE69728516T2 (de) | 2005-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4304235B2 (ja) | 酸化チタン薄膜の製造方法および光分解触媒 | |
CN1950308B (zh) | 高表面积的陶瓷涂层纤维 | |
KR100421243B1 (ko) | 수열합성 방법에 의해 결정성 및 분산성이 뛰어난아나타제형 광촉매용 산화티탄졸을 제조하는 방법 | |
US20060240288A1 (en) | Titania nanosheet alignment thin film, process for producing the same and article including titania nanosheet alignment thin film | |
JP6945623B2 (ja) | 鉄ドープ二酸化チタンナノ結晶および光触媒としてのその使用 | |
Ge et al. | Fabrication and characterization of nano TiO2 thin films at low temperature | |
Ge et al. | Low-temperature synthesis of photocatalytic TiO 2 thin film from aqueous anatase precursor sols | |
JP2002370034A (ja) | 無機金属化合物を用いた酸化物光触媒材料およびその応用品 | |
KR20020092067A (ko) | 금속이 첨가된 고활성 광촉매 산화티탄-졸 제조 방법 | |
Chaudhari et al. | Effect of annealing on the photocatalytic activity of chemically prepared TiO2 thin films under visible light | |
EP0895508A1 (en) | Process for producing tungsten oxide | |
JP3122658B1 (ja) | チタン酸化物形成用溶液およびその製造方法 | |
JP4203302B2 (ja) | 抗菌性コーティング液及びその製造方法並びにコーティング方法 | |
CN1613556A (zh) | Ag与TiO2多相纳晶复合薄膜光催化剂的原位制备方法 | |
CN102786087A (zh) | 一种二氧化钛溶胶的制备方法 | |
JP2004181296A (ja) | 光触媒及びその前駆体ゾル液並びに製造方法 | |
CN1205000A (zh) | 氧化钛薄膜的制造方法和光分解催化剂 | |
Messemeche et al. | Photocatalytic mechanisms reactions of gallium doped TiO2 thin films synthesized by sol gel (spin coating) in the degradation of methylene blue (MB) dye under sunlight irradiation | |
Nagai et al. | The Science of Molecular Precursor Method | |
ES2968854T3 (es) | Producción de nanopartículas dopadas | |
RU2675808C1 (ru) | Способ получения фотокаталитически активной пленки | |
JP2003002646A (ja) | 複合酸化チタン分散液 | |
JP2000102733A (ja) | 光分解触媒の使用方法及び水素製造方法 | |
US20050175852A1 (en) | Thin silica film and silica-titania composite film, and method for preparing them | |
JPH11147717A (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040813 |
|
A72 | Notification of change in name of applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A721 Effective date: 20040813 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20071226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130515 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |