KR100421243B1 - 수열합성 방법에 의해 결정성 및 분산성이 뛰어난아나타제형 광촉매용 산화티탄졸을 제조하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수열합성 방법을 이용한 아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조 방법에 관한 것으로 좀 더 상세하게는 티탄 원료물질, 물 및 무기산 등을 혼합한 다음, 고온 고압하에서 결정화하여 산성 산화티탄졸을 제조하는 방법과 티탄 원료물질, 물 및 1, 2, 3, 4차 아민을 혼합한 다음 역시 고온 고압하에서 아나타제로의 결정 성장을 유도하여 염기성 산화티탄졸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기 방법에 의하여 제조된 광촉매용 산화티탄 졸용액은 분산성이 양호하고 코팅성이 우수하며, 각종 유기물을 분해할 수 있는 광촉매 능력이 우수한 것으로 밝혀졌다.
본 발명은 졸겔법에 의한 기존의 가수분해 방법을 개량한 것으로서 결정 성장 및 안정한 분산성을 유지할 수 있도록 하는 새로운 광촉매 산화티탄졸을 제조하는 방법이다.

Description

수열합성 방법에 의해 결정성 및 분산성이 뛰어난 아나타제형 광촉매용 산화티탄졸을 제조하는 방법{THE FABRICATION METHOD OF HIGHLY CRYSTALLINE AND DISPERSIVE PHOTOCATALYST OF ANATASE-TYPE TITANIUM OXIDESOL BY WAY OF HYDROTHERMAL TREATMENT}
본 발명은 수열합성 방법을 이용하여 결정성이 뛰어난 아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조 방법에 관한 것으로 좀 더 상세하게는 티탄 원료물질, 물 및 무기산 등을 혼합한 다음, 고온 고압하에서 결정화하여 산성 산화티탄졸을 제조하는 방법과 티탄 원료물질, 물 및 1, 2, 3, 4차 아민을 혼합한 다음 역시 고온 고압하에서 아나타제로의 결정 성장을 유도하여 염기성 산화티탄졸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기 방법에 의하여 제조되는 광촉매용 산화티탄 졸용액은 분산성이 양호하고 코팅성이 우수하며 각종 유기물을 분해할 수 있는 광촉매 능력이 우수한 것으로 밝혀졌다.
본 발명은 기존의 졸겔법에 의한 가수분해 방법을 개량한 것으로서 결정 성장 및 안정한 분산성을 유지할 수 있도록 하는 새로운 광촉매 산화티탄졸을 제조하는 방법이다.
광촉매란 필요한 파장대의 빛을 흡수하여 화학적 반응이 일어나도록 도와주는 물질을 말하는데, 이러한 광촉매는 광 조사하에서 산소(O2)나 물(H2O) 등을 산화제로 하여, 유독성 유기물을 이산화탄소(CO2)와 물(H2O)로 완벽하게 산화시킨다. 일반적으로 광촉매로 사용되는 물질에는 TiO2, ZnO, ZrO2, CdS, MoS2등이 있으며 이들 광촉매는 포화탄화수소, 계면 활성제, 염료, 살충제, 제초제, 유기산 등의 물질 분해에 유효하다. 그 중에서도 결정구조가 아나타제(Anatase)형인 산화티탄(TiO2)은 광촉매로서 가장 폭넓게 사용되고 있는 반도체성 산화물로 알려져 있는데, 그 이유는 독성이 없고, 물에 용해되지 않으며, 빛에 의해 분해 반응이 일어나지 않고 비교적 값이 싼 장점 때문이다.
일반적으로 광촉매는 분말상으로 용액에 현탁시켜 사용하는 경우와 광촉매 산화티탄 졸용액을 기재 표면 또는 내부에 담지한 형태로 사용되는 경우가 있다. 광촉매 분말을 제조하는 대표적인 방법으로는 염화티탄이나 황산티탄 등의 무기티탄을 가수분해하여 염기로 중화한 다음, 수용성 금속염을 일정 중량비로 첨가하여 고온 소성하여 입도가 작고 비표면적이 큰 아나타제형 산화티탄을 얻어내는 방법을 예로 들 수 있다.
광촉매 활성의 측면에서 보면 비표면적이 큰 분말쪽이 우수하지만 이를 효과적으로 활용할 수 있는 방법은 그리 많지 않다. 예를 들면, 광촉매 분말을 이용하여 폐수 중 유기물을 분해하는 폐수처리 시스템의 경우, 유입 오염물질을 연속적으로 처리하고자 할 때 폐수내의 광촉매 분말 입자를 부상시키는데 동력이 다량 소요되며 입자의 분리 및 회수에 추가적인 후처리 공정이 요구된다. 또한 수 ㎛ 이하의 광촉매 입자를 이용할 경우 재래식 침전법에 의한 광촉매 분말 회수가 불가능하며 원심분리 방법은 비용이 상승하는 단점을 가지고 있다.
또한 모든 산업구조가 환경 친화성을 최우선으로 하는 시대적 요구에 부응하여, 광촉매의 용도는 항균, 산화질소 및 황산화물(NOx, SOx)의 분해, 난분해성 유기물질의 분해, 해상에 유출된 원유의 분해, 가정 및 축사, 사무실에 존재하는 악취의 탈취작용 등의 전부문으로 확대되고 있는 실정이고, 최근에는 산화티탄의 양친매성을 이용하여 김서림 방지 등의 부가적인 기능을 가지도록 고안되는 추세이다.
상기의 다양한 용도로서 광촉매를 효과적으로 이용하려면 아나타제형 산화티탄이 용매중에 고르게 분산되어 있는 액상형이 바람직하며, 더욱이 기재의 구조 및 모양에 따라서 침지코팅, 스핀코팅, 롤코팅, 분무코팅 등의 다양한 응용 방법을 감안한다면 향후의 광촉매 시장은 액상형의 성장이 클 것으로 예상되며 기존의 분말 제조업체도 액상형으로 전환하는 경향을 보이고 있다.
그러나 염화티탄이나 황산티탄 등의 무기티탄 화합물과 티타늄 알콕사이드 등의 유기티탄 화합물을 가수분해한 후, 무기산 등의 첨가제를 이용하여 산화티탄졸을 제조하는 종래의 졸겔법으로는 아나타제형으로의 결정 성장이 제한적이고,100℃ 이하의 온도에서 산화티탄졸을 제조 후, 기재 담지과정에서 500∼600℃로 고온 소성하여 성막 후에 결정을 성장시키는 방법은 고온으로 인하여 이용되는 기재가 극히 제한적일 수 밖에 없다.
또한 과산화수소(H2O2)를 이용하여 퍼옥소 폴리티탄산이나 점조성 무정형 과산화티탄을 제조하는 방법이 일본 특개평 제 7-286114호 공보와, 일본 특개소 제 62-252319호 공보에 기재되어 있다. 그러나 아나타제 결정 성장률이 극히 저조하여 기존의 산화티탄 분말과 비교하면 광촉매 능력이 크게 저하되는 것으로 나타나 있다.
본 발명의 발명자들은 상기의 문제점을 검토한 결과, 가장 효율적인 광촉매 용액으로서 아나타제 결정 함유율이 높고, 입도는 되도록 작으면서 좁은 입도 분포를 가지며, 또한 분산성이 양호하여 기재에 효과적으로 담지시킬 수 있도록 코팅성이 뛰어난 물질을 제조할 수 있었다.
즉 본 발명의 목적은 아나타제형 결정 구조의 함유율이 높은 광촉매용 산화티탄 졸용액을 제공하는데 있다.
또한 본 발명의 또 다른 목적은 상술한 광촉매용 산화티탄 졸용액이 안정하게 분산될 수 있는 방법을 제공하는 데에 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제조 방법은 유기티탄 화합물 또는 무기티탄 화합물 등의 티탄 원료물질, 용매와 가수분해용으로 이용되는 물과 알코올, 분산 및 입도 제어 목적으로의 무기산이나 1, 2, 3, 4차 아민을 첨가하여 수열합성기(Autoclave) 내에서 고온, 고압하에서 일정 시간 동안 반응시켜 광촉매 아나타제로의 결정 성장을 유도하는 것으로 이루어진다.
산화티탄졸의 결정성을 향상시키기 위하여 기존의 졸겔법과는 달리 수열 합성기를 이용하여 고온 고압하에서 반응을 진행시키고, 분산성을 향상시키기 위해서는 산화티탄졸의 등전점인 pH=4로부터 멀리 위치시키는 것이 유리하다. 본 발명에서는 분산제 및 결정 성장 보조제로서 질산, 염산 등의 무기산과 탄소수 4 이하의 저급 아민, 예를 들면 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸아민 등을 첨가하는 방법을 이용하였다.
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본 발명의 목적을 달성하기 위하여 발명자들은 다음과 같은 사항에 착안하여 발명을 완성하였다.
본 발명자들은 산화티탄의 분산성 및 결정 성장 정도가 가수분해시의 첨가제, 산화티탄졸의 pH, 반응 온도 및 반응 압력과 밀접한 관련이 있음을 알아내고, 각기의 조건을 변화시켜 본 발명의 목적에 부합되는 산성 산화티탄졸과 염기성 산화티탄졸을 제조할 수 있었다.
첫째로는 산성 산화티탄졸에 관한 것이다. 기존의 졸겔법에서는 가수분해 반응에 의하여 생성된 산화티탄 슬러리에 질산이나 염산 등의 무기산을 일정 중량비로 첨가한 후, 30∼80℃ 사이에서 반응시키는 것에 의하여 산성 산화티탄졸 용액을 제조하는 것으로 되어 있다.
본 발명자들은 아나타제형 결정을 높은 비율로 얻어내기 위해서는 수열합성기를 이용하여 고온, 고압하에서 결정을 성장시키는 방법이 효율적이라는 것을 알아내었다. 보다 자세히 설명하면 다음과 같다. 기존의 졸겔법에 의하여 얻을 수 있는 산성 산화티탄졸 (pH=0.1∼2.5)을 80∼210℃의 온도 범위에서 3∼50 기압의 압력으로 1∼48 시간 동안 수열합성기 내에서 성장시키면 분산성이 좋은 산성 백색 혼탁졸을 얻어낼 수 있다. 이 때 210℃보다 온도가 높거나 48시간 이상 결정 성장을 수행하면, 분산성이 불량해지며 오히려 침전물로 존재하는 분말상이 얻어지게 되고, 온도, 압력, 시간 조건을 적절하게 조절하여 산화티탄의 입도를 조절할 수 있다. 결정성이 뛰어나고 분산성이 우수한 산성 산화티탄졸을 얻기 위해서는 수열합성시의 온도가 80∼210℃, 바람직하게는 80∼150℃가 적당하고, 80℃보다 온도가 낮으면 결정 성장이 제대로 이루어지지 않으며, 150℃보다 온도가 높은 경우에는 분산성이 악화되어 물리적인 교반 등의 재처리 후에도 침전물이 발생할 가능성이 높다.
이 때 사용할 수 있는 무기산의 종류로는 질산(HNO3), 염산(HCl), 황산(H2SO4), 불산(HF) 등이 있고, 바람직하게는 질산과 염산이 적당함을 알아내었다. 첨가량은 pH=0.1∼2.5의 범위가 적당하고, 바람직하게는 pH=0.4∼2.0의 범위가 산성 산화티탄졸의 분산성 유지에 적당함을 알아내었다.
둘째로는 염기성 산화티탄졸에 관한 것이다. 티탄 원료물질의 하나인 티타늄 알콕사이드 1몰에 대하여 0.1∼3.0몰의 1, 2, 3, 4차 수용성 아민을 첨가하여 pH=8.0∼13.0의 범위에서 안정화 한 후 10∼200몰의 물을 이용하여 가수분해하면투명한 졸용액이 얻어짐을 관찰하였다. 이 때 1, 2, 3차 수용성 아민의 종류로는 탄소수가 4 이하인 것이 바람직하고, 구체적으로는 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸아민 등을 예로 들 수 있다. 그 중에서도 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민 등이 아나타제로의 결정 성장을 촉진하는 정도가 우수함을 알아내었고, 상기의 아민을 둘 이상 혼합하여 제조하여도 유사한 산화티탄졸을 얻을 수 있음을 관찰하였다. 또한 4차 암모늄염인 테트라메틸 암모늄 히드록시드(Tetramethyl ammonium hydroxide, TMAOH), 테트라에틸 암모늄 히드록시드(Tetraethyl ammonium hydroxide, TEAOH), 테트라프로필 암모늄 히드록시드(Tetrapropyl ammonium hydroxide, TPAOH), 테트라부틸 암모늄 히드록시드(Tetrabutyl ammonium hydroxide, TBAOH) 등을 이용하여도 분산성 및 결정성이 뛰어난 염기성 산화티탄졸을 제조할 수 있었다.
이 때 첨가되는 1, 2, 3, 4차 아민의 양은 산화티탄(TiO2) 1몰에 대하여 0.1∼3.0몰이 적당하였고, 바람직하게는 0.3∼2.0몰이 적당함을 알아내었다. 아민의 첨가량이 0.1몰보다 작게 되면 분산성이 악화되고 결정 성장이 원활하지 않으며, 3몰보다 과량으로 첨가되면 결정 성장에 대한 효과가 증가하지 않음을 관찰하였고, 오히려 아민을 제거하는 중성화 과정이 용이하지 않게 된다.
본 발명의 목적을 달성하기 위하여 상기의 아민-티탄 수용액을 80∼250℃, 10∼100기압의 조건하에서 1∼48시간 동안 수열합성을 실행한 결과, 아나타제형 결정 비율이 크고 분산성이 양호한 염기성의 푸른색 산화티탄졸용액을 얻어낼 수 있었다. 결정성이 뛰어나고 분산성이 우수한 산화티탄졸을 얻기 위해서는 수열합성시의 온도가 80∼250℃, 바람직하게는 100∼210℃가 적당하고, 100℃보다 온도가 낮으면 결정 성장이 제대로 이루어지지 않고, 210℃보다 온도가 높은 경우에는 분산성이 악화되어 물리적인 교반 등의 재처리 후에도 침전물이 발생할 가능성이 높은 것으로 관찰되었다.
상기의 산성 산화티탄졸과 염기성 산화티탄졸의 티탄 출발물질로는 유기티탄 화합물과 무기티탄 화합물 모두를 이용할 수 있다. 유기티탄 화합물로서 테트라 에톡시티탄(Tetraethoxy titanium, TEOT), 테트라 이소프로폭시티탄(Tetraisopropoxy titanium, TIPT), 테트라 부톡시티탄(Tetrabutoxy titanium, TBOT) 등의 티타늄 알콕사이드 등을 이용할 수 있다. 이 티타늄 알콕사이드 등을 에틸렌디아민테트라아세트산(Ethylenediamine tetraaceticacid, EDTA)이나 그 염, 아세틸아세톤(Acetylacetone, Acac) 등의 킬레이트제로 안정화한 후에 이용하는 것도 가능하다. 또한 무기티탄 화합물로서 사염화티탄(Titanyl chloride, TiCl4), 황산티탄(Titanyl sulfate, Ti(SO4)2), 옥시황산티탄(Titanyl oxysulfate, TiO(SO4)) 등을 사용할 수 있다. 상기의 유기티탄 화합물과 무기티탄 화합물을 미리 가수분해하여 티탄 슬러리를 얻은 후, 이를 세정, 여과하여 이용하는 것도 가능하다.
본 발명에서는 고온, 고압 반응을 수행하기 위하여 수열합성기(Autoclave)를 이용하였다(도 1). 수열합성기의 반응기 용량은 20L이고 최고온도 300℃, 최고압력 120기압을 견딜 수 있도록 스테인레스 스틸로 제작되었다. 또한 결정 성장 과정 중에서 침전을 방지하고 균일하게 성장이 일어날 수 있도록 1000rpm 의 회전 속도를갖는 자기 교반기를 부착하였다. 승온과정 중에 발생할 수 있는 급격한 온도 상승을 방지하고 정확한 온도 제어를 위하여 반응기 내에 온도 센서와 냉각수 순환기를 부착하고 PID 제어 방식으로 산화티탄졸 합성을 프로그램화하여 수행하였다.
또한 본 발명에서는 광촉매의 성능을 증진시키기 위해 수열합성 이전에 일정 중량비의 금속염을 첨가하는 방법을 이용하였다. 이 때 이용할 수 있는 금속염의 종류로는 Cr, Zn, Zr, Sn, Mn, Co, Ni, Fe, Ag, Cu 등의 질산염(nitrate), 황산염(sulphate), 염화염(chloride) 등의 수용성 염을 들 수 있고, 산화티탄(TiO2) 중량에 대해 금속(M)원소의 첨가량은 0.1∼10%가 적당함을 알아내었다. 금속 첨가량이 0.1%보다 작게 되면 광촉매의 성능 증진 효과가 거의 변함이 없고, 10%를 초과하게 되면 산화티탄의 절대량이 감소하므로 기대하는 효과를 얻을 수 없게 된다.
상기의 광촉매 산화티탄졸 용액을 제조할 때, 분산제 및 결정 성장 보조제로서 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 규산소다(Na2SiO3), 규산카리(K2SiO3), 계면 활성제 등을 액상 또는 분말의 형태로 일정 중량비로 첨가할 수 있다. 이 때 첨가 시기는 결정 성장 보조제로서는 수열합성 이전이 바람직하고, 분산제의 용도로는 수열합성 이후가 바람직하다. 첨가량은 산화티탄(TiO2) 중량에 대해 0.1∼5%가 적당하고, 바람직하게는 0.1∼1%가 적당함을 알아내었다.
상기의 광촉매 산화티탄졸은 졸겔법에 의거하여 미리 가수분해하여 질산-티탄졸 또는 아민-티탄졸을 제조하여 수열반응하여도 되나, 일정 중량비의 티탄 원료물질, 물, 질산 또는 아민을 동시에 투입한 후 수열반응기 내에서 가수분해와 동시에 결정 성장하는 방법도 동일한 결과를 얻을 수 있음을 확인하였다.
본 발명에서 제조되는 광촉매 산화티탄졸은 산화티탄(TiO2) 중량비로 0.5wt%∼10wt%에서 제조되는 것이 바람직하다. 10wt% 보다 농도가 높게 되면 침전 및 겔화가 일어남을 관찰하였다. 수열합성을 통하여 합성된 광촉매 산화티탄졸은 감압증류 등에 의하여 용매를 제거하는 방식으로 20wt%까지 농축할 수 있다.
상기의 광촉매 산화티탄졸을 제조하는 과정에서 코팅성 향상을 목적으로 수열합성 이전, 또는 수열합성 이후에 알코올 등의 극성 용매를 물에 일정 중량 첨가 혼합하는 것도 가능하다. 이러한 용도로서 이용되는 극성 용매중 저급 알코올로서 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올 등이 이용될 수 있고, 폴리비닐 알코올 등의 고급 알코올도 사용 가능하며, 헥실렌글리콜, 아세틸아세톤 등도 사용 가능하다. 그러나 제조된 광촉매 산화티탄졸의 분산성을 유지하려면, 첨가되는 극성 용매의 양은 물 중량 대비 5∼80wt% 가 적당하고, 바람직하게는 20∼60wt% 가 적당하며 80wt% 가 넘게 되면 산화티탄졸의 분산성이 악화되어 침전물이 발생하게 된다.
상기 과정에 의하여 제조되는 질산-티탄졸과 아민-티탄졸은 다음과 같은 특성을 지니고 있다. 첫째로 질산-티탄졸은 100∼210℃의 온도범위에서 수열처리되었을 때, 30∼80nm 의 입도를 나타내므로 기재에 코팅시에는 투명성이 뛰어나고 밀착강도도 기존 졸에 비하여 우수함을 관찰하였다. 반면에 아민-티탄졸은 100∼210℃의 온도 범위에서 수열처리되면, 80∼200nm의 입도 분포를 보이므로, 코팅시 약간 투명성이 저하되나 오히려 결정 성장률은 증가하여 광촉매 활성이 보다 우수함을관찰하였다.
수열합성 후에 아민-티탄졸은 pH 범위가 9.5∼13.0의 염기성을 나타내는데, 증기압이 낮은 아민은 간단한 용매 제거장치(예를 들면 Dean Stark)에 의하여 pH를 8.5∼9.0까지 낮출 수 있다. 또한 에틸렌글리콜이나 폴리에틸렌글리콜 등의 비휘발성 유기용매를 물 중량 대비 20∼80wt% 첨가한 후 100℃이상에서 물과 아민을 제거함으로써 pH=7.0∼8.0까지 중성화가 가능한 것으로 파악되었다. 이때 pH 변화에 의한 광촉매 입도 증가 및 활성의 약화는 나타나지 않았다. 감압 증류 방법에 의하여도 용매와 아민을 제거할 수 있으나, pH가 8.0보다 낮은 영역이 되면 분산성이 악화되어 침전물이 발생하였다.
본 발명에서 제조한 광촉매 산화티탄졸의 입도를 분석하기 위하여 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscopy, SEM)을 이용하였고, 결정성 및 입도를 확인하기 위한 목적으로는 X선 회절분석기(X-ray Diffractometer, XRD)를 이용하였다. SEM의 경우 가로, 세로가 1cm인 슬라이드글라스에 코팅하여 ×50,000의 배율까지 측정하였고, XRD의 경우에는 합성된 산화티탄졸을 150℃의 전기로에서 건조하여 얻은 미분말로 측정하였다.
이하 본 발명을 실시예들을 통하여 더욱 상세히 설명한다. 그러나 이러한 실시예들로 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
[실시예 1]
티타늄 알콕사이드로서 티타늄 테트라이소프로폭사이드 (JUNSEI, 97%. Titanium tetraisopropoxide, TIPT, MW=284.25g/mole, d=0.97g/ml) 566.45g을(=150g TiO2)을 3차 증류수 2403.55g에 첨가하여 수열합성기에 투입하였다. 교반기의 회전 속도를 200rpm 으로 고정한 후에, 티탄 슬러리에 70% HNO330㎖를 첨가한 후, 다음과 같이 온도 조건을 설정하였다. 100℃ 승온까지 1시간, 150℃ 승온까지 1시간, 150℃에서 6시간 동안 수열합성을 실시한 후 냉각수를 순환시켜 실온까지 냉각시킨 후, 배출구를 통하여 5% 농도의 백색 산화티탄 분산졸 3kg을 제조하였다(샘플 A). 150℃에서 가해지는 용기내 압력은 10∼15기압인 것으로 확인되었고, 결정 성장의 정도는 XRD로 확인하였다. 샘플 A에서 500㎖를 따로 보관하여 경시 변화를 관찰한 결과, 3개월 이내에는 침전물이 관찰되지 않았고, pH 및 점도 변화도 거의 관찰되지 않았다.
[실시예 2]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 온도 조건을 변화하였다 100℃ 승온까지 1시간, 180℃ 승온까지 1시간, 210℃ 승온까지 1시간, 210℃에서 24시간동안 수열 합성을 실시하여 샘플 B를 제조하였다. 샘플 B의 경우 수열 합성기 내부에서 30% 가량이 응집된 형태로 존재하였으나 2000rpm 이상의 고속 교반기나 초음파 유화기를 통하여 물리적인 에너지로 분산 상태를 개선시킬 수 있었고, 결정 성장 정도는 샘플 A의 경우보다 우수하였다.
[실시예 3]
실시예 2와 동일한 방법으로 실시하되, 미량의 금속을 첨가하였다. 사용된 금속염은 황산철(FeSO4·7H2O)로서 산화티탄(TiO2) 중량대비 Fe이 0.5%가 되도록 하였고, 수열합성을 통하여 샘플 C를 제조하였다. 샘플 C의 외관은 샘플 B와 동일하였고, XRD를 통하여 결정 성장 정도가 샘플 B보다 10% 정도 개선됨을 확인하였다.
[실시예 4]
실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되 다음과 같이 온도 조건을 변화하였다. 100℃ 승온까지 1시간, 100℃에서 12시간동안 수열합성을 진행시켜 샘플 D를 제조하였다. 샘플 D의 분산성은 A∼D 중에서 가장 우수하였고, 유리에 대한 코팅성이 우수하여 코팅졸로 즉시 이용할 수 있었다.
[비교예 1]
티타늄 알콕사이드로서 티타늄 테트라이소프로폭사이드, TIPT 566.45g을 3차 증류수 2413.55g에 첨가한 후 70% HNO330㎖를 투입하여 80℃에서 24시간 동안 환류시켜 샘플 E를 제조하였다. 샘플 E의 외관은 푸른색 반투명졸로서 투명도 및 분산성이 극히 우수하였으나. 결정 성장은 미약한 것으로 관찰되었다.
[실시예 5]
티타늄 알콕사이드로서 티타늄 테트라이소프로폭사이드, TIPT 566.45g을 3차 증류수 2333.55g 에 첨가하여 수열합성기에 투입하였다. 이 티탄 슬러리에 99% 트리에틸아민(Triethyl amine. Junsei, 99%) 100g을 첨가한 후 다음과 같이 온도 조건을 설정하였다.
100℃ 승온까지 1시간, 180℃ 승온까지 1시간, 210℃ 승온까지 1시간, 210℃에서 24시간 동안 수열합성을 실시한 후 냉각수를 투입하여 실온까지 냉각시켜 배출구를 통하여 5% 농도의 연푸른색 산화티탄 분산졸 3kg을 제조하였다(샘플 F). 샘플 F는 아민 특유의 자극성 악취를 갖는 pH=12.5의 염기성 졸로서 분산성이 대단히 양호하였다.
XRD를 이용한 결정도 및 입도 분석결과, 샘플 F의 입도 및 결정도가 큰 폭으로 개선되었고, SEM을 이용한 입자 모양 관측에서는 80∼200nm의 구형으로 관찰되었다.
아민 특유의 악취를 제거하기 위하여 고온에서 강제로 트리에틸아민을 뽑아내었다. 즉 100℃에서 용매 제거장치(Dean Stark)를 이용하여 20∼30㎖의 트리에틸아민을 제거한 후에 pH를 측정한 결과 12.0으로 관찰되었다. 3kg 가량의 이 용액에 비휘발성 유기용매인 에틸렌글리콜을 2kg 가하고 120℃에서 강제로 아민을 제거하여 pH=7.5의 푸른색 혼탁졸 샘플 G를 얻어내었다. 샘플 G의 경우 분산성 및 입도의 변화는 관찰되지 않았고 3개월간 실온하에서 방치한 결과 외관의 변화는 관찰되지 않았다.
[비교예 2]
티타늄 알콕사이드로서 티타늄 테트라이소프로폭사이드, TIPT 566.45g을 99% 트리에틸아민 100g과 혼합하여 1시간 동안 교반하여, 안정화된 투명액을 얻었다. 이 투명액에 3차 증류수 2333.55g을 투입하여 80℃에서 24시간동안 환류 반응시켜 산화티탄 분산졸 샘플 H를 제조하였다. 샘플 H는 담황색의 반투명 외관을 나타내며, pH는 12.6으로 측정되었다. 샘플 H에서 500㎖를 따로 보관하여 경시 변화를 관찰한 결과, 3개월 이내에는 침전물이 관찰되지 않았고, pH 및 점도 변화도 거의 관찰되지 않았다.
[비교예 3]
우수한 광촉매 성능을 나타내는 것으로 알려진 산화티탄 분말 2가지를 입수하여 이를 산으로 해교시켜 실시예와 동일한 산화티탄(TiO2) 농도를 갖는 샘플 I, J를 각각 얻었다.
이하, 제조된 샘플 A∼J의 광촉매 성능을 측정하기 위하여 탈취 시험, 항균 시험 및 유기색소 분해시험을 각각 수행하였다.
탈취시험
10L의 밀폐형 박스에 아세트알데히드(CH3CHO) 표준가스 100ppm을 주입하고 40W 자외선 램프를 광원으로 이용하였다. 두께 5mm 유리판(7cm×10cm) 10개를 준비하고, A에서 J를 각각 침지 코팅하여 건조시킨 후 150℃에서 30분간 소성하여 산화티탄이 코팅된 10개의 유리판을 얻어내었다. 10개의 유리판에 대하여 자외선 조사시간은 모두 6시간으로 고정하고, 검지관 방법에 의하여 매 1시간마다 아세트알데히드 농도를 측정하였다(도 2). 상기의 탈취시험 결과로부터 아나타제 결정도가 향상된 산화티탄 분산졸을 얻어내어 본 발명의 목적을 달성하였다.
항균시험
대장균 E. coli를 배양기 내에서 35℃/24시간 동안 배양한 후, 페트리 필름(Petri-film, 3M)을 이용하여 육안으로 균수를 확인하였다. 24시간 배양 후에 균수가 58∼60개가 되도록 조정하고, 균이 부착된 페트리 필름 10개를 각각 A∼J가 코팅된 산화티탄 유리에 부착하였다. 20W 자외선 램프를 광원으로 이용하고, 항균실험시에는 배양기내의 온도를 25℃로 고정하여 더 이상의 대장균 증식을 억제한 후, 매 1시간마다 6시간 동안 균수를 세어 도식화하였다(도 3).
유기색소 분해시험
탈취시험에서와 동일한 방법으로 샘플 A에서 J가 코팅된 광촉매 유리판 10개를 준비하고, 청색 스탬프잉크 0.05g을 유리판 표면에 붓을 이용하여 고르게 칠하였다. 40W의 자외선 램프를 이용하여 4시간 동안 색소분해 시험을 실시하고, 매 1시간마다 색소 상태를 육안으로 관찰하고, 중량 분해능이 0.0001g인 저울을 이용하여 색소분해 상태를 기록하였다(도 4).
이상의 광촉매 성능 시험으로부터 수열합성을 통하여 제조된 산화티탄졸의 결정도 및 광촉매 활성이 우수함을 관찰하였고, 더우기 분산성이 양호하여 기재에 효과적으로 담지시킬 수 있으므로 본 발명의 목적에 부합되었다.
광촉매 산화티탄 TiO2는 강한 산화 환원력으로 인하여 물을 수소와 산소로 분해시켜 청정에너지인 수소를 에너지로 활용할 수 있고, 수중 및 대기중의 난분해성 유기물질과 악취물질, 차량 배기가스 등의 분해와 항균 및 독소분해능력으로 인하여 주목받고 있는 환경친화적인 재료물질이다. 따라서 응용 범위가 넓은 산화티탄을 실제로 적용하려면 아나타제 결정성이 높은 초미립자 분산졸을 제조하는 것이 중요하다. 상기 실시예 및 활성시험으로부터 알 수 있는 바와 같이, 수열합성기를 이용하여 80∼250℃, 3∼100기압의 고온, 고압 조건하에서 분산성이 뛰어나고 아나타제 결정성이 향상된 산화티탄 분산졸을 제조할 수 있었다. 가수분해와 축중합반응으로 분산졸을 얻는 기존의 졸겔법을 개선한 결과, 수열합성을 통하여 결정성이 향상되고 성능이 우수한 산화티탄졸을 얻어낼 수 있었다. 도 5는 상기 실시예 5에서 얻어진 산화티탄졸(샘플 F)의 XRD 결과를 샘플 I와 비교하여 나타내었고, 도 6은 상기 실시예 5에서 얻어진 산화티탄졸의 SEM 사진이다. 본 발명에서는 수열합성 방법에 의하여 구형 형태를 유지하면서 80∼200nm 크기의 초미립자를 제조하였고 수열합성의 온도 및 압력 조건을 조절하여 입도를 제어할 수 있었다.

Claims (20)

  1. 삭제
  2. 광촉매형 산화티탄졸의 제조방법에 있어서,
    티탄(Ti)을 함유하고 있는 출발물질로써 테트라 에톡시티탄(Tetraethoxy titanium, TEOT), 테트라 이소프로폭시티탄(Tetraisopropoxy titanium, TIPT), 테트라 부톡시티탄(Tetrabutoxy titanium, TBOT) 중에서 선택된 유기티탄화합물을 소정의 물로 가수분해 시키는 제 1단계,
    제 1단계에서 가수분해된 티탄 수용액에 무기산 또는 1, 2, 3, 4차 아민을 소정치 첨가한 후, 수열합성기에서 소정치의 온도와 압력으로 수열 반응하여 결정을 성장시키는 제 2단계,
    수열 반응 후 얻어낸 산화티탄졸의 pH 및 산화티탄(TiO2) 농도를 조절하기 위하여 소정의 비휘발성 유기용매를 첨가하여 고온에서 용매를 제거하는 제 3단계를 포함하여 구성된,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  3. 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법에 있어서,
    티탄을 함유하는 출발물질로써 사염화티탄(Titanyl chloride, TiCl4), 황산티탄(Titanyl sulfate, Ti(SO4)2), 옥시황산티탄(Titanyl oxysulfate, TiO(SO4)) 중에서 선택된 무기티탄화합물을 소정의 물로 가수분해 시키는 제 1단계,
    제 1단계에서 가수분해된 티탄 수용액에 무기산 또는 1, 2, 3, 4차 아민을 소정치 첨가한 후, 수열합성기에서 소정치의 온도와 압력으로 수열 반응하여 결정을 성장시키는 제 2단계,
    수열 반응 후 얻어낸 산화티탄졸의 pH 및 산화티탄(TiO2) 농도를 조절하기 위하여 소정의 비휘발성 유기용매를 첨가하여 고온에서 용매를 제거하는 제 3단계를 포함하여 구성된,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  4. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    제 1단계의 가수분해시에 첨가되는 물의 양이 산화티탄(TiO2) 1몰에 대하여 10 ∼ 200 몰임이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  5. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    제 1단계의 티탄을 함유하고 있는 출발물질인 티탄화합물을 미리 가수분해하여 티탄 슬러리를 얻은 후, 이를 세정, 여과하여 이용하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  6. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    제 1단계의 티탄을 함유하고 있는 출발물질인 티탄화합물은 에틸렌디아민테트라아세트산(Ethylenediamine tetraacetic acid, EDTA)이나 그 염, 아세틸아세톤(Acetylacetone, Acac) 중에서 선택된 킬레이트제로 안정화한 후에 이용하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  7. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    제 2단계에 첨가되는 무기산의 종류가 질산(HNO3), 염산(HCl), 황산(H2SO4), 불산(HF)에서 선택된 1종인 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    제 2단계에 첨가되는 무기산의 첨가량은, 티탄 수용액이 pH = 0.1 ∼ 2.5의 범위를 가지도록 하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  9. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    제 2단계에 첨가되는 아민은 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸아민, 테트라메틸 암모늄 히드록시드, 테트라에틸 암모늄 히드록시드, 테트라프로필 암모늄 히드록시드, 테트라부틸 암모늄 히드록시드 중에서 선택된 1종인 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    제 2단계에 첨가되는 아민의 첨가량은, 산화티탄(TiO2) 1몰에 대하여 0.1 ∼ 3.0 몰인 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  11. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 2단계는 pH = 0.1 ∼ 2.5의 산성 산화 티탄졸을 80 ∼ 210 ℃의 온도 범위에서 3 ∼ 50 기압의 압력으로 1 ∼ 48 시간 동안 수열합성기 내에서 반응시키는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  12. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 2단계는 pH = 8.0 ∼ 13.0의 염기성 산화티탄졸을 80 ∼ 250 ℃의 온도 범위에서 10 ∼ 100 기압의 압력으로 1 ∼ 48 시간 동안 수열합성기 내에서 반응시키는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 염기성 산화티탄졸의 제조방법.
  13. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 2단계는 수용성 금속염으로서 Cr, Zn, Zr, Sn, Mn, Co, Ni, Fe, Ag, Cu 의 질산염(nitrate), 황산염(sulphate), 염화염(chloride)을 소정치 첨가하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 제 2단계의 수용성 금속염의 첨가량은, 산화티탄(TiO2) 중량에 대하여 0.1 ∼ 10 중량% 임이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  15. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    제 2단계는 분산제 및 결정 성장 보조제로써, 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 규산소다(Na2SiO3), 규산카리(K2SiO3), 계면 활성제를 액상 또는 분말의 형태로 소정치 첨가하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  16. 제 15항에 있어서,
    첨가되는 분산제 및 결정 성장 보조제의 첨가량은, 산화티탄(TiO2) 중량에 대하여 0.1 ∼ 5 중량% 임이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  17. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 3단계는, 코팅성 향상을 목적으로 수열합성 이전, 또는 수열합성 이후에 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, 폴리비닐 알코올, 헥실렌글리콜, 아세틸아세톤의 극성 용매를 물 중량 대비 5 ∼ 80 부피% 첨가하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  18. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 3단계는, 수열반응 후 얻어낸 산화티탄졸의 산화티탄(TiO2) 농도를 높이기 위하여 감압 증류에 의하여 용매를 제거하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  19. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 3단계는, 수열반응 후 얻어낸 pH = 9.5 ∼ 13.0 범위의 염기성 산화티탄졸을 Dean Stark 용매 제거장치를 이용하여 에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 비휘발성 유기물질을 물 중량 대비 20 ∼ 80 중량% 첨가한 후 물과 아민을 제거하여 pH = 7.0 ∼ 8.0의 중성 산화티탄졸을 제조하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
  20. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 제 1단계 및 2단계는, 티탄을 함유하는 티탄 출발물질, 물, 무기산 또는 1, 2, 3, 4차 아민을 동시에 투입하여 수열합성기 내에서 제조하는 것이 특징인,
    아나타제형 광촉매용 산화티탄졸의 제조방법.
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