JP4193867B2 - GaN系半導体レーザの製造方法 - Google Patents
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Description
そこで、この発明が解決しようとする課題は、安定なセルフパルセーション動作が可能で長寿命の、窒化物系III−V族化合物半導体を用いた半導体レーザを容易に得ることが可能な半導体レーザおよびこのような半導体レーザを容易に製造することが可能な半導体レーザの製造方法を提供することである。
この発明が解決しようとする課題は、より一般的には、安定なセルフパルセーション動作が可能で長寿命の、各種の半導体を用いた半導体レーザを容易に得ることが可能な半導体レーザおよびこのような半導体レーザを容易に製造することが可能な半導体レーザの製造方法を提供することである。
この発明が解決しようとする他の課題は、これらの半導体レーザを光源に用いた光ピックアップおよび光ディスク装置を提供することである。
非特許文献1において、セルフパルセーション動作が不安定になっている理由は、可飽和吸収層のキャリア寿命時間の低減が不十分であることによる。従って、上記の課題を解決するためには、可飽和吸収層におけるキャリア寿命時間を実効的に短くすることが必要である。キャリア寿命時間を短くするには、キャリア再結合過程を増やすことが重要であるが、本発明者は、このためにドライエッチングによるダメージを可飽和吸収層に積極的に導入することが最も有効かつ簡便であると考え、実験的に最適条件を見出した。具体的には、活性層とクラッド層との間に可飽和吸収層を設ける半導体レーザにおいて、横モード制御のために、クラッド層側からドライエッチングを行うことにより溝を形成してリッジストライプを形成する場合、その溝の底面から活性層の上面までの距離を105nm以上、かつ、溝の底面から可飽和吸収層の上面までの距離を100nm以下とすることにより、平均故障寿命(mean time to failure,MTTF)が最大となり、安定なセルフパルセーション動作が可能で長寿命の半導体レーザを実現することができることを見出した。
第1の導電型の第1のクラッド層と、
上記第1のクラッド層上の活性層と、
上記活性層上の可飽和吸収層と、
上記可飽和吸収層上の第2の導電型の第2のクラッド層とを有し、
少なくとも上記第2のクラッド層に互いに平行にかつ互いに所定間隔離れて一対の溝が形成されてその間にリッジストライプが形成されている半導体レーザにおいて、
上記溝の底面から上記活性層の上面までの距離が105nm以上、かつ、上記溝の底面から上記可飽和吸収層の上面までの距離が100nm以下である
ことを特徴とするものである。
第1の導電型の第1のクラッド層と、
上記第1のクラッド層上の活性層と、
上記活性層上の可飽和吸収層と、
上記可飽和吸収層上の第2の導電型の第2のクラッド層とを有し、
少なくとも上記第2のクラッド層に互いに平行にかつ互いに所定間隔離れて一対の溝が形成されてその間にリッジストライプが形成されている半導体レーザの製造方法において、
上記第1のクラッド層、上記活性層、上記可飽和吸収層および上記第2のクラッド層を成長させた後、少なくとも上記第2のクラッド層をドライエッチングすることにより上記溝を形成し、この際、上記溝の底面から上記活性層の上面までの距離が105nm以上、かつ、上記溝の底面から上記可飽和吸収層の上面までの距離が100nm以下となるようにする
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた光ピックアップにおいて、
上記半導体レーザとして、
第1の導電型の第1のクラッド層と、
上記第1のクラッド層上の活性層と、
上記活性層上の可飽和吸収層と、
上記可飽和吸収層上の第2の導電型の第2のクラッド層とを有し、
少なくとも上記第2のクラッド層に互いに平行にかつ互いに所定間隔離れて一対の溝が形成されてその間にリッジストライプが形成されている半導体レーザにおいて、
上記溝の底面から上記活性層の上面までの距離が105nm以上、かつ、上記溝の底面から上記可飽和吸収層の上面までの距離が100nm以下であるものを用いた
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた光ディスク装置において、
上記半導体レーザとして、
第1の導電型の第1のクラッド層と、
上記第1のクラッド層上の活性層と、
上記活性層上の可飽和吸収層と、
上記可飽和吸収層上の第2の導電型の第2のクラッド層とを有し、
上記第2のクラッド層および上記コンタクト層に互いに平行にかつ互いに所定間隔離れて一対の溝が形成されてその間にリッジストライプが形成されている半導体レーザにおいて、
上記溝の底面から上記活性層の上面までの距離が105nm以上、かつ、上記溝の底面から上記可飽和吸収層の上面までの距離が100nm以下であるものを用いた
ことを特徴とするものである。
可飽和吸収層には必要に応じて不純物がドーピング(一般的には高濃度ドーピング)され、非発光再結合中心が形成される。
図1はこの発明の第1の実施形態によるセルフパルセーション型GaN系半導体レーザを示す。
図1に示すように、このGaN系半導体レーザにおいては、n型GaN基板1上にn型AlGaNクラッド層2、n型GaN光導波層3、アンドープのGa1-x Inx N(量子井戸層)/Ga1-y Iny N(障壁層、x>y)多重量子井戸構造の活性層4、アンドープInGaN光導波層5、アンドープAlGaN光導波層6、p型AlGaN電子障壁層7、p型GaN層の間にp型InGaN層を挟んだ構造の可飽和吸収層8、p型GaN/アンドープAlGaN超格子クラッド層9およびp型GaNコンタクト層10が順次積層されている。n型AlGaNクラッド層2およびn型GaN光導波層3には、n型不純物として例えばSiがドーピングされている。また、p型AlGaN電子障壁層7、可飽和吸収層8を構成するp型GaN層およびp型InGaN層、p型GaN/アンドープAlGaN超格子クラッド層9を構成するp型GaN層ならびにp型GaNコンタクト層10には、p型不純物として例えばMgがドーピングされている。p型GaN/アンドープAlGaN超格子クラッド層9およびp型GaNコンタクト層10には、一方向に直線状に延在してリッジストライプ11が形成されている。このリッジストライプ11の両側には溝12、13が形成されている。これらの溝12、13の外側の部分のp型GaNコンタクト層10上に例えばSiO2 膜のような絶縁膜14が形成されている。また、リッジストライプ11の側面、溝12、13およびその外側の部分のp型GaNコンタクト層10上に延在してSiO2 膜15およびその上のアンドープSi膜16が形成されている。リッジストライプ11のp型GaNコンタクト層10に電気的にコンタクトしてp側電極17が形成されている。このp側電極17は溝12、13の外側の部分のp型GaNコンタクト層10上に広がって形成されている。一方、n型GaN基板1の裏面にn側電極18が電気的にコンタクトして形成されている。
まず、n型GaN基板1上に、例えば有機金属化学気相成長(MOCVD)法により、n型AlGaNクラッド層2、n型GaN光導波層3、活性層4、アンドープInGaN光導波層5、アンドープAlGaN光導波層6、p型AlGaN電子障壁層7、可飽和吸収層8、p型GaN/アンドープAlGaN超格子クラッド層9およびp型GaNコンタクト層10を順次エピタキシャル成長させる。ここで、Inを含まない層であるn型AlGaNクラッド層2、n型GaN光導波層3、アンドープAlGaN光導波層6、p型AlGaN電子障壁層7、可飽和吸収層8、p型GaN/アンドープAlGaN超格子クラッド層9およびp型GaNコンタクト層10の成長温度は例えば1000℃程度とし、Inを含む層であるGa1-x Inx N/Ga1-y Iny N多重量子井戸構造の活性層4およびアンドープInGaN光導波層5の成長温度は例えば700〜800℃、例えば730℃とするが、これに限定されるものではない。
以上により、図1に示すGaN系半導体レーザが製造される。
1/τs =1/τr +1/τnr
この式から、非発光再結合寿命時間τnrが短くなると、キャリア寿命時間τs も短くなることが分かる。
これに加えて、次のような利点を得ることもできる。すなわち、溝12、13の外側の部分のp型GaNコンタクト層10上には絶縁膜14、SiO2 膜15およびアンドープSi膜16が形成されているため、これらの絶縁膜14、SiO2 膜15およびアンドープSi膜16の合計の厚さだけ、溝12、13の外側の部分におけるp側電極17とn側電極18との間隔をリッジストライプ11や溝12、13の部分における間隔に比べて大きくすることができる。このため、p側電極17とn側電極18との間の静電容量の低減を図ることができ、GaN系半導体レーザの高周波特性の向上を図ることができるとともに、静電リークや静電破壊を防止することができる。
このセルフパルセーション型GaN系半導体レーザは、例えば光ディスク装置の光ピックアップの光源に用いて好適なものである。
図7に示すように、このGaN系半導体レーザは、溝12、13の底面が可飽和吸収層8の上面と下面との間に位置していることを除いて、第1の実施形態によるGaN系半導体レーザと同様な構成を有する。この場合、溝12、13の底面および側面下部の近傍の可飽和吸収層8にエッチングダメージが生じている。
この第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図8に示すように、このGaN系半導体レーザは、溝12、13の底面が可飽和吸収層8の下面より下側に位置していることを除いて、第1の実施形態によるGaN系半導体レーザと同様な構成を有する。この場合、溝12、13の側面近傍の可飽和吸収層8にエッチングダメージが生じている。
この第3の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
例えば、上述の実施形態において挙げた数値、構造、基板、プロセスなどはあくまでも例に過ぎず、必要に応じて、これらと異なる数値、構造、基板、プロセスなどを用いてもよい。
なお、溝12、13の底面から可飽和吸収層8の上面までの距離t2 をt2 >105nmに選び、これらの溝12、13にイオン注入を行うことによりこれらの溝12、13の底面の下方の可飽和吸収層8に例えばドライエッチングによるエッチングダメージと同程度の損傷を生じさせることによっても、可飽和吸収層8のキャリア寿命時間の低減を十分に図ることが可能である。
Claims (1)
- 第1の導電型の第1のクラッド層と、
上記第1のクラッド層上の活性層と、
上記活性層上の可飽和吸収層と、
上記可飽和吸収層上の第2の導電型の第2のクラッド層とを有し、
上記第1のクラッド層、上記活性層、上記可飽和吸収層および上記第2のクラッド層はGaN系半導体からなり、
少なくとも上記第2のクラッド層に互いに平行にかつ互いに所定間隔離れて一対の溝が形成されてその間にリッジストライプが形成されているGaN系半導体レーザを製造する場合に、
上記第1のクラッド層、上記活性層、上記可飽和吸収層および上記第2のクラッド層を成長させた後、少なくとも上記第2のクラッド層をドライエッチングすることにより上記溝を形成し、この際、上記溝の底面および/または側面の近傍の上記可飽和吸収層に上記ドライエッチングによるエッチングダメージを生じさせ、上記溝の底面から上記活性層の上面までの距離が105nm以上、かつ、上記溝の底面から上記可飽和吸収層の上面までの距離が100nm以下となるようにしたGaN系半導体レーザの製造方法。
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