JP4065696B2 - 光学フイルム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セルロース混合酸エステル化合物及びそれを用いたフイルムに関する。特に本発明はセルロースの脂肪族酸と芳香族酸との混合エステル化合物及びそれを用いたフイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
セルロースエステルは、セルロースアシレートに代表されるように透明性、強靭性、難燃性及び光学的等方性から各種の写真材料や光学材料に用いられてきた。特に、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）は代表的な写真感光材料の支持体として利用されている。また、セルローストリアセテートフイルムはその光学的等方性から近年市場の拡大している液晶表示装置にも用いられている。液晶表示装置における具体的な用途としては、偏光板の保護フイルム、光学補償シートの支持体及びカラーフィルターが代表的である。セルローストリアセテートフイルムを製膜するには溶液製膜法が用いられている。
すなわち、セルロースアセテートを溶媒中に溶解した溶液（ドープ）を支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。溶液製膜法は均一な面状、光学的等方性を得るのに特に適した方法であるが、近年の厳しい光学的特性に関する要求、特に光学的等方性、耐水性、寸度安定性などの要求を満足させることは困難であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、透明性の優れたフイルム及びそれを形成可能なセルロースエステル化合物を提供することである。別の本発明の目的は耐水性に優れたフイルム及びそれを形成可能なセルロースエステル化合物を提供することにある。さらに別の本発明の目的は寸度安定性に優れたフイルム及びそれを形成可能なセルロースエステル化合物を提供することにある。
【０００４】
上記課題は、下記手段によって達成された。
（１）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルの水酸基の水素原子を、置換もしくは無置換の芳香族アシル基で置換して得られた芳香族アシル基の置換度が、セルロース脂肪酸モノエステルでは残存する水酸基に対して０．１〜２．０、セルロース脂肪酸ジエステルでは残存する水酸基に対して０．１〜１．０であるセルロース混合酸エステル化合物を含有する光学フィルム。
（２）前記のセルロース混合酸エステル化合物の置換もしくは無置換の芳香族アシル基が下記一般式（Ｉ）で表わされる（１）項記載の光学フィルム。
【０００５】
【化２】
【０００６】
式中、Ｘは水素原子または置換基を表わす。ｎは０または１〜５の整数を表わす。ｎが２以上の時、互いに連結して縮合多環を形成してもよい。
（３）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルの脂肪族アシル基の炭素原子数が２〜２０であることを特徴とする（１）又は（２）項に記載の光学フィルム。
（４）前記のセルロース混合酸エステル化合物の芳香族アシル基の置換度が、セルロースを構成するグルコース単位が有する３個の水酸基に対して２．０以下である（１）〜（３）項のいずれかに記載の光学フィルム。
（５）前記のセルロース混合酸エステル化合物を有機溶媒で溶解して調製された溶液（ドープ）を支持体上に流延し、溶媒を蒸発せしめた（１）〜（４）項のいずれかに記載の光学フイルム。
本発明において芳香族アシル基の置換度とは、セルロース混合酸エステル化合物中の、脂肪族アシル基を導入した水酸基でない基に対する芳香族アシル基を導入した水酸基の比をいう。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられるセルロースエステルは、前記のように脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルである。ここで置換もしくは無置換の芳香族アシル基としては前記の一般式（Ｉ）で表される基があげられる。
まず、一般式（Ｉ）について説明する。Ｘは置換基で、置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基およびアリールオキシスルホニル基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)２、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｐ(−Ｏ−Ｒ)２、−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)２、−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)２、−Ｏ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)２−Ｏ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)２、−ＮＨ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−ＮＨ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)２、−ＳｉＨ２−Ｒ、−ＳｉＨ(−Ｒ)２、−Ｓｉ(−Ｒ)３、−Ｏ−ＳｉＨ２−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ(−Ｒ)２および−Ｏ−Ｓｉ(−Ｒ)３が含まれる。
上記Ｒは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基である。置換基の数は、一個乃至五個であることが好ましく、一個乃至四個であることがより好ましく、一個乃至三個であることがさらに好ましく、一個または二個であることが最も好ましい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基およびウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基およびカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基およびアリールオキシ基がさらに好ましく、ハロゲン原子、アルキル基およびアルコキシ基が最も好ましい。
【０００８】
上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が含まれる。
上記アルキル基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがより好ましく、１乃至６であることがさらに好ましく、１乃至４であることが最も好ましい。アルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチルおよび２−エチルヘキシルが含まれる。
上記アルコキシ基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがより好ましく、１乃至６であることがさらに好ましく、１乃至４であることが最も好ましい。アルコキシ基は、さらに別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ、ブチルオキシ、ヘキシルオキシおよびオクチルオキシが含まれる。
【０００９】
上記アリール基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。アリール基の例には、フェニルおよびナフチルが含まれる。
上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシおよびナフトキシが含まれる。
上記アシル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。アシル基の例には、ホルミル、アセチルおよびベンゾイルが含まれる。
上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミドおよびベンズアミドが含まれる。
上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミドおよびｐ−トルエンスルホンアミドが含まれる。
上記ウレイド基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイドが含まれる。
【００１０】
上記アラルキル基の炭素原子数は、７乃至２０であることが好ましく、７乃至１２であることがさらに好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル、フェネチルおよびナフチルメチルが含まれる。
上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルが含まれる。
上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７乃至２０であることが好ましく、７乃至１２であることがさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニルが含まれる。
上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８乃至２０であることが好ましく、８乃至１２であることがさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニルが含まれる。
上記カルバモイル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイルおよびＮ−メチルカルバモイルが含まれる。
上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下であることが好ましく、１２以下であることがさらに好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイルおよびＮ−メチルスルファモイルが含まれる。
上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシおよびベンゾイルオキシが含まれる。
【００１１】
上記アルケニル基の炭素原子数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、アリルおよびイソプロペニルが含まれる。
上記アルキニル基の炭素原子数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アルキニル基の例には、チエニルが含まれる。
上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。
【００１２】
次に、上記のセルロース混合酸エステル中脂肪酸エステル残基において、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等があげられる。好ましくはアセチル、プロピオニル及びブチリルであり、特に好ましいのはアセチルである。本発明において前記脂肪族アシル基とはさらに置換基を有するものも包含する意味であり、置換基としては例えば前記の一般式（Ｉ）のＸとして例示したものがあげられる。
【００１３】
また、一般式（Ｉ）において芳香族環に置換する置換基Ｘの数（ｎ）は０または１〜５個であり、好ましくは１〜３個で、特に好ましいのは１又は２個である。
【００１４】
更に、芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えばナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリンなど）を形成してもよい。
一般式（Ｉ）で表される芳香族アシル基の具体例は下記（化３）に示す通りであるが、好ましいのは、Ｎｏ．１、３、５、６、８、１８、２８、より好ましいのはＮｏ．１、３、６である。
【００１５】
次に、セルロースの水酸基への芳香族アシル基の置換は、一般的には芳香族カルボン酸クラロイドあるいは芳香族カルボン酸から誘導される対称酸無水物及び混合酸無水物を用いる方法等が挙げられる。特に好ましいのは芳香族カルボン酸から誘導した酸無水物を用いる方法（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ＡｐｐｌｉｅｄＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２９、３９８１−３９９０（１９８４）記載）が挙げられる。
上記の方法として本発明に用いられるセルロース混合酸エステル化合物の製造方法としては、（１）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルを一旦製造したのち、残りの水酸基に前記一般式（Ｉ）で表される芳香族アシル基を導入する方法（２）セルロースに直接に、脂肪族カルボン酸と芳香族カルボン酸の混合酸無水物を反応させる方法、などがあげられる。
前者においては、セルロース脂肪酸エステル又はジエステルの製造方法自体は周知の方法であるが、これにさらに芳香族アシル基を導入する後段の反応は、該芳香族アシル基の種類によって異なるが好ましくは反応温度０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃で、反応時間は、好ましくは３０分以上、より好ましくは３０〜３００分で行われる。
また後者の混合酸無水物を用いる方法も、反応条件は混合酸無水物の種類によって変わるが、好ましくは反応温度０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃、反応時間は好ましくは３０〜３００分、より好ましくは６０〜２００分である。上記のいずれの反応も、反応を無溶媒又は溶媒中のいずれで行っても良いが、好ましくは溶媒を用いて行われる。溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、ジオキサンなどを用いることができる。
【００１６】
芳香族アシル基の置換度はセルロース脂肪酸モノエステルの場合、残存する水酸基に対して０．１〜２．０である。また、セルロース脂肪酸ジエステル（二酢酸セルロース）の場合、残存する水酸基に対して０．１〜１．０である。
以下に一般式で表わされる芳香族アシル基の具体例を示すが、本発明はこれに限定するものではない。
【００１７】
【化３】
【００１８】
【化４】
【００１９】
【化５】
【００２０】
【化６】
【００２１】
本発明のセルロース混合酸エステル化合物は、グルコース単位が長い鎖状に縮重合してできているセルロースのもつ３つの水酸基の一部を前記芳香族アシル基にて置換した化合物である。どの水酸基を置換しているかは明確ではないが、置換度はＮＭＲにて確認することができる。
【００２２】
［セルロース混合酸エステルフイルム］
本発明のセルロース混合酸エステル化合物を用いたフイルムの製造法において説明する。セルロース混合酸エステル化合物には、セルロース脂肪酸エステルを混合して用いても良い。但し、混合物中には、セルロース混合酸エステル化合物が５０％以上含まれることが好ましく、６０％以上含まれることがより好ましく、７０％以上含まれることがさらに好ましい。８０％以上含まれることがさらにまた好ましく、９０％以上含まれることが最も好ましい。
セルロース混合酸エステル化合物は、ソルベントキャスト法またはメルトキャスト法で製造する。ソルベルト法の方が、メルトキャスト法よりも好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロース混合酸エステル化合物を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を調製し、溶液を支持体上に流延し、乾燥することによりフイルムを製造する。
【００２３】
有機溶媒としては、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、炭化水素あるいはこれらの混合物が用いられる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１乃至７であることが好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子または塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。炭化水素の水素原子がハロゲン原子で置換されている割合は、１０乃至９０モル％であることが好ましく、ジクロロメタン、ジクロロエタンおよびクロロベンゼンが含まれる。
エーテルの炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、３乃至８であることがさらに好ましい。エーテルは、環状構造を有していてもよく、二つ以上のエーテル結合（−Ｏ−）を有していてもよい。エーテルの例には、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、１，３，５−トリオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
【００２４】
ケトンの炭素原子数は、３乃至１２であることが好ましく、３乃至８であることがさらに好ましい。ケトンは、環状構造を有していてもよく、二つ以上のケトン基（−ＣＯ−）を有していてもよい。ケトンの例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルペンチルケトン、シクロプタノン、メチルヘキシルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、１，４−シクロヘキサンジオンおよびアセトフェノンが含まれる。
エステルの炭化原子数は、２乃至１２であることが好ましく、３乃至８であることがさらに好ましい。エステルは、環状構造を有していてもよく、二つ以上のエステル結合（−ＣＯＯ−）を有していてもよい。エステル類の例には、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、メチルプロピオネート、プロピルバレレート、γ−ブチロラクトンおよびジアセトキシエタンが含まれる。
【００２５】
アルコールの炭素原子は、１乃至８であることが好ましい。アルコールは、環状構造を有していてもよく、二つ以上の水酸基（−ＯＨ）を有していてもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノールおよび２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールが含まれる。
炭化水素の炭素原子数は、５乃至１０であることが好ましい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。
エーテル、ケトン、エステルおよびアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれか二種類以上を有する化合物も溶媒として用いることができる。二種類以上の官能基を有する溶剤の例には、２−エトキシ酢酸エチル、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、アセト酢酸エチルおよびアセト酢酸メチルが含まれる。
【００２６】
セルロース混合酸エステル化合物は、溶媒の種類に応じて（１）常温処理、（２）高温処理、（３）低温処理および（４）低温→高温処理のいずれかの方法によって溶解することができる。（２）と（４）の高温処理においては、さらに高圧条件（好ましくは１０Ｐａ・Ｓ〜２０００Ｐａ・Ｓ、さらに好ましくは３０Ｐａ・Ｓ〜４００Ｐａ・Ｓ）を併用することが好ましい。
（１）の常温処理の温度は、一般に−１０乃至４０℃である。
（２）および（４）の高温処理の温度は、一般に７０乃至２４０℃、好ましくは８０乃至２２０℃、さらに好ましくは１００乃至２００℃、最も好ましくは１００乃至１９０℃である。
（３）および（４）の低温処理の温度は、一般に−１００乃至−１０℃、好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃。
【００２７】
フイルム製造に用いるセルロース混合酸エステル溶液（ドープ）の濃度は、１０乃至４０質量％であることが好ましく、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。
ドープ中には、様々な添加剤を加えることができる。セルロース混合酸エステル化合物からなるフイルムの添加剤には、可塑剤（例、リン酸エステル、カルボン酸エステル）、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤）、紫外線吸収剤、着色剤、微粒子、熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤や滑剤の他に本発明のセルロース混合酸エステルフイルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション調整剤としてさらに添加して使用することができる。
【００２８】
ドープを流延する支持体としては、ドラムまたはバンドが用いられる。ドラムまたはバンドの表面は、予め鏡面仕上げしておくことが好ましい。ドラムまたはバンドの表面温度を予め低温（１０℃以下）にして、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮してもよい（特公平５−１７８４４号公報記載）。
二種類以上のドープを共流延して、多層構造のセルロース混合酸エステルフイルムを製造できる。二種類以上のドープとしては、一般に低粘度と高粘度との二種類のドープを使用する。
セルロース混合酸エステルフイルムとその上に設ける機能層（例、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層）とを共流延することもできる。
【００２９】
支持体から剥ぎ取ったフイルムは、さらに乾燥する。フイルム中の残留溶媒量は２質量％以下であることが好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましく、０．４質量％以下であることが最も好ましい。乾燥工程では、ロール状フイルムは幅方向に収縮しようとする。幅方向の両端をクリップで保持して乾燥するテンター方式（例えば、特開昭６２−４６６２５号公報記載）が好ましい。
作製したフイルムは、必要に応じて延伸処理することができる。
セルロース混合酸エステルフイルムの厚さは、５乃至５００μｍであることが好ましく、４０乃至２５０μｍであることが好ましく、２０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
作製したセルロース混合酸エステルフイルムには、さらに塗布により、下塗り層、帯電防止層、ハレーション防止層や保護層を設けてもよい。
【００３０】
本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、光学的等方性が高いとの特徴がある。光学的等方性としては、面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値が小さいことが重要である。
面内のレターデーション（Ｒｅ）の測定では、エリプソメーター（偏光解析計ＡＥＰ−１００ 商品名：島津製作所（株）製）を用いて、波長６３２．８ｎｍにおける面内の縦横の屈折率差を求める。面内のレターデーション（Ｒｅ）は、得られた屈折率差にフイルム膜厚さを乗じた値であり、下記の式で求められる。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、横方向の屈折率であり；ｎｙは、縦方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さ（ｎｍ）である。
面内のレターデーション（Ｒｅ）が小さいほど、面内方向の光学的等方性が高い（光学異方性がない）ことを意味する。面内のレターデーション（Ｒｅ）は、０乃至３００ｎｍであることが好ましく、０乃至２００ｎｍであることがより好ましく、０乃至１００ｎｍであることがさらに好ましく、０乃至５０ｎｍであることがさらにまた好ましく、０乃至２０ｎｍであることが最も好ましい。
フイルムの厚さを１００μｍに換算した場合の面内のレターデーション（Ｒｅ）も、上記の数値範囲に含まれることが好ましい。
【００３１】
フイルムの厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、波長６３２．８ｎｍにおける厚さ方向の複屈折にフイルム膜厚さを乗じた値であり、下記の式で求められる。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘは、横方向の屈折率；ｎｙは、縦方向の屈折率；ｎｚは、厚さ方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さ（ｎｍ）である。
厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が小さいほど、厚さ方向の光学的等方性が高い（光学異方性がない）ことを示す。厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、０乃至６００ｎｍであることが好ましく、０乃至４００ｎｍであることがより好ましく、０乃至３００ｎｍであることがさらに好ましく、０乃至１００ｎｍであることがさらにまた好ましく、０乃至７０ｎｍであることが最も好ましい。
フイルムの厚さを１００μｍに換算した場合の厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）も、上記の数値範囲に含まれることが好ましい。
【００３２】
本発明に従うセルロース混合酸エステルは、疎水性が高く耐水性が優れているとの特徴もある。フイルムの含水量（含水率）の測定は、ＫＦ（カールフィッシャー法）を用いることができる。（三菱化学（株）製カールフィッシャー水分測定装置ＣＡ−０５、水分気化装置ＶＡ−０５、内部液：アクアミクロンＣＸＵ、外部液：アクアミクロンＡＸ、窒素気流量：２００ｍｌ／ｍｉｎ、加熱温度１５０℃）
２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した試料を０．６ｇ〜１．０ｇ精秤し測定に供し、得られた水分量から含水量を求めることができる。規格として１．４±０．３％であることが好ましい。
【００３３】
本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、寸度安定性が優れているとの特徴もある。寸度変化（収縮）率は元長に対する変化率（％）で表わす。
フイルムの表面２ヶ所に十文字型の印を付し、顕微鏡で、熱処理（９０℃、１２０時間）を施した前後の印間の距離を測定し、寸法収縮率を算出する。
寸度変化率が０〜−０．０６（％）であることが好ましい。
【００３４】
本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、光学材料の保護膜または支持体として好ましく用いることができる。光学材料としては、偏光膜を有する偏光板と光学的異方性層を有する位相差板とが代表的である。
【００３５】
偏光板（直線偏光板）は、偏光膜の両側に二枚の保護膜を配置した構成を有する。
偏光板には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜と染料系偏光膜は、ポリビニルアルコールフイルムを用いて製造する。
偏光板の保護膜としては、従来からセルローストリアセテートフイルムが一般に用いられてきた。本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、偏光板の少なくとも一方の保護膜として好ましく用いることができる。
保護膜の表面に表面処理してもよい。表面処理には、ハードコート処理、防曇処理、防眩処理および反射防止処理が含まれる。
【００３６】
位相差板の光学的異方性層は、延伸複屈折率フイルムまたは液晶性分子から形成できる。
延伸複屈折率フイルムは、ポリマーフイルムの延伸により得られる。ポリマーフイルムとしては、ポリカーボネートフイルムやポリスルホンフイルムのような複屈折率が高い合成ポリマーフイルムが一般に用いられる。
棒状液晶性分子またはディスコティック液晶性分子を用いて、光学的異方性層を形成することもできる。液晶性分子は、多様な配向形態があるため、ポリマーフイルムの場合よりも、容易に任意の光学的異方性を達成できる。液晶性分子に重合性基を導入し、重合により液晶性分子の配向状態を固定することが好ましい。
位相差板は、液晶セルの光学補償シート、λ／４板あるいはλ／２板のような様々な用途がある。
【００３７】
光学補償シートでは、液晶セルの光学的性質（特に液晶セルの表示モード）に応じて、光学的異方性層の光学的性質（液晶性分子から形成する場合は、液晶性分子の配向状態）を決定する。λ／４板あるいはλ／２板の用途においては、光学的異方性層の面内のレターデーション（Ｒｅ）を波長（λ）の１／４または１／２となるように調節する。
光学補償シートと前記の偏光板とを一体化した楕円偏光板を作製することもできる。また、λ／４板と前記の偏光板とを積層すると、円偏光板が得られる。楕円偏光板または円偏光板においては、光学補償シートの支持体と、偏光板の保護膜とを一枚のフイルムで共通化することもできる。本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、そのように共通化された一枚のフイルムにも使用することができる。
【００３８】
【実施例】
次に、本発明を実施例に基づいて説明する。以下に説明する実施例は、ここでの教示を更に詳しく説明するものであり、本発明を限定するものではない。
【００３９】
参考例１
［例示芳香族アシル基１を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた２００ｍｌ三ッ口フラスコに安息香酸６．７ｇ（０．０５５ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸１１．６ｇ（０．０５５ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース１２．３ｇ（０．０５ｍｏｌ）とジクロロメタン５０ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン５０ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール５００ｍｌにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル１とする。
収量１６．２ｇ（９２％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．０であった。
【００４０】
参考例２
［例示芳香族アシル基６を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた２００ｍｌ三ッ口フラスコに１−ナフトエ酸８ｇ（０．０４７ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸９．８ｇ（０．０４７ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース１０．４ｇ（０．０４２ｍｏｌ）とジクロロメタン５０ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン５０ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール５００ｍｌにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル６とする。
収量１５．８ｇ（９４％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、０．９８であった。
【００４１】
参考例３
［例示芳香族アシル基５を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｍ−アニス酸１４．８ｇ（０．０９８ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸２０．６ｇ（０．０９８ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース２４．１ｇ（０．０９８ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール１リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル５とする。
収量３５．８ｇ（９６％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．０であった。
【００４２】
参考例４
［例示芳香族アシル基３を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｍ−トルイル酸２２．５ｇ（０．１６５ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸３４．８ｇ（０．１６５ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース３６．９ｇ（０．１５ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール２リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル３とする。
収量５３．６ｇ（９８％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、０．９９であった。
【００４３】
参考例５
［例示芳香族アシル基２８を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｍ−アセトアミノ安息香酸１７．９ｇ（０．１ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸２１ｇ（０．１ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで二酢酸セルロース２４．６ｇ（０．１ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール２リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル２８とする。
収量３８．７ｇ（９５％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．０であった。
【００４４】
参考例６
［例示芳香族アシル基８を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｐ−クロロ安息香酸１２．５ｇ（０．０８ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸１６．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース１９．７ｇ（０．０８ｍｏｌ）とジクロロメタン８０ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン８０ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール１．５リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル８とする。
収量２９．６ｇ（９６％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、０．９８であった。
【００４５】
参考例７
［例示芳香族アシル基１８を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｐ−アセチル安息香酸３２．８ｇ（０．２ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸４２ｇ（０．２ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、一酢酸セルロース２０．４ｇ（０．１ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール２リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル１８とする。
収量４７．１ｇ（９５％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．９９であった。
【００４６】
実施例１〜７
参考例１〜７で得られたセルロース混合酸エステルをジクロロメタンに溶解し、１９．０質量％の溶液（ドープ）を調製した。得られた溶液を支持体上に流延し、溶媒を蒸発させて、厚さ５０μｍのセルロース混合酸エステルフイルムを形成した。得られたフイルムはそれぞれ白濁することなく透明であった。また、得られたフイルムを２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿させて水分量を求めた。
実施例１〜７の結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
【００４８】
表１の結果から明らかなように、本発明のフイルムはいずれも透明なフイルムが形成され、しかもセルローストリアセテートフイルムに比べ、含水量が小さく、寸度変化率も小さいことが判る。
【００４９】
【発明の効果】
本発明のセルロース混合酸エステル化合物を含む光学フイルムは、透明性、耐水性、寸度安定性に優れる。またこのフイルムの作製においてはドープの調製が容易であり、光学的等方性の優れたフイルムの形成を可能にする。
【発明の属する技術分野】
本発明は、セルロース混合酸エステル化合物及びそれを用いたフイルムに関する。特に本発明はセルロースの脂肪族酸と芳香族酸との混合エステル化合物及びそれを用いたフイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
セルロースエステルは、セルロースアシレートに代表されるように透明性、強靭性、難燃性及び光学的等方性から各種の写真材料や光学材料に用いられてきた。特に、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）は代表的な写真感光材料の支持体として利用されている。また、セルローストリアセテートフイルムはその光学的等方性から近年市場の拡大している液晶表示装置にも用いられている。液晶表示装置における具体的な用途としては、偏光板の保護フイルム、光学補償シートの支持体及びカラーフィルターが代表的である。セルローストリアセテートフイルムを製膜するには溶液製膜法が用いられている。
すなわち、セルロースアセテートを溶媒中に溶解した溶液（ドープ）を支持体上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。溶液製膜法は均一な面状、光学的等方性を得るのに特に適した方法であるが、近年の厳しい光学的特性に関する要求、特に光学的等方性、耐水性、寸度安定性などの要求を満足させることは困難であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、透明性の優れたフイルム及びそれを形成可能なセルロースエステル化合物を提供することである。別の本発明の目的は耐水性に優れたフイルム及びそれを形成可能なセルロースエステル化合物を提供することにある。さらに別の本発明の目的は寸度安定性に優れたフイルム及びそれを形成可能なセルロースエステル化合物を提供することにある。
【０００４】
上記課題は、下記手段によって達成された。
（１）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルの水酸基の水素原子を、置換もしくは無置換の芳香族アシル基で置換して得られた芳香族アシル基の置換度が、セルロース脂肪酸モノエステルでは残存する水酸基に対して０．１〜２．０、セルロース脂肪酸ジエステルでは残存する水酸基に対して０．１〜１．０であるセルロース混合酸エステル化合物を含有する光学フィルム。
（２）前記のセルロース混合酸エステル化合物の置換もしくは無置換の芳香族アシル基が下記一般式（Ｉ）で表わされる（１）項記載の光学フィルム。
【０００５】
【化２】
式中、Ｘは水素原子または置換基を表わす。ｎは０または１〜５の整数を表わす。ｎが２以上の時、互いに連結して縮合多環を形成してもよい。
（３）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルの脂肪族アシル基の炭素原子数が２〜２０であることを特徴とする（１）又は（２）項に記載の光学フィルム。
（４）前記のセルロース混合酸エステル化合物の芳香族アシル基の置換度が、セルロースを構成するグルコース単位が有する３個の水酸基に対して２．０以下である（１）〜（３）項のいずれかに記載の光学フィルム。
（５）前記のセルロース混合酸エステル化合物を有機溶媒で溶解して調製された溶液（ドープ）を支持体上に流延し、溶媒を蒸発せしめた（１）〜（４）項のいずれかに記載の光学フイルム。
本発明において芳香族アシル基の置換度とは、セルロース混合酸エステル化合物中の、脂肪族アシル基を導入した水酸基でない基に対する芳香族アシル基を導入した水酸基の比をいう。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられるセルロースエステルは、前記のように脂肪酸アシル基と置換もしくは無置換の芳香族アシル基とを有する混合酸エステルである。ここで置換もしくは無置換の芳香族アシル基としては前記の一般式（Ｉ）で表される基があげられる。
まず、一般式（Ｉ）について説明する。Ｘは置換基で、置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基およびアリールオキシスルホニル基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)２、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｐ(−Ｏ−Ｒ)２、−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)２、−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)２、−Ｏ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)２−Ｏ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)２、−ＮＨ−ＰＨ(＝Ｏ)−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｒ)(−Ｏ−Ｒ)、−ＮＨ−Ｐ(＝Ｏ)(−Ｏ−Ｒ)２、−ＳｉＨ２−Ｒ、−ＳｉＨ(−Ｒ)２、−Ｓｉ(−Ｒ)３、−Ｏ−ＳｉＨ２−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ(−Ｒ)２および−Ｏ−Ｓｉ(−Ｒ)３が含まれる。
上記Ｒは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基である。置換基の数は、一個乃至五個であることが好ましく、一個乃至四個であることがより好ましく、一個乃至三個であることがさらに好ましく、一個または二個であることが最も好ましい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基およびウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基およびカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基およびアリールオキシ基がさらに好ましく、ハロゲン原子、アルキル基およびアルコキシ基が最も好ましい。
【０００８】
上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が含まれる。
上記アルキル基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがより好ましく、１乃至６であることがさらに好ましく、１乃至４であることが最も好ましい。アルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチルおよび２−エチルヘキシルが含まれる。
上記アルコキシ基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがより好ましく、１乃至６であることがさらに好ましく、１乃至４であることが最も好ましい。アルコキシ基は、さらに別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ、ブチルオキシ、ヘキシルオキシおよびオクチルオキシが含まれる。
【０００９】
上記アリール基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。アリール基の例には、フェニルおよびナフチルが含まれる。
上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシおよびナフトキシが含まれる。
上記アシル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。アシル基の例には、ホルミル、アセチルおよびベンゾイルが含まれる。
上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミドおよびベンズアミドが含まれる。
上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミドおよびｐ−トルエンスルホンアミドが含まれる。
上記ウレイド基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイドが含まれる。
【００１０】
上記アラルキル基の炭素原子数は、７乃至２０であることが好ましく、７乃至１２であることがさらに好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル、フェネチルおよびナフチルメチルが含まれる。
上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルが含まれる。
上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７乃至２０であることが好ましく、７乃至１２であることがさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニルが含まれる。
上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８乃至２０であることが好ましく、８乃至１２であることがさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニルが含まれる。
上記カルバモイル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイルおよびＮ−メチルカルバモイルが含まれる。
上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下であることが好ましく、１２以下であることがさらに好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイルおよびＮ−メチルスルファモイルが含まれる。
上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシおよびベンゾイルオキシが含まれる。
【００１１】
上記アルケニル基の炭素原子数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、アリルおよびイソプロペニルが含まれる。
上記アルキニル基の炭素原子数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがさらに好ましい。アルキニル基の例には、チエニルが含まれる。
上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１２であることがさらに好ましい。
上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好ましく、６乃至１２であることがさらに好ましい。
【００１２】
次に、上記のセルロース混合酸エステル中脂肪酸エステル残基において、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等があげられる。好ましくはアセチル、プロピオニル及びブチリルであり、特に好ましいのはアセチルである。本発明において前記脂肪族アシル基とはさらに置換基を有するものも包含する意味であり、置換基としては例えば前記の一般式（Ｉ）のＸとして例示したものがあげられる。
【００１３】
また、一般式（Ｉ）において芳香族環に置換する置換基Ｘの数（ｎ）は０または１〜５個であり、好ましくは１〜３個で、特に好ましいのは１又は２個である。
【００１４】
更に、芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えばナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリンなど）を形成してもよい。
一般式（Ｉ）で表される芳香族アシル基の具体例は下記（化３）に示す通りであるが、好ましいのは、Ｎｏ．１、３、５、６、８、１８、２８、より好ましいのはＮｏ．１、３、６である。
【００１５】
次に、セルロースの水酸基への芳香族アシル基の置換は、一般的には芳香族カルボン酸クラロイドあるいは芳香族カルボン酸から誘導される対称酸無水物及び混合酸無水物を用いる方法等が挙げられる。特に好ましいのは芳香族カルボン酸から誘導した酸無水物を用いる方法（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ＡｐｐｌｉｅｄＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｖｏｌ．２９、３９８１−３９９０（１９８４）記載）が挙げられる。
上記の方法として本発明に用いられるセルロース混合酸エステル化合物の製造方法としては、（１）セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルを一旦製造したのち、残りの水酸基に前記一般式（Ｉ）で表される芳香族アシル基を導入する方法（２）セルロースに直接に、脂肪族カルボン酸と芳香族カルボン酸の混合酸無水物を反応させる方法、などがあげられる。
前者においては、セルロース脂肪酸エステル又はジエステルの製造方法自体は周知の方法であるが、これにさらに芳香族アシル基を導入する後段の反応は、該芳香族アシル基の種類によって異なるが好ましくは反応温度０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃で、反応時間は、好ましくは３０分以上、より好ましくは３０〜３００分で行われる。
また後者の混合酸無水物を用いる方法も、反応条件は混合酸無水物の種類によって変わるが、好ましくは反応温度０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃、反応時間は好ましくは３０〜３００分、より好ましくは６０〜２００分である。上記のいずれの反応も、反応を無溶媒又は溶媒中のいずれで行っても良いが、好ましくは溶媒を用いて行われる。溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、ジオキサンなどを用いることができる。
【００１６】
芳香族アシル基の置換度はセルロース脂肪酸モノエステルの場合、残存する水酸基に対して０．１〜２．０である。また、セルロース脂肪酸ジエステル（二酢酸セルロース）の場合、残存する水酸基に対して０．１〜１．０である。
以下に一般式で表わされる芳香族アシル基の具体例を示すが、本発明はこれに限定するものではない。
【００１７】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
本発明のセルロース混合酸エステル化合物は、グルコース単位が長い鎖状に縮重合してできているセルロースのもつ３つの水酸基の一部を前記芳香族アシル基にて置換した化合物である。どの水酸基を置換しているかは明確ではないが、置換度はＮＭＲにて確認することができる。
【００２２】
［セルロース混合酸エステルフイルム］
本発明のセルロース混合酸エステル化合物を用いたフイルムの製造法において説明する。セルロース混合酸エステル化合物には、セルロース脂肪酸エステルを混合して用いても良い。但し、混合物中には、セルロース混合酸エステル化合物が５０％以上含まれることが好ましく、６０％以上含まれることがより好ましく、７０％以上含まれることがさらに好ましい。８０％以上含まれることがさらにまた好ましく、９０％以上含まれることが最も好ましい。
セルロース混合酸エステル化合物は、ソルベントキャスト法またはメルトキャスト法で製造する。ソルベルト法の方が、メルトキャスト法よりも好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロース混合酸エステル化合物を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を調製し、溶液を支持体上に流延し、乾燥することによりフイルムを製造する。
【００２３】
有機溶媒としては、ハロゲン化炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、アルコール、炭化水素あるいはこれらの混合物が用いられる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１乃至７であることが好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子または塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。炭化水素の水素原子がハロゲン原子で置換されている割合は、１０乃至９０モル％であることが好ましく、ジクロロメタン、ジクロロエタンおよびクロロベンゼンが含まれる。
エーテルの炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、３乃至８であることがさらに好ましい。エーテルは、環状構造を有していてもよく、二つ以上のエーテル結合（−Ｏ−）を有していてもよい。エーテルの例には、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、１，３，５−トリオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
【００２４】
ケトンの炭素原子数は、３乃至１２であることが好ましく、３乃至８であることがさらに好ましい。ケトンは、環状構造を有していてもよく、二つ以上のケトン基（−ＣＯ−）を有していてもよい。ケトンの例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルペンチルケトン、シクロプタノン、メチルヘキシルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、１，４−シクロヘキサンジオンおよびアセトフェノンが含まれる。
エステルの炭化原子数は、２乃至１２であることが好ましく、３乃至８であることがさらに好ましい。エステルは、環状構造を有していてもよく、二つ以上のエステル結合（−ＣＯＯ−）を有していてもよい。エステル類の例には、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、メチルプロピオネート、プロピルバレレート、γ−ブチロラクトンおよびジアセトキシエタンが含まれる。
【００２５】
アルコールの炭素原子は、１乃至８であることが好ましい。アルコールは、環状構造を有していてもよく、二つ以上の水酸基（−ＯＨ）を有していてもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノールおよび２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールが含まれる。
炭化水素の炭素原子数は、５乃至１０であることが好ましい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。
エーテル、ケトン、エステルおよびアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＨ）のいずれか二種類以上を有する化合物も溶媒として用いることができる。二種類以上の官能基を有する溶剤の例には、２−エトキシ酢酸エチル、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、アセト酢酸エチルおよびアセト酢酸メチルが含まれる。
【００２６】
セルロース混合酸エステル化合物は、溶媒の種類に応じて（１）常温処理、（２）高温処理、（３）低温処理および（４）低温→高温処理のいずれかの方法によって溶解することができる。（２）と（４）の高温処理においては、さらに高圧条件（好ましくは１０Ｐａ・Ｓ〜２０００Ｐａ・Ｓ、さらに好ましくは３０Ｐａ・Ｓ〜４００Ｐａ・Ｓ）を併用することが好ましい。
（１）の常温処理の温度は、一般に−１０乃至４０℃である。
（２）および（４）の高温処理の温度は、一般に７０乃至２４０℃、好ましくは８０乃至２２０℃、さらに好ましくは１００乃至２００℃、最も好ましくは１００乃至１９０℃である。
（３）および（４）の低温処理の温度は、一般に−１００乃至−１０℃、好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃。
【００２７】
フイルム製造に用いるセルロース混合酸エステル溶液（ドープ）の濃度は、１０乃至４０質量％であることが好ましく、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。
ドープ中には、様々な添加剤を加えることができる。セルロース混合酸エステル化合物からなるフイルムの添加剤には、可塑剤（例、リン酸エステル、カルボン酸エステル）、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤）、紫外線吸収剤、着色剤、微粒子、熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤や滑剤の他に本発明のセルロース混合酸エステルフイルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション調整剤としてさらに添加して使用することができる。
【００２８】
ドープを流延する支持体としては、ドラムまたはバンドが用いられる。ドラムまたはバンドの表面は、予め鏡面仕上げしておくことが好ましい。ドラムまたはバンドの表面温度を予め低温（１０℃以下）にして、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮してもよい（特公平５−１７８４４号公報記載）。
二種類以上のドープを共流延して、多層構造のセルロース混合酸エステルフイルムを製造できる。二種類以上のドープとしては、一般に低粘度と高粘度との二種類のドープを使用する。
セルロース混合酸エステルフイルムとその上に設ける機能層（例、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層）とを共流延することもできる。
【００２９】
支持体から剥ぎ取ったフイルムは、さらに乾燥する。フイルム中の残留溶媒量は２質量％以下であることが好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましく、０．４質量％以下であることが最も好ましい。乾燥工程では、ロール状フイルムは幅方向に収縮しようとする。幅方向の両端をクリップで保持して乾燥するテンター方式（例えば、特開昭６２−４６６２５号公報記載）が好ましい。
作製したフイルムは、必要に応じて延伸処理することができる。
セルロース混合酸エステルフイルムの厚さは、５乃至５００μｍであることが好ましく、４０乃至２５０μｍであることが好ましく、２０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
作製したセルロース混合酸エステルフイルムには、さらに塗布により、下塗り層、帯電防止層、ハレーション防止層や保護層を設けてもよい。
【００３０】
本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、光学的等方性が高いとの特徴がある。光学的等方性としては、面内のレターデーション（Ｒｅ）および厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値が小さいことが重要である。
面内のレターデーション（Ｒｅ）の測定では、エリプソメーター（偏光解析計ＡＥＰ−１００ 商品名：島津製作所（株）製）を用いて、波長６３２．８ｎｍにおける面内の縦横の屈折率差を求める。面内のレターデーション（Ｒｅ）は、得られた屈折率差にフイルム膜厚さを乗じた値であり、下記の式で求められる。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、横方向の屈折率であり；ｎｙは、縦方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さ（ｎｍ）である。
面内のレターデーション（Ｒｅ）が小さいほど、面内方向の光学的等方性が高い（光学異方性がない）ことを意味する。面内のレターデーション（Ｒｅ）は、０乃至３００ｎｍであることが好ましく、０乃至２００ｎｍであることがより好ましく、０乃至１００ｎｍであることがさらに好ましく、０乃至５０ｎｍであることがさらにまた好ましく、０乃至２０ｎｍであることが最も好ましい。
フイルムの厚さを１００μｍに換算した場合の面内のレターデーション（Ｒｅ）も、上記の数値範囲に含まれることが好ましい。
【００３１】
フイルムの厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、波長６３２．８ｎｍにおける厚さ方向の複屈折にフイルム膜厚さを乗じた値であり、下記の式で求められる。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式中、ｎｘは、横方向の屈折率；ｎｙは、縦方向の屈折率；ｎｚは、厚さ方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さ（ｎｍ）である。
厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が小さいほど、厚さ方向の光学的等方性が高い（光学異方性がない）ことを示す。厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、０乃至６００ｎｍであることが好ましく、０乃至４００ｎｍであることがより好ましく、０乃至３００ｎｍであることがさらに好ましく、０乃至１００ｎｍであることがさらにまた好ましく、０乃至７０ｎｍであることが最も好ましい。
フイルムの厚さを１００μｍに換算した場合の厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）も、上記の数値範囲に含まれることが好ましい。
【００３２】
本発明に従うセルロース混合酸エステルは、疎水性が高く耐水性が優れているとの特徴もある。フイルムの含水量（含水率）の測定は、ＫＦ（カールフィッシャー法）を用いることができる。（三菱化学（株）製カールフィッシャー水分測定装置ＣＡ−０５、水分気化装置ＶＡ−０５、内部液：アクアミクロンＣＸＵ、外部液：アクアミクロンＡＸ、窒素気流量：２００ｍｌ／ｍｉｎ、加熱温度１５０℃）
２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した試料を０．６ｇ〜１．０ｇ精秤し測定に供し、得られた水分量から含水量を求めることができる。規格として１．４±０．３％であることが好ましい。
【００３３】
本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、寸度安定性が優れているとの特徴もある。寸度変化（収縮）率は元長に対する変化率（％）で表わす。
フイルムの表面２ヶ所に十文字型の印を付し、顕微鏡で、熱処理（９０℃、１２０時間）を施した前後の印間の距離を測定し、寸法収縮率を算出する。
寸度変化率が０〜−０．０６（％）であることが好ましい。
【００３４】
本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、光学材料の保護膜または支持体として好ましく用いることができる。光学材料としては、偏光膜を有する偏光板と光学的異方性層を有する位相差板とが代表的である。
【００３５】
偏光板（直線偏光板）は、偏光膜の両側に二枚の保護膜を配置した構成を有する。
偏光板には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜と染料系偏光膜は、ポリビニルアルコールフイルムを用いて製造する。
偏光板の保護膜としては、従来からセルローストリアセテートフイルムが一般に用いられてきた。本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、偏光板の少なくとも一方の保護膜として好ましく用いることができる。
保護膜の表面に表面処理してもよい。表面処理には、ハードコート処理、防曇処理、防眩処理および反射防止処理が含まれる。
【００３６】
位相差板の光学的異方性層は、延伸複屈折率フイルムまたは液晶性分子から形成できる。
延伸複屈折率フイルムは、ポリマーフイルムの延伸により得られる。ポリマーフイルムとしては、ポリカーボネートフイルムやポリスルホンフイルムのような複屈折率が高い合成ポリマーフイルムが一般に用いられる。
棒状液晶性分子またはディスコティック液晶性分子を用いて、光学的異方性層を形成することもできる。液晶性分子は、多様な配向形態があるため、ポリマーフイルムの場合よりも、容易に任意の光学的異方性を達成できる。液晶性分子に重合性基を導入し、重合により液晶性分子の配向状態を固定することが好ましい。
位相差板は、液晶セルの光学補償シート、λ／４板あるいはλ／２板のような様々な用途がある。
【００３７】
光学補償シートでは、液晶セルの光学的性質（特に液晶セルの表示モード）に応じて、光学的異方性層の光学的性質（液晶性分子から形成する場合は、液晶性分子の配向状態）を決定する。λ／４板あるいはλ／２板の用途においては、光学的異方性層の面内のレターデーション（Ｒｅ）を波長（λ）の１／４または１／２となるように調節する。
光学補償シートと前記の偏光板とを一体化した楕円偏光板を作製することもできる。また、λ／４板と前記の偏光板とを積層すると、円偏光板が得られる。楕円偏光板または円偏光板においては、光学補償シートの支持体と、偏光板の保護膜とを一枚のフイルムで共通化することもできる。本発明に従うセルロース混合酸エステルフイルムは、そのように共通化された一枚のフイルムにも使用することができる。
【００３８】
【実施例】
次に、本発明を実施例に基づいて説明する。以下に説明する実施例は、ここでの教示を更に詳しく説明するものであり、本発明を限定するものではない。
【００３９】
参考例１
［例示芳香族アシル基１を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた２００ｍｌ三ッ口フラスコに安息香酸６．７ｇ（０．０５５ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸１１．６ｇ（０．０５５ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース１２．３ｇ（０．０５ｍｏｌ）とジクロロメタン５０ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン５０ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール５００ｍｌにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル１とする。
収量１６．２ｇ（９２％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．０であった。
【００４０】
参考例２
［例示芳香族アシル基６を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた２００ｍｌ三ッ口フラスコに１−ナフトエ酸８ｇ（０．０４７ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸９．８ｇ（０．０４７ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース１０．４ｇ（０．０４２ｍｏｌ）とジクロロメタン５０ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン５０ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール５００ｍｌにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル６とする。
収量１５．８ｇ（９４％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、０．９８であった。
【００４１】
参考例３
［例示芳香族アシル基５を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｍ−アニス酸１４．８ｇ（０．０９８ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸２０．６ｇ（０．０９８ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース２４．１ｇ（０．０９８ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール１リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル５とする。
収量３５．８ｇ（９６％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．０であった。
【００４２】
参考例４
［例示芳香族アシル基３を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｍ−トルイル酸２２．５ｇ（０．１６５ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸３４．８ｇ（０．１６５ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース３６．９ｇ（０．１５ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール２リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル３とする。
収量５３．６ｇ（９８％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、０．９９であった。
【００４３】
参考例５
［例示芳香族アシル基２８を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｍ−アセトアミノ安息香酸１７．９ｇ（０．１ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸２１ｇ（０．１ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで二酢酸セルロース２４．６ｇ（０．１ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール２リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル２８とする。
収量３８．７ｇ（９５％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．０であった。
【００４４】
参考例６
［例示芳香族アシル基８を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｐ−クロロ安息香酸１２．５ｇ（０．０８ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸１６．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、二酢酸セルロース１９．７ｇ（０．０８ｍｏｌ）とジクロロメタン８０ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン８０ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール１．５リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル８とする。
収量２９．６ｇ（９６％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、０．９８であった。
【００４５】
参考例７
［例示芳香族アシル基１８を有する化合物の合成］
冷却管、攪拌機、温度計の付いた３００ｍｌ三ッ口フラスコにｐ−アセチル安息香酸３２．８ｇ（０．２ｍｏｌ）と無水トリフルオロ酢酸４２ｇ（０．２ｍｏｌ）を入れ、５０℃で３０分間攪拌溶解した。次いで、一酢酸セルロース２０．４ｇ（０．１ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｍｌを加え５時間加熱還流した。反応終了後、反応液を室温まで冷却しジクロロメタン１００ｍｌを加えた後、攪拌しながらメタノール２リットルにゆっくり注ぎ込んで再沈殿させた。得られた沈殿物を濾取し、乾燥することにより標記の目的物を得た。これをセルロース混合酸エステル１８とする。
収量４７．１ｇ（９５％）
置換度をＮＭＲより求めた結果、１．９９であった。
【００４６】
実施例１〜７
参考例１〜７で得られたセルロース混合酸エステルをジクロロメタンに溶解し、１９．０質量％の溶液（ドープ）を調製した。得られた溶液を支持体上に流延し、溶媒を蒸発させて、厚さ５０μｍのセルロース混合酸エステルフイルムを形成した。得られたフイルムはそれぞれ白濁することなく透明であった。また、得られたフイルムを２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿させて水分量を求めた。
実施例１〜７の結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
表１の結果から明らかなように、本発明のフイルムはいずれも透明なフイルムが形成され、しかもセルローストリアセテートフイルムに比べ、含水量が小さく、寸度変化率も小さいことが判る。
【００４９】
【発明の効果】
本発明のセルロース混合酸エステル化合物を含む光学フイルムは、透明性、耐水性、寸度安定性に優れる。またこのフイルムの作製においてはドープの調製が容易であり、光学的等方性の優れたフイルムの形成を可能にする。
Claims (5)
- セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルの水酸基の水素原子を、置換もしくは無置換の芳香族アシル基で置換して得られた芳香族アシル基の置換度が、セルロース脂肪酸モノエステルでは残存する水酸基に対して０．１〜２．０、セルロース脂肪酸ジエステルでは残存する水酸基に対して０．１〜１．０であるセルロース混合酸エステル化合物を含有する光学フィルム。
- 前記のセルロース混合酸エステル化合物の置換もしくは無置換の芳香族アシル基が下記一般式（Ｉ）で表わされる請求項１記載の光学フィルム。
- セルロース脂肪酸モノエステル又はジエステルの脂肪族アシル基の炭素原子数が２〜２０であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
- 前記のセルロース混合酸エステル化合物の芳香族アシル基の置換度が、セルロースを構成するグルコース単位が有する３個の水酸基に対して２．０以下である請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
- 前記のセルロース混合酸エステル化合物を有機溶媒で溶解して調製された溶液であるドープを支持体上に流延し、溶媒を蒸発せしめた請求項１〜４のいずれかに記載の光学フイルム。
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