JP4447998B2 - セルロース誘導体組成物、およびセルロース誘導体フイルム - Google Patents
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Description
一般にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、光学的異方性を大きくすることは困難であることが知られているが、前記特許文献1では添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより光学的異方性を大きくすることを可能にし、高いレターデーション値を実現している。
本発明の第2の目的は、ブリードアウトの発生のない、光学フイルムとして好ましいレターデーション値を有するセルロース誘導体フイルムを提供することにある。
[1]下記一般式(1)で表される化合物を少なくとも1種含有することを特徴とするセルロースアシレート組成物。
[2][1]に記載のセルロースアシレート組成物からなるセルロースアシレートフイルム。
まず、一般式(1)で表される化合物に関して詳細に説明する。
ここでいう置換基は、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基)、シアノ基、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基)、アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基)、アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基)を表わす。
ここでいう2価の連結基は、−O−、−CO−、−SO2NR7−、−NR7SO2−、−CONR7−、−NR7CO−、−COO−、−OCO−、またはアルキニレン基であり、最も好ましくは−CONR7−、−NR7CO−、−COO−、−OCO−、アルキニレン基である。ここで、R 7 は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す。
本発明のセルロース誘導体組成物は、セルロース誘導体と前記一般式(1)で表される化合物を少なくとも1種含む組成物である。本発明において、「セルロース誘導体」とは、セルロース化合物、および、セルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物を含むものとする。セルロース骨格を有する化合物として好ましくはセルロースエステルであり、より好ましくはセルロースアシレート(セルローストリアシレート、セルロースアシレートプロピオネート等が挙げられる。)である。また、本発明においては異なる2種類以上のセルロース誘導体を混合して用いても良い。
以下、セルロース誘導体としてセルロースアシレートを用いた場合を代表例として本発明を説明する。
(I) 1.0≦SA+SB≦3.0
(II) 0.5≦SA≦3.0
(III) 0≦SB≦1.5
まず、本発明において、セルロース誘導体の溶液を作製するに際して好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロース誘導体が溶解し流延、製膜できる範囲において、その目的が達成できる限り、非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が3〜12のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。
・酢酸メチル/アセトン/メタノール/エタノール/プロパノール(75/10/5/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/アセトン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン(75/10/5/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール(81/8/7/4、質量部)
・酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール(82/10/4/4、質量部)
・酢酸メチル/アセトン/エタノール/ブタノール(80/10/4/6、質量部)
・酢酸メチル/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール(80/10/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール(75/10/10/5/7、質量部)、
・酢酸メチル/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール(80/10/5/8、質量部)、
・酢酸メチル/アセトン/ブタノール(85/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/シクロペンタノン/アセトン/メタノール/ブタノール(60/15/15/5/6、質量部)、
・酢酸メチル/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン(70/20/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール (50/20/20/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/1、3ジオキソラン/メタノール/エタノール (70/20/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール (60/20/10/5/5、質量部)、
・酢酸メチル/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン(65/10/10/5/5/5、質量部)、
・ギ酸メチル/アセトン/酢酸エチル/エタノール/ブタノール/ヘキサン(65/10/10/5/5/5、質量部)、
・アセトン/アセト酢酸メチル/メタノール/エタノール (65/20/10/5、質量部)、
・アセトン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール (65/20/10/5、質量部)、
・アセトン/1,3ジオキソラン/エタノール/ブタノール (65/20/10/5、質量部)、
・1、3ジオキソラン/シクロヘキサノン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール(55/20/10/5/5、質量部)
などをあげることができる。
・ジクロロメタン/アセトン/メタノール/プロパノール(80/10/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン(75/10/5/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール(80/10/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール(75/10/10/5/7、質量部)、
・ジクロロメタン/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール(80/10/5/8、質量部)、
・ジクロロメタン/酢酸メチル/ブタノール(80/10/10、質量部)、
・ジクロロメタン/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン(70/20/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール(50/20/20/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/1、3ジオキソラン/メタノール/エタノール(70/20/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール(60/20/10/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン (65/10/10/5/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール(70/10/10/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/アセトン/酢酸エチル/エタノール/ブタノール/ヘキサン(65/10/10/5/5/5、質量部)、
・ジクロロメタン/アセト酢酸メチル/メタノール/エタノール(65/20/10/5、質量部)、
・ジクロロメタン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール(65/20/10/5、質量部)、
などをあげることができる。
本発明のセルロース誘導体フイルムは、本発明のセルロース誘導体組成物からなるものである。
次に、本発明のセルロース誘導体フイルムの製造方法について述べる。
また、発明協会公開技報(公技番号 2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて11頁に詳細に記載されているセルロースアシレートのイエローインデックス、透明度、熱物性(Tg、結晶化熱)なども挙げることができる。
また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行うことができ、工程数を減少できる。
本発明のセルロース誘導体フイルムは、光学フイルム、特に偏光板保護フイルム用、液晶表示装置の光学補償シート(位相差フイルムともいう)、反射型液晶表示装置の光学補償シート、ハロゲン化銀写真感光材料用支持体として有用である。
したがって本発明のフイルムの厚さはこれらの用途によって定まり、特に制限はないが、好ましくは30μm以上、より好ましくは30〜200μmである。
[合成例1:例示化合物(1)の合成]
下記スキームに従い、例示化合物(1)を合成した。
化合物(A)27.43g、化合物(B)46.52g、炭酸カリウム27.64g、N,N−ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)200mlを室温下で3時間攪拌した。反応後、酢酸エチルにて抽出操作を行い、有機層を減圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフに付し、n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1溶出分より油状物として中間体(C)を17.19g(収率59.6%)得た。
中間体(C)12.69g、シクロヘキサンジカルボン酸3.44g、クロロホルム80mlを室温下で撹拌し、ここにジシクロヘキシルカルボジイミド9.08gのTHFクロロホルム20ml溶液を内温が30℃を越えないようにゆっくりと滴下し、滴下後室温下で1時間攪拌した。反応後、析出したジシクロヘキシルウレアをろ別し、ろ液を減圧留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフに付し、さらにメタノールにて再結晶を行い、白色の結晶として例示化合物(1)を11.63g(収率81.6%)得た。また化合物の同定は1H―NMR(400MHz)により行った。
1H−NMR(CDCl3)δ1.59〜1.70(m,4H),2.22〜2.31(m,4H),2.58(m,2H),3.40(s,6H),3.60(t,4H),3.72(t,4H),3.86(t,4H),4.19(t,4H),6.90(d,4H),6.96(d,4H)
下記スキームに従い、例示化合物(2)を合成した。
化合物(E)25.63g、化合物(B)46.55g、炭酸カリウム27.64g、N,N−ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)200mlを室温下で3時間攪拌した。反応後、酢酸エチルにて抽出操作を行い、有機層を減圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフに付し、n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1溶出分より油状物として中間体(F)を16.84g(収率62.3%)得た。
中間体(F)17.84g、シクロヘキサンジカルボン酸5.17g、クロロホルム100mlを室温下で撹拌し、ここにジシクロヘキシルカルボジイミド13.62gのTHFクロロホルム30ml溶液を内温が30℃を越えないようにゆっくりと滴下し、滴下後室温下で1時間攪拌した。反応後、析出したジシクロヘキシルウレアをろ別し、ろ液を減圧留去した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフに付し、さらにメタノールにて再結晶を行い、白色の結晶として例示化合物(2)を17.94g(収率88.4%)得た。また化合物の同定は1H―NMR(400MHz)により行った。
1H−NMR(CDCl3)δ1.66〜1.78(m,4H),2.25〜2.36(m,4H),2.64(m,2H),3.82(d,4H),4.11(d,4H),4.19(d,4H),5.22(d,2H),5.32(d,2H),5.89〜6.04(m,2H),6.98(d,4H),7.12(d,4H),7.51(d,4H),7.58(d,4H)
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
酢化度60.9%のセルロースアセテート 100質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 318質量部
メタノール(第2溶媒) 47質量部
セルロースアセテート溶液474質量部にレターデーション制御(上昇)剤溶液36質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション制御剤は、セルロースアセテート100質量部に対しての表1記載の質量部添加した。
ReはKOBRA 21ADH(王子計測機器(株)製)において波長590nmの光をフイルム法線方向に入射させて測定した。Rthは前記Re、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフイルム法線方向に対して+40°傾斜した方向から波長590nmの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸(回転軸)としてフイルム法線方向に対して−40°傾斜した方向から波長590nmの光を入射させて測定したレターデーション値の計3つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に算出した。
Rth=Re × 3.6+43(式1)
の関係となり、化合物の添加量に応じたRe、Rthを発現することがわかる。これは他の公知の比較化合物を用いた場合でも同様の式が導かれると推測される。
比較化合物1を含有するフイルムは延伸倍率を変化させることによりReを発現するが、Rthはさほど変化しないことが知られている。従って、本実施例の延伸倍率(20%)より小さな延伸倍率で作成されたフイルムは比較化合物を添加することにより、
Rth≧Re × 3.6+43(式2)
の領域の光学特性を満足するフイルムとなることがわかる。
一方、
Rth<Re × 3.6+43(式3)
の領域の光学特性を満足するフイルムを得るには延伸倍率を20%より高い倍率に上げることが必要とされるが、一般にセルロースアシレートフイルムは延伸倍率を上げることが困難であることから、比較化合物によりこの領域を満足するには添加量を増やす必要がある。例外的に、表1の比較化合物2のように式3を満たす化合物も存在するが、添加量を増やすことができない等欠点を有し、より一層所望の効果を期待することは不可能である。
それに対し、一般式(1)で表される化合物を添加することにより、比較化合物を添加したフイルムでは実現できなかったより大きなRe発現性を有する(式3の領域)新規なセルロース誘導体フイルムを作製できることが分かる。
Claims (2)
- 下記一般式(1)で表される化合物を少なくとも1種含有することを特徴とするセルロースアシレート組成物。
- 請求項1に記載のセルロースアシレート組成物からなるセルロースアシレートフイルム。
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