JP4006598B2 - ペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、その製造法並びにその用途 - Google Patents

Description

技 術 分 野
本発明は、新規ペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、その製造法並びにその用途に関する。
背 景 技 術
多くの歯周病は、歯周局所の常在微生物によって惹起される一種の感染症と考えられている。その中でも、特にグラム陰性嫌気性桿菌のポルフィロモナス・ジンジバリス（Ｐｏｒｐｈｙｒｏｍｏｎａｓ ｇｉｎｇｉｂｖａｌｉｓ，以下「Ｐ．ジンジバリス」と略す。）が成人性歯周炎、急速進行性歯周炎において最も重要な病因菌であることが明かにされている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｐｅｒｉｏｄｏｎｔｏｌ．，１５，８５−９３，１９８８、同３１６−３２３，１９８８、Ｊ．Ｄｅｎｔ．Ｒｅｓ．，６３，４４１−４５１，１９８４）。近年、Ｐ．ジンジバリスが産生するプロテアーゼ群が、コラーゲンをはじめとする歯周組織成分や生体防御系に関与する血清蛋白質を分解することが知られ、Ｐ．ジンジバリスの病原性と深く関係していることが、明らかにされている（Ｇｒｅｉｎｅｒ Ｄ．，Ｍａｙｒａｎｄ Ｄ．：Ｂｉｏｌｏｇｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｓｐｅｃｉｅｓ Ｐｏｒｐｈｙｒｏｍｏｎａｓ Ｇｉｎｇｉｖａｌｉｓ，Ｅｄｉｔｅｄ ｂｙ Ｓｈａｈ Ｈ．Ｎ．，Ｍａｙｒａｎｄ Ｄ．ａｎｄ Ｇｅｎｃｏ Ｒ．Ｊ．，ｐｐ２２７−２４３，ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ，Ｂｏｃａ Ｒａｔｏｎ，Ａｎｎ Ａｒｂｏｒ，Ｌｏｎｄｏｎ，Ｔｏｋｙｏ，１９９３）。
Ｐ．ジンジバリスが産生するトリプシン様プロテアーゼ活性を有する蛋白質分解酵素には数種類が知られているが、それらのうち、リジル−ジンジパイン（Ｌｙｓ−ｇｉｎｇｉｐａｉｎ、以下「ＫＧＰ」と略すことがある。）とアルグ−ジンジパイン（Ａｒｇ−ｇｉｎｇｉｐａｉｎ、以下「ＲＧＰ」と略すことがある。）が主たる蛋白質分解酵素であり、これらの酵素は高分子キニノーゲンやフィブリノーゲンに対して高い分解活性があることが知られており、菌の定着、歯周病の発現や歯周組織の破壊に関与するものと考えられている（Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，２６９，４０６−４１１，１９９４）。
従来より、歯周病の予防及び治療には細菌の生育を阻害するような薬剤、例えば、テトラサイクリン、ミノサイクリン等の抗生物質、カミツレチンキ、ラタニアチンキ等の天然物、シクロヘキサジン、トラネキサム酸等が利用されている。しかしながら、これらの薬剤には安全性に問題があったり、不快臭を伴う等の種々の問題が残されている。また、特開平５−９７７０８号公報にはＡＴＰａｓｅ阻害剤、システインプロテアーゼ阻害剤等を有効成分とする歯周病治療剤が、特開平１１−１３９９４７号及び特開２０００−１９１４８７号公報にはマトリックスメタロプロテアーゼ阻害剤を有効成分とする口腔用組成物が開示されているが、該治療剤や該組成物の抗歯周病効果は満足のいくものではなかった。また、最近、ＲＧＰの選択的な阻害剤として、特開平１１−３３５２７４号公報記載のマラバリコンＣ、特開平１１−２２８５２６号公報記載のアルギニン誘導体が公知であり、ＫＧＰの選択的な阻害剤としては、組織培養工学，２７（９），３４３−３４７，２００１に記載のリジン誘導体が公知である。
しかしながら、これらの報告には、ＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素を同時に阻害する化合物についての記載はない。
発 明 の 開 示
本発明の目的は、ＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素を強力に阻害する活性を有し、歯周病の予防剤及び治療剤等として有用な新規化合物及びその製造法を提供することにある。
本発明の他の目的は、ＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素の新規な阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、歯周病の新規な予防方法及び治療方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、以下の記載により明らかにされるであろう。
本発明者は、歯周病の発生と進行にＰ．ジンジバリスが密接に関与していること、Ｐ．ジンジバリスの歯周病に関与する成分には蛋白質分解酵素であるＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素が寄与していることに着目し、有効な歯周病の予防剤及び治療剤を得るべく鋭意研究を重ねた。その結果、蛋白質分解酵素であるＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素の活性を強力に阻害する新規なペプチド誘導体を見出した。本発明は、かかる新知見に基づき、更に種々検討を重ねて、完成されたものである。
本発明は、以下の、ＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素に対して阻害作用を有する新規ペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩、その製造法並びにその用途を、提供するものである。
１．一般式（Ｉ）

［式中、Ｘは、−ＣＨ（ＯＨ）−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ^１は、水素原子であるか又はアミノ基の保護基を示す。Ｒ^２は、水酸基又は低級アルコキシ基を示す。Ｒ^３及びＲ^４の一方はアミノ基が保護基で保護されていてもよいリジンのＲ基側鎖を示し、Ｒ^３及びＲ^４の他方はグアニジノ基が保護基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖を示す。Ｒ^５及びＲ^６は、同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基又はアラルキル基を示す。］で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
２．一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯ−である上記項１に記載のペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
３．一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯ−であり、Ｒ^１が水素原子又は置換基を有してもよいアラルキルオキシカルボニル基であり、Ｒ^２が水酸基又は低級アルコキシ基であり、Ｒ^３及びＲ^４の一方がリジンのＲ基側鎖で、Ｒ^３及びＲ^４の他方がグアニジノ基がニトロ基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖であり、Ｒ^５及びＲ^６が、同一又は相異なって、水素原子又はアラルキル基である上記項２に記載のペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
４．一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯ−であり、Ｒ^１がベンジルオキシカルボニル基であり、Ｒ^２が水酸基又はｔ−ブトキシ基であり、Ｒ^３がリジンのＲ基側鎖であり、Ｒ^４がグアニジノ基がニトロ基で保護されたアルギニンのＲ基側鎖であり、Ｒ^５が水素原子であり、Ｒ^６がフェネチル基である上記項３に記載のペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
５．一般式（Ｉ）

［式中、Ｘは、−ＣＨ（ＯＨ）−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ^１は、水素原子であるか又はアミノ基の保護基を示す。Ｒ^２は、水酸基又は低級アルコキシ基を示す。Ｒ^３及びＲ^４の一方はアミノ基が保護基で保護されていてもよいリジンのＲ基側鎖を示し、Ｒ^３及びＲ^４の他方はグアニジノ基が保護基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖を示す。Ｒ^５及びＲ^６は、同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基又はアラルキル基を示す。］で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程（ｉ）で示される製造方法。
（ｉ）一般式（ＩＩ）

（式中、Ｒ^１及びＲ^３は前記に同じ。Ｒ^２ａは低級アルコキシ基を示す。）で表される化合物と、一般式（ＩＩＩ）

（式中、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は前記に同じ。）で表される化合物を、縮合反応させることによる、一般式（Ｉ−ａ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は前記に同じ。）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造法。
６．前記一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程（ｉｉ）で示される製造方法。
（ｉｉ）上記一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物を、酸化することによる、一般式（Ｉ−ｂ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は前記に同じ。）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造法。
７．前記一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程（ｉｉｉ）で示される製造方法。
（ｉｉｉ）上記一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物又は一般式（Ｉ−ｂ）で表される化合物を、酸処理することによる、一般式（Ｉ−ｃ）

（式中、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は前記に同じ。）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造法。
８．上記項１に記載の一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を有効成分とするアルグ−ジンジパイン及びリジル−ジンジパインの阻害剤。
９．上記項１に記載の一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を有効成分とする歯周病用薬剤。
１０．上記項１に記載の一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一種及び薬学的に許容される担体を含有する口腔用組成物。
１１．ヒトを含む哺乳動物に、上記項８に記載のアルグ−ジンジパイン及びリジル−ジンジパインの阻害剤の有効量を投与する歯周病の予防方法。
１２．ヒトを含む哺乳動物に、上記項９に記載の歯周病用薬剤の有効量を投与する歯周病の予防方法。
１３．ヒトを含む哺乳動物に、上記項１０に記載の口腔用組成物の有効量を投与する歯周病の予防方法。
１４．歯周病を有するヒトを含む哺乳動物に、上記項８に記載のアルグ−ジンジパイン及びリジル−ジンジパインの阻害剤の有効量を投与する歯周病の治療方法。
１５．歯周病を有するヒトを含む哺乳動物に、上記項９に記載の歯周病用薬剤の有効量を投与する歯周病の治療方法。
１６．歯周病を有するヒトを含む哺乳動物に、上記項１０に記載の口腔用組成物の有効量を投与する歯周病の治療方法。
１７．上記項８に記載のアルグ−ジンジパイン及びリジル−ジンジパインの阻害剤の製造のための上記項１に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用。
１８．上記項９に記載の歯周病用薬剤の製造のための上記項１に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用。
１９．上記項１０に記載の口腔用組成物の製造のための上記項１に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の使用。
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^１で示されるアミノ基の保護基としては、生体及び合成反応に影響しないものであれば特に制限はなく、通常利用されているアミノ基の保護基、例えば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，Ａ Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８１，ｐｐ２１８−２８７に記載の保護基が適当である。具体的には、置換基を有していてもよいアラルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基、置換スルホニル基、アセチル基、ベンジル基、１−アダマンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアラルキルオキシカルボニル基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）；ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−エトキシベンジルオキシカルボニル基等の置換基として炭素数１〜４の低級アルコキシ基を１〜３個有するベンジルオキシカルボニル基；ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基等の置換基としてニトロ基を１個有するベンジルオキシカルボニル基；ｐ−ブロモベンジルオキシカルボニル基、２，４−ジクロロベンジルオキシカルボニル基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有するベンジルオキシカルボニル基；ジフェニルメトキシカルボニル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有してもよい炭素数２〜７の直鎖又は分枝状の低級アルキルオキシカルボニル基が挙げられる。
置換スルホニル基としては、例えば、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基が１〜３個置換していてもよいフェニル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基等が１個置換したスルホニル基が挙げられる。
Ｒ^１で示されるアミノ基の保護基としては、好ましくは置換基を有していてもよいアラルキルオキシカルボニル基又は置換基を有していてもよい低級アルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくは置換基として低級アルコキシ基、ニトロ基又はハロゲン原子を有してもよいベンジルオキシカルボニル基、又は置換基としてハロゲン原子を有してもよい炭素数２〜７の直鎖又は分枝状の低級アルキルオキシカルボニル基であり、更に好ましくはベンジルオキシカルボニル基又は２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基である。
Ｒ^２で示される低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基が挙げられ、好ましくはｔ−ブトキシ基である。
Ｒ^３又はＲ^４で示されるリジンのＲ基側鎖とは、リジンのα−炭素原子に結合している側鎖又は残基のことで、４−アミノブチル基のことである。該Ｒ基側鎖のアミノ基は保護基で保護されていてもよい。かかる保護基としては、上述のアミノ基の保護基が例示でき、好ましくは上述の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有してもよい炭素数２〜７の直鎖又は分枝状の低級アルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくは無置換の炭素数２〜７の直鎖又は分枝状の低級アルキルオキシカルボニル基であり、更に好ましくはｔ−ブトキシカルボニル基である。
アルギニンのＲ基側鎖とは、アルギニンのα−炭素原子に結合している側鎖又は残基のことで、３−グアニジノプロピル基のことである。該Ｒ基側鎖のグアニジノ基は保護基で保護されていてもよい。かかる保護基としては、生体及び合成反応に影響しないものであれば特に制限はなく、通常利用されているグアニジノ基の保護基、例えば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ，”Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”，Ａ Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ−Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８１，ｐｐ２１８−２８７に記載の保護基が適当である。具体的には、ニトロ基；パラトルエンスルホニル基、２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマン−６−スルホニル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基が１〜３個置換していてもよいフェニル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基が１〜６個置換していてもよいクロマン基等が１個置換したスルホニル基；ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、１−アダマンチルオキシカルボニル基等のアラルキル基、アダマンチル基等が１個置換したオキシカルボニル基等が挙げられ、好ましくはニトロ基である。
Ｒ^５又はＲ^６で示される低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−エチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、１−エチルブチル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基が挙げられ、好ましくはメチル基又はエチル基である。
アラルキル基としては、例えば、フェニル−Ｃ_１−Ｃ_６アルキル基、特にベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
一般式（Ｉ）で表される化合物において好ましい化合物としては、Ｘが−ＣＯ−である化合物である。より好ましくは、Ｘが−ＣＯ−であり、Ｒ^１が水素原子又は置換基を有していてもよいアラルキルオキシカルボニル基であり、Ｒ^２が水酸基又は炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基であり、Ｒ^３及びＲ^４の一方がリジンのＲ基側鎖で、Ｒ^３及びＲ^４の他方がグアニジノ基がニトロ基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖であり、Ｒ^５及びＲ^６が、同一又は相異なって、水素原子又はアラルキル基である化合物である。更に好ましくは、Ｘが−ＣＯ−であり、Ｒ^１がベンジルオキシカルボニル基であり、Ｒ^２が水酸基又はｔ−ブトキシ基であり、Ｒ^３がリジンのＲ基側鎖であり、Ｒ^４がグアニジノ基がニトロ基で保護されたアルギニンのＲ基側鎖であり、Ｒ^５が水素原子であり、Ｒ^６がフェネチル基である化合物である。
本発明化合物の薬学的に許容される塩としては、特に制限はなく、薬学的に許容される酸を作用させた酸付加塩が挙げられ、例えば塩酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、ギ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、メタンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。更に、本発明化合物又はその薬学的に許容される塩は、水和物に代表される溶媒和物の形であってもよい。
また、本発明化合物を構成するアミノ酸は、Ｌ−体、Ｄ−体のいずれであっても良く、好ましくはＬ−体である。
また、本発明化合物には、それを構成する不斉炭素により、鏡像異性体又はジアテレオ異性体が存在するが、いずれも本発明に包含される。そして、それらは、通常の方法により光学分割して利用してもよく、異性体混合物のままで利用してもよい。
一般式（Ｉ）で表される本発明化合物は、以下の反応工程式に従って製造することができる。
＜反応工程式１＞

（式中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、前記に同じ。Ｒ^２ａは低級アルコキシ基である）。
Ｒ^２ａで示される低級アルコキシ基としては、上述の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基である。
工程（ｉ）：一般式（ＩＩ）で表される化合物と、特開平１１−２２８５２６号公報記載の方法に準じて合成される一般式（ＩＩＩ）で表される公知化合物を、適当な溶媒中、縮合反応させることにより、一般式（Ｉ−ａ）で表される本発明化合物を合成することができる。
上記縮合反応としては、公知慣用の方法を用いることができ、例えば、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等の縮合剤を用いる方法またはそれらの縮合剤に更に添加剤（例えば、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド等）を加える方法、イソブチルクロロフォルメート等を用いた混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法等を用いることができる。
上記縮合反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は２種以上混合して使用できる。一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の使用量は、一般式（ＩＩ）で表される化合物に対して、０．５〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜５倍モル量程度である。縮合剤の量としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物に対して、０．５〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜５倍モル量程度である。反応時間は０．３〜１００時間程度であり、好ましくは０．５〜２０時間程度である。また、反応温度は−２０〜１００℃程度であり、好ましくは、０〜４０℃程度である。本工程で得られた化合物は、単離して、又は単離することなく、次工程に用いることができる。
＜反応工程式２＞

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、前記に同じ。）。
工程（ｉｉ）：反応工程式１で得られた一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物を適当な溶媒中で酸化反応を行うことにより、一般式（Ｉ−ｂ）で表される本発明化合物を合成することができる。
上記酸化反応は、公知慣用の方法を用いることができ、例えば、デスマーチン試薬を用いるデスマーチン酸化、ジメチルスルホキシド−１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩−ジクロロ酢酸を用いる改良モファット酸化、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルフィンイミドイルクロリド酸化等の方法が用いられる。
上記酸化反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は２種以上混合して使用できる。酸化試薬の量としては、一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物に対して、０．３〜１００倍モル量程度、好ましくは１〜１０倍モル量程度である。反応時間は０．１〜１００時間程度であり、好ましくは、０．５〜５０時間程度である。反応温度は−７８〜１００℃程度であり、好ましくは０〜４０℃程度である。本工程で得られた化合物は、単離して、又は単離することなく、次工程に用いることができる。
＜反応工程式３＞

（式中、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、前記に同じ。）。
工程（ｉｉｉ）：反応工程式１又は２で得られた化合物（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）を、適当な溶媒中又は無溶媒で酸で処理することにより、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物を得ることができる。
上記反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等が例示できる。酸としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸が例示できる。反応に用いる酸の量は、化合物（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）に対し、１〜１，０００倍モル量程度であり、好ましくは１〜１００倍モル量程度である。反応時間は０．５〜５０時間程度である。反応温度は０〜１００℃程度であり、好ましくは０〜３０℃程度である。
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば、下記反応工程式４に従って製造することができる。
＜反応工程式４＞

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３は、前記に同じ。Ｒ^７は低級アルコキシ基である）。
Ｒ^７で示される低級アルコキシ基としては、上述の炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基である。
工程（ｉｖ）：一般式（ＩＶ）で表される化合物と一般式（Ｖ）で表される公知化合物を、適当な溶媒中、縮合反応させることにより、一般式（ＶＩ）で表される化合物を合成することができる。
上記縮合反応としては、公知慣用の方法を用いることができ、例えば、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等の縮合剤を用いる方法またはそれらの縮合剤に更に添加剤（例えば、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド等）を加える方法、イソブチルクロロフォルメート等を用いた混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法等を用いることができる。
上記縮合反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は２種以上混合して使用してもよい。一般式（Ｖ）で表される化合物の使用量は、一般式（ＩＶ）で表される化合物に対して、０．５〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜５倍モル量程度である。縮合剤の量としては一般式（ＩＶ）で表される化合物に対して、０．５〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜５倍モル量程度である。反応時間は０．３〜１００時間程度であり、好ましくは０．５〜２０時間程度である。また、反応温度は−１０〜１００℃程度であり、好ましくは、０〜４０℃程度である。本工程で得られた化合物は、単離して、又は単離することなく、次工程（ｖ）に用いることができる。
一般式（ＩＶ）で表される化合物は、例えば、国際公開ＷＯ９８／５０４２０号公報、特開平１１−２２８５２６号等に記載の公知化合物を、公知慣用のアミノ基の脱保護反応に付すことにより得られる。脱保護反応としては、例えば、接触還元法、トリメチルシリルヨードジド又はトリエチルシラン等を作用させる方法が挙げられ、接触還元法に用いられる触媒としてはパラジウム−炭素、塩化パラジウム等が挙げられる。一般式（ＩＶ）で表される化合物は、その前駆体である化合物の保護基の種類により脱保護の条件が異なるため、フリー体又はその塩として得られる。塩の種類としては、縮合反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、塩酸塩、硫酸塩などの鉱酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩等の有機酸塩である。
工程（ｖ）：上記工程（ｉｖ）で得られた化合物（ＶＩ）を、適当な溶媒中、塩基を用いて加水分解することにより一般式（ＩＩ）で表される化合物を得ることができる。反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に制限はなく、例えば、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、テトラヒドロフラン等を単独又は２種以上混合して使用することができる。塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることができる。塩基の量としては一般式（ＶＩ）で表される化合物に対して、１〜１０倍モル量程度、好ましくは１〜２倍モル量程度である。反応時間は０．３〜１００時間程度であり、好ましくは０．５〜２０時間程度である。又、反応温度は０〜１００℃程度であり、好ましくは０〜４０℃程度である。本工程で得られた化合物は、単離して、又は単離することなく、反応工程式１に用いることができる。
上記各方法により得られる本発明化合物及び各化合物は再結晶、蒸留、各種カラムクロマトグラフィー等の合成化学上の通常用いられる分離精製手段によって精製可能である。
本発明の一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩は、歯周病の発生と進行に密接に関与しているＰ．ジンジバリスが産生する蛋白質分解酵素であるＫＧＰ及びＲＧＰを強力に阻害する。また、本発明ペプチド誘導体は、その構成成分が天然に存在している安全性の高いアミノ酸又はその誘導体より成ることから生体代謝産物も含めて、極めて安全性が高いと考えられる。
よって、一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩は、これを有効成分とするリジル−ジンジパイン及びアルグ−ジンジパインの両酵素の阻害剤及び歯周病用薬剤として有用である。ここで、該阻害剤及び歯周病用薬剤は、いずれも、歯周病の予防剤及び治療剤として使用できる。
また、一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩は、これと薬学的に許容される担体を含有する口腔用組成物としても有用である。例えば、本発明ペプチド誘導体又はその薬学的に許容される塩は薬学的に許容される担体と配合し、口腔用ゲル製剤、口腔用粘膜付着性軟膏、口腔パスタ、歯周ポケット挿入剤、歯肉付着製剤などの口腔用製剤又は歯磨、洗口液、チューインガム、タブレット、キャンデー、トローチなどの口腔衛生剤として投与することできる。ここで、口腔組成物は、歯周病の予防剤及び治療剤として使用できる。
薬学的に許容される担体としては、その剤形に応じた通常使用される適宜な成分を使用することができ、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、流動パラフィン、白色ワセリン、プラチナベース、オイドラジットＬ、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、プルラン、トラガント、キサンタンガム、キトサン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリメタアクリル酸、メタアクリル酸エチル、ジメチルアミノアセテート、酢酸セルロース、コラーゲン、アテロコラーゲン、ゼラチン、グリセリン、トリアセチン、マクロゴール４００、ポリソルベート６０、ステアリン酸ポリオキシル４０、パラオキシ安息香酸ブチル、エタノール、セタノール、モノステアリン酸グリセリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、第二リン酸カルシウム、カラギーナン、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヒノキチオール、アラントイン、グリチルリチン、アラビアゴム、デンプン、コーンスターチ、サッカリン、サッカリンナトリウム、ステビオサイド、ブドウ糖、乳糖、ソルビトール、マンニトール、ステアリン酸マグネシウム、リン酸一カリウム、リン酸二カリウム、メントール、ユーカリ油、ペッパーミント、スペアミント、色素、香料、フッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウムのフッ化物、塩化リゾチーム、アズレン等の抗炎症剤、塩化ナトリウム等の通常使用される成分を適宜配合することができる。
本発明ペプチド誘導体又はその薬学的に許容される塩を有効成分として含有するリジル−ジンジパイン及びアルグ−ジンジパインの阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を、ヒトを含む哺乳動物に投与する方法としては、有効成分０．００１重量％以上程度、好ましくは０．０１〜２０重量％程度を含有する製剤の適量を、通常１日１回以上挿入、塗布、洗浄等に使用すればよい。
本発明のリジル−ジンジパイン及びアルグ−ジンジパインの阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を治療剤として使用する場合の使用量としては、用法、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度により適宜選択できる。ヒトの場合、通常、有効成分とする本発明化合物の量が、１日当たり、体重１ｋｇ当たり、０．００１〜１００ｍｇ程度であり、好ましくは０．００５〜１０ｍｇ程度である。
また、本発明のリジル−ジンジパイン及びアルグ−ジンジパインの阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を予防剤として使用する場合の使用量としては、用法、年齢、性別その他の条件により適宜選択できる。ヒトの場合、通常、有効成分とする本発明化合物の量が、１日当たり、体重１ｋｇ当たり、０．００１〜１００ｍｇ程度であり、好ましくは０．００５〜１０ｍｇ程度である。
発明を実施するための最良の形態
以下、参考例、実施例、製剤例及び試験例を挙げて、本発明をより一層具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。なお、各例においてＭｅはメチル基を、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基を、Ｃｂｚはベンジルオキシカルボニル基を、ｔ−Ｂｕはｔ−ブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。また、アミノ酸の略号は、一般的に用いられているＩＵＰＡＣの方法に準じた。
参考例１
反応工程式４で示された一般式（ＶＩ）で表される化合物に包含される下記化合物を、合成した。

国際公開ＷＯ９８／５０４２０号公報記載の方法に準じて合成された公知化合物である（３Ｓ）−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−７−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシヘプタン酸メチルエステル（Ｃｂｚ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）ψ［ＣＨＯＨＣＯ］−ＯＭｅ）２１ｇ（４９．５ｍｍｏｌ）のメタノール−クロロホルム（１０：１）の混合溶液１，０００ｍｌに１０％パラジウム−炭素４ｇを加え、水素雰囲気下、室温にて３時間４５分間攪拌し、リジン上のアミノ基の保護基であるベンジルオキシカルボニル基を脱保護した。反応終了後、不溶物を濾去した。濾液を濃縮後、単離精製することなくＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）５２５ｍｌに溶解した。この溶液に氷冷下、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−グルタミン酸−γ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル（Ｃｂｚ−Ｇｌｕ（Ｏ−ｔ−Ｂｕ）−ＯＨ）２０ｇ（５９．４ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール８．７ｇ（６４．３ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１１．４ｇ（５９．４ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン１３．５ｇ（１３４ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１４時間攪拌した。反応終了後、１０％クエン酸水溶液を加え、ｐＨ＝３に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：２〜１：１）で分離精製し、標記化合物のジアステレオ混合物１８．３ｇ（収率６０％）を白色粉体として得た。以下に物性値を示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：７．６７（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５４（０．７Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４０−７．２５（６Ｈ，ｍ），６．７３（１Ｈ，ｍ），５．６９（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），５．５３（０．７Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），５．０２（２Ｈ，ｍ），４．１１−３．９６（３Ｈ，ｍ），３．６１ ＆ ３．５６（３Ｈ，ｓ），２．８７（２Ｈ，ｍ），２．２０（２Ｈ，ｍ），１．８３（１Ｈ，ｍ），１．６６（１Ｈ，ｍ），１．５９−１．０６（６Ｈ，ｍ），１．３８（９Ｈ，ｓ），１．３６（９Ｈ，ｓ）
Ｍａｓｓ（ＦＡＢ（＋））：６１０（Ｍ＋Ｈ）^＋
性状：白色粉体
融点：１０１〜１０３℃。
参考例２
反応工程式４で示された一般式（ＩＩ）で表される化合物に包含される下記化合物を、合成した。

参考例１で得られた化合物３．５３ｇ（５．７６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液１００ｍｌに水酸化リチウム一水和物２７０ｍｇ（６．４３ｍｍｏｌ）の水溶液１０ｍｌを氷冷下で加え、１時間撹拌し、次いで室温にて３０分間攪拌した。反応終了後、減圧下、濃縮し、残渣に１０％クエン酸水溶液を加えて、ｐＨ＝３に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、標記化合物３．５ｇ（収率１００％）を白色粉末として得た。以下に物性値を示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：１２．４５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４９−７．３１（７Ｈ，ｍ），６．７４（１Ｈ，ｍ），５．３８（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），５．２６（０．７Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），５．０１（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ），４．０４−３．８５（４Ｈ，ｍ），２．８６（２Ｈ，ｍ），２．１９（２Ｈ，ｍ），１．９０−０．９０（８Ｈ，ｍ），１．４０−１．３６（１８Ｈ，ｓ ｘ ２）
Ｍａｓｓ（ＦＡＢ（−））：５９６（Ｍ＋Ｈ）^＋，５９４（Ｍ−Ｈ）⁻
性状：白色粉体
融点：４８〜５０℃。
実施例１
下記の本発明化合物を合成した。

参考例２で得られた化合物２６３ｍｇ（０．４４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液４ｍｌに氷冷下、特表平８−５０２４９３号公報記載の６−ニトログアニジノ−（３Ｓ）−アミノ−２−ヒドロキシヘプタン酸 Ｎ−フェネチルアミド（Ｈ−Ａｒｇ（Ｎ^ｇＮＯ_２）−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｐｈ）の塩酸塩１７２ｍｇ（０．４４ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール６３ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩８９ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチルモルホリン８９ｍｇ（０．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて３．５時間攪拌した。反応終了後、１０％クエン酸水溶液を加え、ｐＨ＝３に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝２０：１）にて分離精製を行い、標記化合物のジアステレオ混合物１９０ｍｇ（収率４６％）をアモルファスとして得た。以下に物性値を示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：８．５０（０．５Ｈ，ｍ），８．２５−７．１７（１４．５Ｈ，ｍ），６．７５−６．５８（１Ｈ，ｍ），６．０１−５．７５（２Ｈ，ｍ），４．９９（２Ｈ，ｍ），４．２５−３．８２（５Ｈ，ｍ），３．４８−２．９７（４Ｈ，ｍ），２．９１−２．６５（４Ｈ，ｍ），２．２０（２Ｈ，ｍ），１．９５−１．５８（２Ｈ，ｍ），１．５２−１．１１（２８Ｈ，ｍ）
Ｍａｓｓ（ＦＡＢ（＋））；９５２（Ｍ＋Ｎａ）^＋，９６８（Ｍ＋Ｋ）^＋
性状：アモルファス。
実施例２
下記の本発明化合物を合成した。

実施例１で得られた化合物１０５ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液２ｍｌにデスマーチン試薬１４４ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。反応終了後、２０％亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、５分間攪拌し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝４０：１）で分離精製し、標記化合物１０１ｍｇ（収率９７％）をアモルファスとして得た。以下に物性値を示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：９．１０−８．００（３Ｈ，ｍ），７．５５−７．１５（１２Ｈ，ｍ），６．８０−６．６２（１Ｈ，ｍ），５．０６−４．９４（３Ｈ，ｍ），４．１８−３．９１（２Ｈ，ｍ），３．２１−２．６５（８Ｈ，ｍ），２．２９−２．１８（２Ｈ，ｍ），１．８６−０．９８（３０Ｈ，ｍ）
ＬＣ／Ｍａｓｓ ＥＳ（＋）；９２５（Ｍ^＋），ＥＳ（−）；９２４（Ｍ−Ｈ）⁻
性状：アモルファス。
実施例３
下記の本発明化合物を合成した。

実施例２で得られた化合物７５ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）に４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液２ｍｌを加えて、室温にて４０分間攪拌した。反応液に無水エーテルを加えると、白色沈殿を生じた。これを濾取し、沈殿物を無水エーテルで洗浄し、標記化合物５９ｍｇ（収率９０％）をアモルファスとして得た。以下に物性を示す。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ：９．１０−８．３０（３Ｈ，ｍ），７．７５（３Ｈ，ｂｒｓ），７．６０−７．１１（１２Ｈ，ｍ），６．８０−６．６０（１Ｈ，ｍ），５．０６−４．９５（３Ｈ，ｍ），４．２０−３．９５（２Ｈ，ｍ），３．２０−２．６１（８Ｈ，ｍ），２．３１−２．１８（２Ｈ，ｍ），１．８６−１．００（１２Ｈ，ｍ）
Ｍａｓｓ（ＦＡＢ（＋））；７７０（Ｍ＋Ｈ）^＋，７６８（Ｍ−Ｈ）⁻
性状：アモルファス。
製剤例１ 口腔用軟膏剤

常法により、上記配合割合で口腔用軟膏剤を調製した。

常法により、上記配合割合で歯磨剤を調製した。

常法により、上記配合割合でトローチ剤を調製した。

常法により、上記配合割合でチューインガムを調製した。

常法により、上記配合割合でうがい剤を調製した。

常法により、上記配合割合で洗口剤を調製した。
試験例１：ＫＧＰ及びＲＧＰに対する阻害活性の測定
リジル−ジンジパイン（ＫＧＰ）及びアルグ−ジンジパイン（ＲＧＰ）に対する阻害活性の測定は、Ｃｂｚ−Ｈｉｓ−Ｇｌｕ−Ｌｙｓ−ＭＣＡ及びＣｂｚ−Ｐｈｅ−Ａｒｇ−ＭＣＡを基質として、それぞれＡｂｅらの方法（Ｊｏｕｒｎａｌ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９９８年，１２３巻，３０５−３１２）およびＫａｄｏｗａｋｉらの方法（Ｊｏｕｒｎａｌ Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９９４年，２６９巻，２１３７１−２１３７８）に従って行った。具体的には、５０ｍＭのＬ−システインを１００μｌ、０．１Ｍリン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．５）を２００μｌ、０．０５％Ｂｒｉｊ３５（商品名、アルドリッチ社製、ポリオキシエチレン（２３）ラウリルエーテル）を含む１２．３ｎＭのＫＧＰ又はＲＧＰ溶液を２０μｌ、蒸留水８０μｌ、及び本発明化合物のジメチルスルオキシド溶液１００μｌを混合し、３７℃で５分間プレインキュベーションした。その後、２０μＭのＣｂｚ−Ｈｉｓ−Ｇｌｕ−Ｌｙｓ−ＭＣＡ（ＫＧＰに対して）又はＣｂｚ−Ｐｈｅ−Ａｒｇ−ＭＣＡ（ＲＧＰに対して）を含む０．１％ジメチルスルホキシド溶液５００μｌを加え、４０℃で１０分間インキュベートした。その後、１０ｍＭのヨードアセトアミドを含む酢酸緩衝液（ｐＨ５．０）を加えて酵素反応を停止させ、３８０ｎｍで励起される４６０ｎｍの蛍光強度（Ｆ）を測定した。対照として、本発明化合物を含まないジメチルスルホキシド溶液１００μｌを化合物溶液の代わりに加え、同様に蛍光強度（Ｆ_０）を測定した。酵素阻害活性は下記式によって算出した。
酵素阻害活性（％）＝［１−（Ｆ／Ｆ_０）］×１００
試験結果を表１に示す。

表１より、本発明化合物はＫＧＰ及びＲＧＰの両酵素に対して優れた阻害活性を有することが判明した。
本発明化合物は、グラム陰性嫌気性桿菌のポルフィロモナス・ジンジバリス（Ｐｏｒｐｈｙｒｏｍｏｎａｓ ｇｉｎｇｉｂｖａｌｉｓ）が産生するリジル−ジンジパイン（ＫＧＰ）及びアルグ−ジンジパイン（ＲＧＰ）の両酵素活性を阻害することにより、例えば、歯周病の予防薬又は治療薬として有用である。

Claims (10)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   ［式中、Ｘは、−ＣＨ（ＯＨ）−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ¹は、水素原子であるか又はアミノ基の保護基を示す。Ｒ²は、水酸基又は炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基を示す。Ｒ³及びＲ⁴の一方はアミノ基が保護基で保護されていてもよいリジンのＲ基側鎖を示し、Ｒ³及びＲ⁴の他方はグアニジノ基が保護基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖を示す。Ｒ⁵及びＲ⁶は、同一又は相異なって、水素原子、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基又はフェニール−Ｃ ₁ −Ｃ ₆ アルキル基を示す。］で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
2. 一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯ−である請求項１に記載のペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
3. 一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯ−であり、Ｒ¹が水素原子又は置換基を有してもよいフェニール−Ｃ ₁ −Ｃ ₆ アルキルオキシカルボニル基であり、Ｒ²が水酸基又は炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基であり、Ｒ³及びＲ⁴の一方がリジンのＲ基側鎖で、Ｒ³及びＲ⁴の他方がグアニジノ基がニトロ基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖であり、Ｒ⁵及びＲ⁶が、同一又は相異なって、水素原子又はフェニール−Ｃ ₁ −Ｃ ₆ アルキル基である請求項２に記載のペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
4. 一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯ−であり、Ｒ¹がベンジルオキシカルボニル基であり、Ｒ²が水酸基又はｔ−ブトキシ基であり、Ｒ³がリジンのＲ基側鎖であり、Ｒ⁴がグアニジノ基がニトロ基で保護されたアルギニンのＲ基側鎖であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がフェネチル基である請求項３に記載のペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩。
5. 一般式（Ｉ）
   

   

   ［式中、Ｘは、−ＣＨ（ＯＨ）−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ¹は、水素原子であるか又はアミノ基の保護基を示す。Ｒ²は、水酸基又は炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基を示す。Ｒ³及びＲ⁴の一方はアミノ基が保護基で保護されていてもよいリジンのＲ基側鎖を示し、Ｒ³及びＲ⁴の他方はグアニジノ基が保護基で保護されていてもよいアルギニンのＲ基側鎖を示す。Ｒ⁵及びＲ⁶は、同一又は相異なって、水素原子、炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルキル基又はフェニール−Ｃ ₁ −Ｃ ₆ アルキル基を示す。］で表されるペプチド誘導体およびその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程（ｉ）で示される製造方法。
   （ｉ）一般式（ＩＩ）
   

   

   （式中、Ｒ¹及びＲ³は前記に同じ。Ｒ^2aは炭素数１〜６の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基を示す。）で表される化合物と、一般式（ＩＩＩ）
   

   

   （式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は前記に同じ。）で表される化合物を、縮合反応させることによる、一般式（Ｉ−ａ）
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ^2a、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は前記に同じ。）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造法。
6. 前記一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程（ｉｉ）で示される製造方法。
   （ｉｉ）上記一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物を、酸化することによる、一般式（Ｉ−ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ^2a、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は前記に同じ。）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造法。
7. 前記一般式（Ｉ）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程（ｉｉｉ）で示される製造方法。
   （ｉｉｉ）上記一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物又は一般式（Ｉ−ｂ）で表される化合物を、酸処理することによる、一般式（Ｉ−ｃ）
   

   

   （式中、Ｘ、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は前記に同じ。）で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造法。
8. 下記式
   

   

   （式中、Ｃｂｚはベンジルオキシカルボニル基を示す。）で表される化合物を有効成分とするアルグ−ジンジパイン及びリジル−ジンジパインの阻害剤。
9. 下記式
   

   

   （式中、Ｃｂｚはベンジルオキシカルボニル基を示す。）で表される化合物を有効成分とする歯周病用薬剤。
10. 下記式
    

    

    （式中、Ｃｂｚはベンジルオキシカルボニル基を示す。）で表される化合物及び薬学的に許容される担体を含有する口腔用組成物。