JP4601249B2 - ペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、その製造方法並びにその用途 - Google Patents
ペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、その製造方法並びにその用途 Download PDFInfo
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Description
本発明は、新規なペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、その製造方法並びにその用途に関する。
背 景 技 術
多くの歯周病は歯周局所の常在微生物によって惹起される一種の感染症と考えられている。その中でも、特にグラム陰性嫌気性桿菌のポルフィロモナス・ジンジバリス(Porphyromonas gingibvalis,以下「P.ジンジバリス」と略す。)が成人性歯周炎、急速進行性歯周炎において最も重要な病因菌であることが明かにされている(J.Clin.Periodontol.,15,85−93,1988,同316−323,1988,J.Dent.Res.,63,441−451,1984)。近年、P.ジンジバリスが産生するプロテアーゼ群が、コラーゲンをはじめとする歯周組織成分や生体防御系に関与する血清蛋白質を分解することが知られ、P.ジンジバリスの病原性と深く関係していることが明らかにされている(Greiner D.:Biology of the Species Porphyromonas Gingivalis,Edited by Shah H.N.,Mayrrand D.and Genco R.J.,pp227−243,CRC Press,Boca Raton,Ann Arbor,London,Tokyo,1993)。例えば、P.ジンジバリスが産生するトリプシン様プロテアーゼ活性を有する蛋白質分解酵素であるリジル−ジンジパイン(Lys−gingipain,以下「KGP」と略すことがある。)は、高分子キニノーゲンやフィブリノーゲンに対して高い分解活性を有することが知られ、歯周病の発現や歯周組織の破壊に関与するものと考えられている(J.Biol.Chem.,269,406−411,1994)。
従来より、歯周病の予防及び治療には細菌の生育を阻害するような薬剤、例えば、テトラサイクリン、ミノサイクリン等の抗生物質、カミツレチンキ、ラタニアチンキ等の天然物、シクロヘキサジン、トラネキサム酸等が利用されている。しかしながら、これらの薬剤には安全性に問題があったり、不快臭を伴う等の種々の問題が残されている。また、特開平5−97708号公報にはATPase阻害剤、システインプロテアーゼ阻害剤等を有効成分とする歯周病治療剤が開示されているが、該治療剤の抗歯周病効果は満足のいくものではなかった。
一方、特許第2529825号公報には、種々のペプチダーゼ基質類似体が広く記載されているが、本発明化合物のようなグルタミン酸−リジン誘導体を基本骨格とするペプチド誘導体については何ら例示されておらず、KGPに選択特異的な阻害作用を有する化合物については全く記載が無く、又歯周病治療に有用な化合物についても全く記載が無い。
発 明 の 開 示
本発明の目的は、リジル−ジンジパインを強力かつ選択的に阻害する活性を有する新規化合物及びその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、新規なリジル−ジンジパイン阻害剤及び歯周病用薬剤を提供することにある。
本発明の他の目的は、新規な口腔用組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、歯周病の新規な予防方法又は治療方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的及び特徴は、以下の記載により明らかにされるであろう。
本発明は、以下のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、その製造方法並びにその用途を提供するものである。
1.一般式(I)
[式中、Xは−CHOH−又は−CO−を示し、R1及びR2は、同一又は相異なって、水素原子又は置換オキシカルボニル基を示し、R3は置換オキシカルボニル基を示し、R4は水酸基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいピペラジニル基、又は−NR7R8(式中、R7及びR8は、同一又は相異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基として低級アルキル基又はアリール基を有してもよいアミノ基を示す)で表される基を示し、R5は保護基で保護されていてもよいα−アミノ酸のR基側鎖を示し、R6は、水酸基、低級アルコキシ基、又は−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す)で表される基を示す。mは0又は1を示し、nは2〜6の整数を示す。]で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
2.nが4である上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
3.Xが−CO−である上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
4.R1及びR2が、同一又は相異なって、水素原子又は低級アルキルオキシカルボニル基であり、R3が置換基を有してもよいアラルキルオキシカルボニル基である上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
5.R4が水酸基、低級アルコキシ基、置換基として低級アルキル基を有してもよいピペラジニル基、又は−NR7R8(式中、R7及びR8は、同一又は相異なって、水素原子、置換基としてアミノ基又は低級アルコキシカルボニルアミノ基を有してもよい低級アルキル基、置換基として低級アルキル基又はフェニル基を有してもよいアミノ基を示す)で表される基を示し、R6が水酸基、低級アルコキシ基、又は−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル基、ベンジル基又はフェネチル基を示す)で表される基を示し、nが4を示す上記項4に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
6.mが0を示し、R6が水酸基又は−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって低級アルキル基又はフェネチル基を示すか、或いは一方が水素原子で他の一方がフェネチル基を示す)で表される基を示す上記項5に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
7.mが1を示し、R5がイソブチル基、保護基で保護されていてもよいカルバモイルメチル基、保護基で保護されていてもよい2−カルボキシエチル基、保護基で保護されていてもよい4−アミノブチル基、又はベンジル基を示し、R6が−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって、低級アルキル基を示す)で表される基を示す上記項5に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
8.Xが−CO−を示し、R1及びR2が水素原子を示し、R3がベンジルオキシカルボニル基を示し、R4が水酸基を示し、R5がイソブチル基、カルバモイルメチル基、2−カルボキシエチル基、4−アミノブチル基又はベンジル基を示し、R6が−NR9R10(式中、R9及びR10はメチル基を示す)で表される基を示し、mが1を示し、nが4を示す上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
9.Xが−CO−を示し、R1及びR2が水素原子を示し、R3がベンジルオキシカルボニル基を示し、R4が水酸基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、(2−アミノエチル)アミノ基、ピペラジニル基、1,1−ジメチルヒドラジノ基又は1−メチル−1−フェニルヒドラジノ基を示し、R6がn−プロピルアミノ基、フェニルアミノ基、ベンジルアミノ基又はフェネチルアミノ基を示し、mが0を示し、nが4を示す上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩。
10.一般式(I)
[式中、Xは−CHOH−又は−CO−を示し、R1及びR2は、同一又は相異なって、水素原子又は置換オキシカルボニル基を示し、R3は置換オキシカルボニル基を示し、R4は水酸基、低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいピペラジニル基、又は−NR7R8(式中、R7及びR8は、同一又は相異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基として低級アルキル基又はアリール基を有してもよいアミノ基を示す)で表される基を示し、R5は保護基で保護されていてもよいα−アミノ酸のR基側鎖を示し、R6は、水酸基、低級アルコキシ基、又は−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す)で表される基を示す。mは0又は1を示し、nは2〜6の整数を示す。]で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(i)で示される製造方法。
(i)一般式(II)
(式中、nは前記に同じ。R1aは水素原子又は置換オキシカルボニル基を示し、R2aは置換オキシカルボニル基を示し、R6aは低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物と、一般式(III)
(式中、R3は前記に同じ。R4aは水酸基又は低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物を、縮合反応させることによる、一般式(I−a)
(式中、R1a、R2a、R3、R4a、R6a及びnは前記に同じ。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
11.前記一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(ii)で示される製造方法。
(ii)上記一般式(I−a)で表される化合物を、塩基で加水分解することによる、一般式(I−b)
(式中、R1a、R2a、R3、R4a、R6a及びnは前記に同じ。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
12.前記一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(iii)で示される製造方法。
(iii)上記一般式(I−b)で表される化合物と、一般式(IV)
(式中、R5及びmは前記に同じ。R6bは水酸基、低級アルコキシ基、又は−NR9R10(式中、R9及びR10は前記に同じ。)を示す。但し、mが0の場合、R6bは水酸基ではない。)で表される化合物を、縮合反応させることによる、一般式(I−c)
(式中、R1a、R2a、R3、R4a、R5、R6b、m及びnは前記に同じ。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
13.前記一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(iv)で示される製造方法。
(iv)上記一般式(I−a)、(I−b)又は(I−c)で表される化合物を、酸化することによる、一般式(I−d)
(式中、R1a、R2a、R3、R4a、R5、R6、m及びnは前記に同じ。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
14.前記一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(v)で示される製造方法。
(v)上記一般式(I−a)、(I−b)、(I−c)又は(I−d)で表される化合物を、酸処理することによる、一般式(I−e)
(式中、X、R1、R2、R3、R5、R6、m及びnは前記に同じ。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
15.前記一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(vi)で示される製造方法。
(vi)一般式(I−f)
(式中、X、R1、R2、R3、R5、R6、m及びnは前記に同じ。R4bは水酸基又は低級アルコキシ基を示す。)で表される化合物を、低級アルコール、置換基を有してもよいピペラジン又はNHR7R8(式中、R7及びR8は前記に同じ。)で表されるアミン類と縮合反応させることによる、一般式(I−g)
(式中、X、R1、R2、R3、R5、R6、m及びnは前記に同じ。R4cは、低級アルコキシ基、置換基を有してもよいピペラジニル基又は−NR7R8(式中、R7及びR8は前記に同じ。)を示す。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
16.前記一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を製造する方法であって、下記工程(vii)で示される製造方法。
(vii)一般式(I−h)
(式中、X、R3、R4、R5、R6、m及びnは前記に同じ。)で表される化合物を、置換オキシカルボニル基の導入試薬を用いて、アミノ基を保護することによる、一般式(I−i)
(式中、X、R3、R4、R5、R6、m及びnは前記に同じ。R2bは置換オキシカルボニル基を示す。)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の製造方法。
17.上記項1に記載の一般式(I)のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を有効成分とするリジル−ジンジパインの阻害剤。
18.上記項1に記載の一般式(I)のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を有効成分とする歯周病用薬剤。
19.上記項1に記載の一般式(I)のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される担体を含有する口腔用組成物。
20.ヒトを含む哺乳動物に、上記項17に記載のリジル−ジンジパインの阻害剤の有効量を投与する歯周病の予防方法。
21.ヒトを含む哺乳動物に、上記項18に記載の歯周病用薬剤の有効量を投与する歯周病の予防方法。
22.ヒトを含む哺乳動物に、上記項19に記載の口腔用組成物の有効量を投与する歯周病の予防方法。
23.歯周病を有するヒトを含む哺乳動物に、上記項17に記載のリジル−ジンジパインの阻害剤の有効量を投与する歯周病の治療方法。
24.歯周病を有するヒトを含む哺乳動物に、上記項18に記載の歯周病用薬剤の有効量を投与する歯周病の治療方法。
25.歯周病を有するヒトを含む哺乳動物に、上記項19に記載の口腔用組成物の有効量を投与する歯周病の治療方法。
26.上記項17に記載のリジル−ジンジパイン阻害剤の製造のための上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の使用。
27.上記項18に記載の歯周病用薬剤の製造のための上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の使用。
28.上記項19に記載の口腔用組成物の製造のための上記項1に記載のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩の使用。
本発明者は、歯周病の発生と進行にP.ジンジバリスが密接に関与していること、P.ジンジバリスの歯周病に関与する成分には蛋白質分解酵素であるKGPが寄与していることに着目し、有効な歯周病の予防剤及び治療剤を得るべく鋭意研究を重ねた。その結果、KGPを強力かつ選択的に阻害する新規なペプチド誘導体が歯周病の予防剤及び治療剤として、有効性が高いことを見出した。本発明は、かかる新知見に基づき、更に種々検討を重ねて、完成されたものである。
上記一般式(I)において、R1、R2、R3で示される置換オキシカルボニル基としては、生体及び合成反応に影響しないものであれば特に限定されないが、通常利用されるアミノ基の保護基が適当である。例えば、置換基を有してもよいアラルキルオキシカルボニル基、置換基を有してもよい低級アルキルオキシカルボニル基、1−アダマンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基等が挙げられる。
置換基を有してもよいアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基(略称:Cbz);p−メトキシベンジルオキシカルボニル基、p−エトキシベンジルオキシカルボニル基等の置換基として炭素数1〜4の低級アルコキシ基を1又は2個有するベンジルオキシカルボニル基;p−ニトロベンジルオキシカルボニル基等の置換基としてニトロ基を1又は2個有するベンジルオキシカルボニル基;p−ブロモベンジルオキシカルボニル基、2,4−ジクロロベンジルオキシカルボニル基等の置換基としてハロゲン原子を1又は2個有するベンジルオキシカルボニル基;ジフェニルメトキシカルボニル基等が挙げられる。これらの内、好ましいものは、例えば、ベンジルオキシカルボニル基等である。
置換基を有してもよい低級アルキルオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基(略称:Boc)、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル基等の置換基としてハロゲン原子を1〜3個有してもよい炭素数2〜7の直鎖又は分枝状の低級アルキルオキシカルボニル基が挙げられる。これらの内、好ましいものは、例えば、t−ブトキシカルボニル基等である。
R1、R2で示される置換オキシカルボニル基としては、好ましくは置換基としてハロゲン原子を1〜3個有してもよい低級アルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくは低級アルキルオキシカルボニル基であり、特に好ましくはt−ブトキシカルボニル基(Boc)である。
R3で示される置換オキシカルボニル基としては、好ましくは置換基を有してもよいアラルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくは置換基として低級アルコキシ基、ニトロ基又はハロゲン原子を1又は2個有してもよいベンジルオキシカルボニル基であり、特に好ましくはベンジルオキシカルボニル基(Cbz)である。
R4で表される低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝状の低級アルコキシ基が挙げられ、好ましくはt−ブトキシ基である。
R4の置換基を有していてもよいピペラジニル基としては、例えば、ピペラジニル基;N−メチルピペラジニル基、N−エチルピペラジニル基、N−t−ブチルピペラジニル基等の置換基として炭素数1〜4の直鎖又は分枝状の低級アルキル基を有するピペラジニル基;N−メトキシカルボニルピペラジニル基、N−エトキシカルボニルピペラジニル基、N−t−ブトキシカルボニルピペラジニル基等の置換基として炭素数2〜5の直鎖又は分枝状の低級アルコキシカルボニル基を有するピペラジニル基;N−ベンジルオキシカルボニルピペラジニル基等が挙げられ、好ましくは置換基として低級アルキル基を有してもよいピペラジニル基であり、より好ましくはピペラジニル基、N−t−ブトキシカルボニルピペラジニル基である。
R7、R8の置換基を有してもよい低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、メトキシカルボニルアミノメチル基、エトキシカルボニルアミノエチル基、t−ブトキシカルボニルアミノエチル基等の置換基としてアミノ基又は炭素数2〜5の低級アルコキシカルボニルアミノ基を有してもよい炭素数1〜6の直鎖又は分枝状の低級アルキル基が挙げられ、好ましくは置換基としてアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基を有してもよい炭素数1〜6の直鎖又は分枝状の低級アルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、アミノエチル基、t−ブトキシカルボニルアミノエチル基である。
R7、R8の置換基として低級アルキル基又はアリール基を有してもよいアミノ基としては、例えば、アミノ基;メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基等の炭素数1〜4の直鎖又は分枝状の低級アルキル基を1又は2個有するアミノ基;フェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N−エチル−N−フェニルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、ナフチルアミノ基等が挙げられ、好ましくは置換基として低級アルキル基又はフェニル基を有してもよいアミノ基であり、より好ましくはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、フェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基である。
R5の「保護基で保護されていてもよいα−アミノ酸のR基側鎖」のR基側鎖とは、α−アミノ酸のα−炭素原子に結合している特徴的側鎖又は残基のことである。例えば、グリシンに対するR基側鎖とは水素であり、アラニンに対してはメチル基、バリンに対してはイソプロピルである。本願において、α−アミノ酸のR基側鎖は、天然に知られているα−アミノ酸に対応するものであれば何れでもよく、例えば、水素原子(グリシンに対応)、メチル基(アラニンに対応)、イソプロピル基(バリンに対応)、n−ブチル基(ノルロイシンに対応)、イソブチル基(ロイシンに対応)、1−メチルプロピル基(イソロイシンに対応)、ヒドロキシメチル基(セリンに対応)、1−ヒドロキシエチル基(スレオニンに対応)、メルカプトメチル基(システインに対応)、2−メチルチオエチル基(メチオニンに対応)、カルバモイルメチル基(アスパラギンに対応)、カルボキシメチル基(アスパラギン酸に対応)、2−カルボキシエチル基(グルタミン酸に対応)、2−カルバモイルエチル基(グルタミンに対応)、4−アミノブチル基(リジンに対応)、ベンジル基(フェニルアラニンに対応)、4−ヒドロキシベンジル基(チロシンに対応)等が挙げられ、好ましくはイソブチル基、カルバモイルメチル基、2−カルボキシエチル基、4−アミノブチル基、ベンジル基である。
「保護基で保護されていてもよいα−アミノ酸のR基側鎖」の保護基としては、上記R基側鎖上のアミノ基の保護基として従来公知の保護基であれば特に制限はないが、例えば、T.W.Greene,”Protective groups in Organic Synthesis”,A Wiley−Interscience Publication,John−Wiley & Sons,New York,1981,pp218−287に記載された保護基が適当である。具体的には、上述の置換オキシカルボニル基が挙げられ、好ましくは上述の置換基を有してもよい低級アルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくは炭素数2〜7の直鎖又は分枝状の低級アルキルオキシカルボニル基であり、特に好ましくはt−ブトキシカルボニル基(Boc)である。また、上記R基側鎖上のカルボキシル基の保護基としては、従来公知のカルボキシル基とエステル又はエーテルを形成するものであれば特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、t−ブチル、ヘキシル、トリクロロエチル等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝状の置換又は非置換型低級アルキル基;ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ジフェニルメチル等の置換又は非置換型アラルキル基;アセトキシメチル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、ピバロイルオキシプロピル、ベンゾイルオキシメチル、ベンゾイルオキシエチル、ベンジルカルボニルオキシメチル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル等のアシルオキシアルキル基;メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシメチル等のアルコキシアルキル基;その他、テトラヒドロピラニル、ジメチルアミノエチル、ジメチルクロロシリル、トリクロロシリル基等が挙げられ、好ましくは置換又は非置換型アルキル基、または置換又は非置換型アラルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝状の低級アルキル基であり、特に好ましくはt−ブチル基である。
R6の低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基の炭素数1〜4の直鎖状又は分枝状のアルコキシ基を示し、好ましくはメトキシ基である。
R9及びR10の低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝状の低級アルキル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基である。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
本発明化合物の内、好ましい化合物は、一般式(I)において、R1及びR2が、同一又は相異なって、水素原子又は低級アルキルオキシカルボニル基であり、R3が置換基を有してもよいアラルキルオキシカルボニル基である化合物である。
本発明のより好ましい化合物は、一般式(I)において、R4が水酸基、低級アルコキシ基、置換基として低級アルキル基を有してもよいピペラジニル基、又は−NR7R8(式中、R7及びR8は、同一又は相異なって、水素原子、置換基としてアミノ基又は低級アルコキシカルボニルアミノ基を有してもよい低級アルキル基、置換基として低級アルキル基又はフェニル基を有してもよいアミノ基を示す)で表される基を示し、R6が水酸基、低級アルコキシ基、又は−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって、水素原子、低級アルキル基、フェニル基、ベンジル基又はフェネチル基を示す)で表される基であり、nが4である化合物である。
また、本発明化合物のうち、mが0の場合、R6が−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって低級アルキル基を示すか、或いは一方が水素原子で他の一方がフェネチル基を示す)で表される基である化合物が好ましい。
また、本発明化合物の内、mが1の場合、R5がイソブチル基、保護基で保護されていてもよいカルバモイルメチル基、保護基で保護されていてもよい2−カルボキシエチル基、保護基で保護されていてもよい4−アミノブチル基、ベンジル基であり、R6が−NR9R10(式中、R9及びR10は、同一又は相異なって、低級アルキル基を示す)である化合物が特に好ましい。
nは、4であるのが好ましい。
Xは、−CO−であるのが好ましい。
本発明化合物として好ましいものを、更に例示する。
(1)一般式(I)において、Xが−CO−を示し、R1及びR2が水素原子を示し、R3がベンジルオキシカルボニル基を示し、R4が水酸基を示し、R5がイソブチル基、カルバモイルメチル基、2−カルボキシエチル基、4−アミノブチル基又はベンジル基を示し、R6が−NR9R10(式中、R9及びR10はメチル基を示す)で表される基を示し、mが1を示し、nが4を示す化合物。
(2)一般式(I)において、Xが−CO−を示し、R1及びR2が水素原子を示し、R3がベンジルオキシカルボニル基を示し、R4が水酸基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、(2−アミノエチル)アミノ基、ピペラジニル基、1,1−ジメチルヒドラジノ基又は1−メチル−1−フェニルヒドラジノ基を示し、R6がn−プロピルアミノ基、フェニルアミノ基、ベンジルアミノ基又はフェネチルアミノ基を示し、mが0を示し、nが4を示す化合物。
本発明化合物の薬学的に許容される塩としては、特に制限はなく、薬学的に許容される酸を作用させた酸付加塩が挙げられ、酸としては、例えば塩酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、ギ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、メタンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられ、好ましくは塩酸塩である。更に、本発明化合物又はその薬学的に許容される塩は、水和物に代表される溶媒和物の形であってもよい。
また、本発明化合物を構成するアミノ酸は、L−体、D−体のいずれであっても良く、好ましくはL−体である。
また、本発明化合物には、それを構成する不斉炭素により、鏡像異性体又はジアステレオ異性体が存在するが、いずれも本発明に包含される。そして、それらは、通常の方法により光学分割して利用しても、異性体混合物のままで利用しても、良い。
一般式(I)で表される本発明化合物は、以下の反応工程式に従って製造することができる。
<反応工程式1>
(各式中、R3、nは前記に同じ。R1aは水素原子又は置換オキシカルボニル基を示し、R2aは置換オキシカルボニル基を示し、R4aは水酸基又は低級アルコキシ基を示し、R6aは低級アルコキシ基を示す。)。
R1a、R2aで示される置換オキシカルボニル基としては、上述のR1、R2で示された置換オキシカルボニル基が挙げられる。
R1a、R2aで示される置換オキシカルボニル基は、合成反応の都合上、R3と相違することが好ましい。R4aで示される低級アルコキシ基としては、上述のR4で示された低級アルコキシ基が挙げられる。
R6aで表される低級アルコキシ基としては、上述のR6で示された低級アルコキシ基が挙げられる。
工程(i):一般式(II)で表される公知化合物(例えば、国際公開WO98/50420号公報参照)と一般式(III)で表される公知化合物を、好ましくは適当な溶媒中、縮合反応させることにより、一般式(I−a)で表される本発明化合物を合成することができる。
上記縮合反応としては、公知の方法を用いることができ、例えば、N、N−ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩等の縮合剤を用いる方法又はそれらの縮合剤に更に添加剤(例えば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド等)を加える方法、イソブチルクロロフォルメート等を用いた混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法等を用いることができる。これらの反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、N−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は2種以上混合して使用してもよい。試薬の量としては、一般式(II)で表される化合物に対して、一般式(III)で表される化合物は0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜5倍モル量であり、縮合剤は0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜5倍モル量であり、添加剤は0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜5倍モル量である。反応時間は0.3〜100時間程度であり、好ましくは0.5〜20時間程度である。また、反応温度は−10〜100℃程度であり、好ましくは、0〜40℃である。
本工程で得られた化合物は単離して、又は単離することなく次工程に用いることができる。
工程(ii):一般式(I−a)で表される化合物を、好ましくは適当な溶媒中、適当な塩基を用いて加水分解することにより、一般式(I−b)で表される本発明化合物を得ることができる。反応に用いられる塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。反応温度は−20〜50℃程度であり、好ましくは0〜40℃程度である。反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しない溶媒であれば特に制限はなく、例えば、水、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、テトラヒドロフラン等が例示でき、これらは単独で又は2種以上混合して使用してもよい。試薬の量としては、一般式(I−a)で表される化合物に対して、0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜2倍モル量である。反応時間は0.3〜100時間程度であり、好ましくは0.5〜20時間程度である。また、反応温度は0〜100℃程度であり、好ましくは、0〜40℃である。
本工程で得られた化合物は単離して、又は単離することなく次の工程に用いることができる。
<反応工程式2>
(式中、R1a、R2a、R3、R4a、R5、n、mは前記に同じ。R6bは水酸基、低級アルコキシ基、又は−NR9R10(式中、R9及びR10は前記に同じ。)を示す。但し、mが0の場合、R6bは水酸基ではない。)。
R6bで表される低級アルコキシ基としては、上述のR6で示された低級アルコキシ基が挙げられる。
工程(iii):反応工程式1で得られた一般式(I−b)で表される化合物と一般式(IV)で表される公知化合物を、好ましくは適当な溶媒中、縮合反応させることにより、一般式(I−c)で表される本発明化合物を合成することができる。
上記縮合反応としては、公知の方法を用いることができ、例えば、N、N−ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩等の縮合剤を用いる方法又はそれらの縮合剤に更に添加剤(例えば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド等)を加える方法、イソブチルクロロフォルメート等を用いた混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法等を用いることができる。これらの反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、N−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は2種以上混合して使用してもよい。試薬の量としては、一般式(II)で表される化合物に対して、0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜2倍モル量である。反応時間は0.3〜100時間程度であり、好ましくは0.5〜20時間程度である。また、反応温度は0〜100℃程度であり、好ましくは、0〜40℃である。
本工程で得られた化合物は単離して、又は単離することなく次工程に用いることができる。
<反応工程式3>
(式中、R1a、R2a、R3、R4a、R5、R6、n、mは前記に同じ。)。
工程(iv):上記反応工程式1及び2において得られた一般式(I−a)、(I−b)又は(I−c)で表される化合物を、好ましくは適当な溶媒中で、酸化反応を行い、一般式(I−d)で表される本発明化合物を合成することができる。
本酸化反応としては、公知の方法が用いられ、例えば、デスマーチン試薬を用いるデスマーチン酸化、ジメチルスルフォキシド−1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩−ジクロロ酢酸を用いる改良モファット酸化等の方法が用いられる。反応に用いられる溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、N−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は2種以上混合して使用してもよい。試薬の量としては、一般式(I−a)、(I−b)又は(I−c)で表される化合物に対して、0.3〜100倍モル量程度、好ましくは1〜10倍モル量である。反応時間は0.1〜100時間程度であり、好ましくは、0.2〜50時間である。反応温度は−20〜100℃程度であり、好ましくは0〜40℃である。
本工程で得られた化合物は単離して、又は単離することなく次工程に用いることができる。
<反応工程式4>
(式中、X、R3、R4a、R5、R6、n、mは前記に同じ。)。
工程(v):一般式(I−a)、(I−b)、(I−c)又は(I−d)で表される化合物を、適当な溶媒中あるいは無溶媒で、酸で処理することにより、一般式(I−e)で表される本発明化合物が得られる。
反応に使用される溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが例示できる。酸としては例えば、塩酸、硫酸などの鉱酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸などの有機酸が例示できる。反応に用いる酸の量は1〜1000倍モル量程度で好ましくは1〜100倍モル量である。反応時間は0.5〜5時間である。反応温度は0〜100℃程度であり、好ましくは0〜30℃である。
一般式(I)で表される化合物の内、R4が低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいピペラジニル基又は−NR7R8(式中、R7及びR8は、同一又は相異なって、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基として低級アルキル基又はアリール基を有してもよいアミノ基を示す)である化合物は、下記反応工程式5に従って製造することができる。
<反応工程式5>
(式中、X、R1、R2、R3、R5、R6、n、mは前記に同じ。R4bは水酸基又は低級アルコキシ基を示し、R4cは低級アルコキシ基、置換基を有していてもよいピペラジニル基又は−NR7R8(式中、R7及びR8は前記に同じ。)を示す。)。
工程(vi):本発明化合物の内、R4が水酸基である化合物(I−f)を、低級アルコール、置換基を有していてもよいピペラジン又はNHR7R8(式中、R7及びR8は前記に同じ。)で表されるアミン類と、無溶媒又は適当な溶媒中で、縮合剤を用いて反応させることにより、一般式(I−g)で表される本発明化合物を合成することができる。
上記縮合反応としては、公知の方法を用いることができ、例えば、N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩等の縮合剤を用いる方法又はそれらの縮合剤に更に添加剤(例えば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド等)を加える方法、イソブチルクロロフォルメート等を用いた混合酸無水物法、アジド法、活性エステル法等を用いることができる。これらの反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、N−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は2種以上混合して使用してもよい。試薬の量としては、一般式(I−f)で表される化合物に対して、低級アルコール、ピペラジン類又はアミン類は0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜5倍モル量であり、縮合剤は0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜5倍モル量であり、添加剤は0.5〜10倍モル量程度、好ましくは1〜2倍モル量である。反応時間は0.1〜100時間程度であり、好ましくは0.3〜20時間程度である。また、反応温度は0〜100℃程度であり、好ましくは、0〜40℃である。
また、一般式(I)で表される化合物の内、R1が水素原子であり、R2が置換オキシカルボニル基である化合物は、下記反応工程式6に従って製造することもできる。
<反応工程式6>
(式中、X、R3、R4、R5、R6、n、mは前記に同じ。R2bは置換オキシカルボニル基を示す。)。
工程(vii):本発明化合物の内、R1及びR2が水素原子である化合物(I−h)を、好ましくは適当な溶媒中で、公知の置換オキシカルボニル基の導入試薬を用いて、アミノ基を保護することにより、一般式(I−i)で表される本発明化合物を得ることができる。
上記導入試薬としては、アミノ基の保護に用いられる公知のものであれば特に制限が無く、例えば、ジ炭酸ジ−tert−ブチルエステル、塩化ベンジルオキシカルボニル、塩化−2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル、塩化−9−フルオレニルメチルオキシカルボニル等が挙げられる。反応に用いられる溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、N−メチルピロリドン等が例示でき、これらを単独で又は2種以上混合して使用してもよい。保護基導入試薬の量としては、一般式(I−h)で表される化合物に対して、1〜100倍モル量程度、好ましくは1〜10倍モル量である。反応時間は0.1〜100時間程度であり、好ましくは0.5〜50時間程度である。また、反応温度は−20〜100℃程度であり、好ましくは、0〜40℃である。本工程で得られた化合物(I−i)は、単離して、又は単離することなく前記反応工程式3〜5に用いることができる。
上記各方法により得られる本発明化合物及び各化合物は再結晶、蒸留、各種カラムクロマトグラフィー等の合成化学上の通常用いられる分離精製手段によって精製可能である。
本発明の一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩は、歯周病の発生と進行に密接に関与しているP.ジンジバリスが産生する蛋白質分解酵素であるKGPを強力かつ選択的に阻害する。また、本発明ペプチド誘導体は、その構成成分が天然に存在している安全性の高いアミノ酸又はその誘導体より成ることから生体代謝産物も含めて、極めて安全性が高いと考えられる。
よって、一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩は、これを有効成分とするリジル−ジンジパイン阻害剤及び歯周病用薬剤として有用である。ここで、リジル−ジンジパイン阻害剤及び歯周病用薬剤は、いずれも、歯周病の予防剤及び治療剤として使用できる。
また、一般式(I)で表されるペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩は、これと薬学的に許容される担体を含有する口腔用組成物としても有用である。例えば、本発明ペプチド誘導体又はその薬学的に許容される塩は薬学的に許容される担体と配合し、口腔用ゲル製剤、口腔用粘膜付着性軟膏、口腔パスタ、歯周ポケット挿入剤、歯肉付着製剤などの口腔用製剤又は歯磨、洗口液、チューインガム、タブレット、キャンデー、トローチなどの口腔衛生剤として投与することができる。ここで、口腔組成物は、歯周病の予防剤及び治療剤として使用できる。
薬学的に許容される担体としては、その剤形に応じた通常使用される適宜な成分を使用することができ、例えば、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、流動パラフィン、白色ワセリン、プラチナベース、オイドラジットL、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、プルラン、トラガント、キサンタンガム、キトサン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリメタアクリル酸、メタアクリル酸エチル、ジメチルアミノアセテート、酢酸セルロース、コラーゲン、アテロコラーゲン、ゼラチン、グリセリン、トリアセチン、マクロゴール400、ポリソルベート60、ステアリン酸ポリオキシル40、パラオキシ安息香酸ブチル、エタノール、セタノール、モノステアリン酸グリセリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、第二リン酸カルシウム、カラギーナン、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヒノキチオール、アラントイン、グリチルリチン、アラビアゴム、デンプン、コーンスターチ、サッカリン、サッカリンナトリウム、ステビオサイド、ブドウ糖、乳糖、ソルビトール、マンニトール、ステアリン酸マグネシウム、リン酸一カリウム、リン酸二カリウム、メントール、ユーカリ油、ペッパーミント、スペアミント、色素、香料、フッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウムのフッ化物、塩化リゾチーム、アズレン等の抗炎症剤、塩化ナトリウム等の通常使用される成分を適宜配合することができる。
本発明ペプチド誘導体又はその薬学的に許容される塩を有効成分として含有するリジル−ジンジパイン阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を、ヒトを含む哺乳動物に投与する方法としては、有効成分0.001重量%以上、好ましくは0.01〜20重量%を含有する製剤の適量を、通常1日1回以上挿入、塗布、洗浄等に使用すればよい。
本発明のリジル−ジンジパイン阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を治療剤として使用する場合の使用量としては、用法、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度により適宜選択できる。ヒトの場合、通常、有効成分とする本発明化合物の量が、1日当たり、体重1kg当たり、0.001〜100mgであり、好ましくは0.005〜10mgである。
また、本発明のリジル−ジンジパイン阻害剤、歯周病用薬剤及び口腔用組成物を予防剤として使用する場合の使用量としては、用法、年齢、性別その他の条件により適宜選択できる。ヒトの場合、通常、有効成分とする本発明化合物の量が、1日当たり、体重1kg当たり、0.001〜100mgであり、好ましくは0.005〜10mgである。
発明を実施するための好ましい形態
以下、実施例及び試験例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。尚、各例において、Meはメチル基を、Bocはt−ブトキシカルボニル基を、Cbzはベンジルオキシカルボニル基を、tBuはt−ブチル基を、Phはフェニル基を、それぞれ示す。
実施例1
下記式の化合物を合成した。
国際公開WO98/50420号公報記載の方法に準じて製造された公知化合物である(3S)−7−[(t−ブトキシ)カルボニルアミノ]−2−ヒドロキシ−3−[(フェニルメトキシ)カルボニルアミノ]−ヘプタン酸メチルエステル(Cbz−Lys(Boc)ψ[CHOHCO]−OMe)21g(49.47mmol)のメタノール−クロロホルム(10:1)の混合溶液1000mlに10%パラジウム−炭素4gを加え、水素雰囲気下、室温にて、3時間45分間攪拌し、ベンジルオキシカルボニル基を脱保護した。反応終了後、不溶物を濾去した。濾液を濃縮後、単離精製することなく、DMF(ジメチルホルムアミド、以下同じ)525mlに溶解した。この溶液に氷冷下、カルボベンゾキシ−L−グルタミン酸γ−t−ブチルエステル(Cbz−Glu(OtBu)−OH)20g(59.36mmol)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール8.7g(64.31mmol)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩11.4g(59.36mmol)、N−メチルモルホリン13.5g(133.57mmol)を加え、室温にて14時間攪拌した。反応終了後、10%クエン酸水溶液を加え、pH=3に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:2〜1:1)で分離精製し、標記化合物のジアステレオ混合物18.3g(収率60%)を白色粉体として得た。以下に物性値を示す。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.67(0.3H,d,J=8.8Hz),7.54(0.7H,d,J=9.0Hz),7.40−7.25(6H,m),6.73(1H,m),5.69(0.3H,d,J=5.9Hz),5.53(0.7H,d,J=5.6Hz),5.02(2H,m),4.11−3.96(3H,m),3.61(0.9H,s),3.56(2.1H,s),2.87(2H,m),2.20(2H,m),1.83(1H,m),1.66(1H,m),1.59−1.06(6H,m),1.38(9H,s),1.36(9H,s)。
m.p.:101〜103℃。Mass(FAB(+)):m/z 610(M+H)+。
実施例2
下記式の化合物を合成した。
実施例1で得られた化合物3.53g(5.76mmol)のTHF(テトラヒドロフラン、以下同じ)溶液100mlに水酸化リチウム一水和物270mg(6.43mmol)の水溶液10mlを氷冷下で加え、1時間撹拌し、次いで、室温にて30分間攪拌した。反応終了後、減圧下、濃縮し、残渣に10%クエン酸水溶液を加えて、pH=3に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、標記化合物3.5g(収率100%)を白色粉末として得た。以下に物性値を示す。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.45(1H,brs),7.49−7.31(7H,m),6.74(1H,m),5.38(0.3H,d,J=5.8Hz),5.26(0.7H,d,J=5.8Hz),5.01(1H,ABq,J=12.4Hz),4.04−3.85(4H,m),2.86(2H,m),2.19(2H,m),1.90−0.90(8H,m),1.40−1.36(18H,s x 2)。
m.p.:48〜50℃。Mass(FAB(−)):m/z 594(M−H)−。
実施例3
下記式の化合物を合成した。
実施例2で得られた化合物250mg(0.42mmol)のDMF溶液5mlに氷冷下、フェニルアラニンN,N−ジメチルアミド塩酸塩94mg(0.420mmol)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール62mg(0.46mmol)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩79mg(0.42mmol)、N−メチルモルホリン46mg(0.46mmol)を加え、室温にて3時間攪拌した。反応終了後、10%クエン酸水溶液を加え、pH=3に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル:メタノール=5:5:1)にて分離精製を行い、標記化合物のジアステレオマーを溶出順に93mg(収率31%)、60mg(収率20%)を白色粉体として得た。以下に物性値を示す。
第1溶出化合物
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.88(1H,d,J=8.1Hz),7.40(1H,d,J=8.0Hz),7.35−7.20(11H,m),6.73(1H,t,J=5.4Hz),5.75(1H,d,J=6.1Hz),5.00(2H,ABq,J=12.4Hz),4.88(1H,dt,J=9.4,4.7Hz),4.07−3.85(3H,m),2.95−2.80(4H,m),2.74(6H,s x 2),2.18(2H,t,J=7.7Hz),1.83(1H,m),1.66(1H,m),1.49−1.11(6H,m),1.36(18H,s x 2)。
m.p.:68〜71℃。Mass(FAB(+)):m/z 770(M+H)+、Mass(FAB(−)):m/z 768(M−H)−。
第2溶出化合物
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.68(1H,d,J=8.5Hz),7.49(1H,d,J=9.0Hz),7.41−7.14(11H,m),6.72(1H,t,J=5.1Hz),5.92(1H,d,J=5.8Hz),5.02(2H,ABq,J=12.4Hz),4.98(1H,m),4.04−3.96(2H,m),3.84(1H,m),2.95−2.73(4H,m),2.87(3H,s),2.79(3H,s),2.21(2H,t,J=8.0Hz),1.89(1H,m),1.72(1H,m),1.48−0.83(6H,m),1.38(9H,s),1.36(9H,s)。m.p.:132〜134℃。Mass(FAB(+)):m/z 770(M+H)+、Mass(FAB(−)):m/z 768(M−H)−。
以下、実施例4〜11について、実施例3と同様な方法で、各標記化合物を合成した。
実施例4
下記式の化合物を合成し、ジアステレオマーを分離した。
第1溶出化合物
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.76(1H,d,J=8.3Hz),7.40(1H,d,J=7.8Hz),7.36−7.32(6H,m),6.72(1H,t,J=5.1Hz),5.69(1H,d,J=2.9Hz),5.02(2H,s),4.74(1H,m)、4.04−3.86(3H,m)、3.00(3H,s)、2.81(3H,s)、2.89−2.81(2H,m),2.18(2H,t,J=7.5Hz),1.84(1H,m),1.70−1.16(10H,m),1.37(9H,s),1.36(9H,s),0.87(3H,d,J=6.3Hz),0.85(3H,d,J=6.8Hz)。
m.p.:59〜61℃。Mass(FAB(+)):m/z 736(M+H)+。
第2溶出化合物
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.65(1H,d,J=8.5Hz),7.56(1H,d,J=8.6Hz),7.41(1H,d,J=7.8Hz),7.37−7.31(5H,m),6.72(1H,t,J=5.9Hz),5.96(1H,d,J=5.6Hz),5.03(2H,ABq,J=12.4Hz),4.80(1H,dt,J=3.8,9.5Hz),4.11−3.99(2H,m),3.88(1H,m),3.02(3H,s),2.83(3H,s),2.85−2.79(2H,m),2.21(2H,t,J=8.1Hz),1.88(1H,m),1.70(1H,m),1.61−1.00(9H,m),1.38(9H,s),1.35(9H,s),0.91(3H,d,J=6.8Hz),0.86(3H,d,J=6.8Hz)。
m.p.:155〜157℃。Mass(FAB(+)):m/z 736(M+H)+。
実施例5
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.77 & 7.74(1H,d,J=7.8,8.8Hz),7.58−7.26(7H,m),6.72(1H,m),5.95 & 5.81(1H,d,J=6.6,5.8Hz),5.05−4.97(2H,m),4.83−4.67(1H,m),4.14−3.86(3H,m),3.05 & 3.02(3H,s),2.86−2.56(2H,m),2.83 & 2.82(3H,s),2.21−2.15(4H,m),1.93−1.77(2H,m),1.73−1.56(2H,m),1.44−1.09(6H,m),1.41−1.35(27H,m)。
m.p.:58〜60℃。Mass(FAB(+)):m/z 808(M+H)+、830(M+Na)+。
実施例6
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.78 & 7.79(1H,d,J=8.8 & 8.0Hz),7.53 & 7.41(1H,d,J=9.2 & 8.0Hz),7.35−7.25(7H,m),6.83−6.69(2H,m),5.86 & 5.72(1H,d,J=5.6 & 6.0Hz),5.01(2H,s),5.04−5.01(1H,m),4.02−3.80(3H,m),3.02 & 2.98(3H,s),2.80 & 2.78(3H,s),2.90−2.75(2H,m),2.60−2.49(1H,m),2.40−2.20(3H,m),1.90−0.95(6H,m),1.37(9H,s),1.35(9H,s)。
m.p.:88〜91℃。Mass(FAB(+)):m/z 737(M+H)+、759(M+Na)+。
実施例7
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.77 & 7.68(1H,d,J=8.3 & 8.0Hz),7.57−7.24(7H,m),6.78−6.63(2H,m),5.95 & 5.72(1H,d,J=5.8Hz),5.07−4.96(2H,m),4.77−4.61(1H,m),4.12−3.84(3H,m),3.03 & 3.00(3H,s),2.89−2.80(4H,m),2.83 & 2.82(3H,s),2.19(2H,m),1.93−0.99(14H,m),1.35−1.38(27H,s x 3)。
Mass(FAB(+)):m/z 851(M+H)+、873(M+Na)+。
性状:泡状物質。
実施例8
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.63(1H,t,J=5.9Hz),7.45−7.20(7H,m),6.80−6.65(1H,m),5.83 & 5.76(1H,d,J=6.1,5.6Hz),5.03 & 5.02(2H,s),4.10−3.93(2H,m),3.85(1H,m),3.02(2H,m),2.84(2H,m),2.18(2H,m),1.95−1.59(2H,m),1.58−1.06(8H,m),1.38 & 1.36 & 1.35(18H,s x 2),0.82 & 0.80(3H,t,J=7.3Hz)。
m.p.:73〜75℃。Mass(FAB(+)):m/z 659(M+Na)+。
実施例9
下記式の化合物を合成し、ジアステレオマーを分離した。
第1溶出化合物
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.62(1H,s),7.68(2H,d.J=7.8Hz),7.62(1H,d,J=6.4Hz),7.42(1H,d,J=8.1Hz),7.36−7.27(7H,m),7.06(1H,t,J=7.5Hz),6.69(1H,t,J=5.0Hz),6.05(1H,d,J=5.8Hz),5.02(2H,ABq,J=12.6Hz),4.17−4.00(3H,m),2.91−2.82(2H,m),2.21(2H,t,J=7.8Hz),1.94−1.81(1H,m),1.76−1.62(1H,m),1.56−1.01(6H,m),1.38(9H,s),1.34(9H,s)。
m.p.:150〜153℃。Mass(FAB(+)):m/z 671(M+H)+、693(M+Na)+。
第2溶出化合物
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.51(1H,s),7.61(2H,d,J=7.6Hz),7.48(1H,d,J=9.0Hz),7.40(1H,d,J=8.3Hz),7.35−7.24(7H,m),7.04(1H,t,J=7.4Hz),6.75(1H,m),6.00(1H,d,J=5.6Hz),4.99(2H,s),4.13−3.93(3H,m),2.90−2.85(2H,m),2.10(2H,t,J=7.8Hz),1.86−1.76(1H,m),1.66−1.57(1H,m),1.48−1.12(6H,m),1.36(9H,s),1.33(9H,s)。
m.p.:146〜147℃。Mass(FAB(+)):m/z 671(M+H)+、693(M+Na)+。
実施例10
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.21(1H,t,J=6.1Hz),7.95−7.19(12H,m),6.75(1H,m),5.87(1H,d,J=5.6Hz),5.01(2H,s),4.33(1H,dd,J=6.8,15.2Hz),4.19(1H,dd.J=6.0,15.2Hz),4.04−3.92(3H,m),2.86(2H,m),2.19(2H,m),1.97−1.60(2H,m),1.59−1.16(6H,m),1.36(18H,s x 2)。
m.p.:111〜113℃。
実施例11
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:7.81 & 7.73(1H,t,J=5.7Hz),7.45−7.15(12H,m),6.71(1H,m),5.86 & 5.76(1H,m),5.01 & 5.01(2H,s),4.07−3.94(2H,m),3.84(1H,m),3.30(2H,m),2.86(2H,m),2.69(2H,t,J=7.8Hz),2.18(2H,m),1.94−1.59(2H,m),1.56−1.01(6H,m),1.36 & 1.35 & 1.32(18H,s x 2)。
m.p.:82〜85℃。Mass(FAB(+)):m/z 721(M+Na)+。
一般式(I)で表される化合物の内、R4がアミド又はヒドラジドである化合物は、以下に示す方法で合成した。
実施例12
下記式の化合物を合成した。
実施例10で得られた化合物5.60g(8.18mmol)を4N塩酸−酢酸エチル溶液(200ml)、メタノール100mlを加えて、室温にて、3時間20分間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)を加え、pH=8とした後、ジ炭酸ジ−tert−ブチルエステル2.65g(12.14mmol)のTHF溶液(100ml)を加えて、室温にて17時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加えて、抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去したのち、白色結晶4.42g(収率84%)を得た。このうち、2g(3.18mmol)をTHF15mlに溶解し、氷冷下、水酸化リチウム一水和物144mg(3.43mmol)の水溶液1ml及びメタノール1mlを氷冷下で加え、室温にて45分間撹拌した。反応終了後、残渣に10%クエン酸水溶液を加えて、pH=3に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、1.4g(収率72%)を泡状物質として得た。このうち、200mg(0.318mmol)のTHF溶液(5ml)に氷冷下、クロロ炭酸イソブチル43μl、N−メチルモルホリン37μlを加えて、15分間撹拌したのち、28%アンモニア水30μlを加え、さらに30分間撹拌した。反応終了後、10%クエン酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去すると標記化合物のジアステレオ混合物187mg(収率94%)を白色粉体として得た。以下に物性値を示す。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.35(0.4H,t,J=6.2Hz),8.21(0.6H,d,J=6.0Hz),7.60(0.4H,d,J=8.8Hz),7.52(12.6H,m),6.83−6.67(2H,m),5.88(0.4H,d,J=5.1Hz),5.82(0.6H,d,J=5.4Hz),5.03 & 5.01(2H,s),4.38−3.88(5H,m),2.93−2.74(2H,m),2.24−2.03(2H,m),1.93−1.66(2H,m),1.60−1.16(6H,m),1.37(9H,s)。
m.p.:138〜141℃。Mass(FAB(+)):m/z 650(M+Na)+。
以下、実施例13〜17について、実施例12と同様な方法で対応するアミンを用いて、各標記化合物を合成した。
実施例13
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.35(0.4H,t,J=6.1Hz),8.22(0.6H,t,J=6.1Hz),7.78−7.17(13H,m),6.80−6.66(1H,m),5.88 & 5.80(1H,d,J=5.8Hz),5.08−4.94(2H,m),4.38−3.86(5H,m),2.92−2.74(2H,m),2.54(3H,d,J=4.4Hz),2.29−2.01(2H,m),1.95−0.98(8H,m),1.37(9H,s)。
m.p.:147〜149℃。Mass(FAB(+)):m/z 680(M+K)+。
実施例14
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.34(0.4H,t,J=6.1Hz),8.21(0.6H,t,J=6.0Hz),7.58−7.06(12H,m),6.79−6.66(1H,m),5.85(0.6H,d,J=5.6Hz),5.80(0.4H,t,J=5.4Hz),5.03−5.01(2H,m),4.34−3.94(5H,m),2.91 & 2.89(3H,s),2.79 & 2.78(3H,s),2.89−2.73(2H,m),2.35−2.21(2H,m),1.92−1.66(2H,m),1.58−1.01(6H,m),1.37(9H,s)。
Mass(FAB(+)):m/z 656(M+H)+、678(M+Na)+。
性状:泡状物質。
実施例15
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.34(0.3H,t,J=5.9Hz),8.21(0.7H,t,J=6.3Hz),7.83−7.70(1H,m),7.60−7.21(12H,m),6.81−6.66(2H,m),5.90(0.7H,d,J=5.2Hz),5.83(0.3H,d,J=5.6Hz),5.02 & 5.01(2H,s),4.29−3.85(5H,m),3.03−2.75(6H,m),2.20−2.05(2H,m),1.99−1.60(2H,m),1.60−1.16(6H,m),1.36(18H,s)。
m.p.:170〜172℃。Mass(FAB(+)):m/z 793(M+Na)+。
実施例16
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.97(1H,brs),8.38−8.30(1H,m),8.25(1H,d,J=6.8Hz),7.60−7.19(11H,m),6.77(1H,m),5.97−5.74(1H,m),5.04 & 5.01(2H,s),4.34−4.20(2H,m),4.19−3.94(3H,m),2.90−2.67(2H,m),2.48(3H,s),2.40(3H,s),2.15−1.95(2H,m),1.94−0.95(8H,m),1.37(9H,s)。
m.p.:123〜125℃。Mass(FAB(+)):m/z 671(M+H)+、693(M+Na)+、709(M+K)+。
実施例17
下記式の化合物を、ジアステレオ混合物として得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.86(1H,s),8.35 & 8.23(1H,t,J=6.1Hz),7.62−7.14(14H,m),6.72(3H,m),5.89 & 5.81(1H,d,J=5.5Hz),5.06−4.98(2H,m),4.34−3.94(5H,m),3.06 & 3.05(3H,s),2.96−2.71(2H,m),2.31−2.10(2H,m),1.98−1.62(2H,m),1.60−1.21(7H,m),1.37(9H,s)。
m.p.:170〜173℃。Mass(FAB(+)):m/z 771(M+K)+。
実施例18
下記式の化合物を合成した。
実施例3で得られた化合物100mg(0.130mmol)の塩化メチレン溶液3mlにデスマーチン試薬83mg(0.195mmol)を加え、室温にて15分間攪拌した。反応終了後、20%亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、5分間攪拌し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:3)で分離精製し、標記化合物56mg(収率56%)を白色粉体として得た。以下に物性値を示す。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.79(1H,d,J=8.5Hz),8.18(1H,d,J=6.8Hz),7.39(1H,d,J=8.3Hz),7.36−7.17(10H,m),6.78(1H,t,J=5.6Hz),5.01(2H,ABq,J=12.4Hz),4.94(1H,dt,J=7.0,8.3Hz),4.85(1H,m),4.05(1H,m),2.98(1H,dd,J=5.6,13.8Hz),3.33(3H,s),2.93(3H,s),2.91(1H,dd,J=9.0,13.7Hz),2.88−2.74(2H,m),2.25(2H,t,J=8.0Hz),1.91−1.64(2H,m),1.39(9H,s),1.37(9H,s),1.34−1.15(6H,m)。
m.p.:102〜104℃。Mass(FAB(+)):m/z 768(M+H)+、806(M+K)+。
以下、実施例19〜33までは、実施例18と同様な方法で、各標記化合物を合成した。
実施例19
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.64(1H,d,J=8.3Hz),8.24(1H,d,J=6.6Hz),7.41(1H,d,J=8.3Hz),7.39−7.26(5H,m),6.76(1H,t,J=5.0Hz),5.02(2H,ABq,J=12.7Hz),4.95(1H,m),4.75(1H,m),4.07(1H,m),3.03(3H,s),2.87(2H,m),2.83(3H,s),2.26(2H,t,J=7.8Hz),1.94−1.19(11H,m),1.39(9H,s),1.36(9H,s),0.89(3H,d,J=6.6Hz),0.86(3H,d,J=6.6Hz)。
m.p.:119〜122℃。Mass(FAB(+)):m/z 734(M+H)+、756(M+Na)+。
実施例20
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.64(1H,d,J=8.3Hz),8.25(1H,d,J=6.8Hz),7.41(1H,d,J=8.3Hz),7.35−7.27(5H,m),6.76(1H,t,J=4.5Hz),5.01(2H,ABq,J=12.5Hz),4.96(1H,m),4.80(1H,m),4.07(1H,m),3.05(3H,s),2.92−2.88(2H,m),2.93(3H,s),2.31−2.16(4H,m),1.99−1.65(4H,m),1.55−1.24(6H,m),1.39(18H,s x2),1.36(9H,s)。
m.p.:127〜130℃。Mass(FAB(+)):m/z 806(M+H)+、828(M+Na)+。
実施例21
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.89(1H,t,J=8.6Hz),8.25(1H,d,J=6.8Hz),7.41(1H,d,J=8.3Hz),7.36−7.32(6H,m),6.86(1H,m),6.77(1H,m),5.02−4.95(4H,m),4.05(1H,m),3.02(3H,s),2.87−2.81(2H,m),2.81(3H,s),2.61(1H,dd,J=7.3,15.4Hz),2.36(1H,dd,J=6.6,15.2Hz),2.23−2.18(2H,m),1.91−1.68(3H,m),1.51−1.20(5H,m),1.39(9H,s),1.36(9H,s)。
m.p.:122〜124℃。Mass(FAB(+)):m/z 735(M+H)+、757(M+Na)+。
実施例22
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.57(1H,d,J=8.1Hz),8.25(1H,d,J=6.6Hz),7.40(1H,d,J=8.5Hz),7.35−7.25(5H,m),6.75(2H,t,J=5.1Hz),5.01(2H,ABq,J=13.0Hz),4.98−4.91(1H,m),4.72−4.61(1H,m),4.08(1H,dt,J=8.3,5.4Hz),3.05(3H,s),2.93−2.83(4H,m),2.83(3H,s),2.24(2H,t,J=8.3Hz),1.99−0.80(14H,m),1.39(9H,s),1.36(18H,s x2)。m.p.:152〜155℃。Mass(FAB(+)):m/z 849(M+H)+。
実施例23
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.68(1H,t,J=6.1Hz),8.26(1H,d,J=6.6Hz),7.40(1H,d,J=8.6Hz),7.35−7.31(5H,m),6.76(1H,t,J=5.5Hz),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.92−4.87(1H,m),4.09−4.02(1H,m),3.10−3.04(2H,m),2.93−2.82(2H,m),2.25(2H,t,J=8.1Hz),1.92−1.16(10H,m),1.39(9H,s),1.36(9H,s),0.82(3H,t,J=7.4Hz)。
m.p.:131〜133℃。Mass(FAB(+)):m/z 673(M+K)+。
実施例24
1H−NMR(DMSO−d6)δ:10.58(1H,s),8.41(1H,d,J=6.1Hz),7.79(2H,d,J=8.8Hz),7.43(1H,d,J=8.1Hz),7.40−7.25(7H,m),7.13(1H.t,J=7.3Hz),6.77(1H,m),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),5.01(1H,m),4.08(1H,m),2.90(2H,m),2.26(2H,t,J=7.8Hz),1.95−1.65(3H,m),1.64−1.49(1H,m),1.48−1.10(4H,m),1.38(9H,s),1.36(9H,s)。
m.p.:134〜136℃。
実施例25
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.24(1H,t,J=6.3Hz),8.30(1H,d,J=6.6Hz),7.41(1H,d,J=8.3Hz),7.36−7.21(10H,m),6.77(1H,t,J=5.4Hz),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.96−4.90(1H,m),4.32(2H,dq,J=6.2,14.9Hz),4.08(1H,dt,J=6.0,8.6Hz),2.92−2.83(2H,m),2.25(2H,t,J=8.0Hz),1.91−1.15(8H,m),1.38(9H,s),1.36(9H,s)。
m.p.:130〜132℃。Mass(FAB(+)):m/z 705(M+Na)+。
実施例26
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.76(1H,t,J=5.9Hz),8.24(1H,d,J=6.4Hz),7.41(1H,d,J=8.0Hz),7.40−7.16(10H,m),6.77(1H,t,J=4.9Hz),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.91(1H,m),4.06(1H,m),3.35(2H,m),2.88(2H,m),2.75(2H,m),2.25(2H,t,J=7.9Hz),1.93−1.08(8H,m),1.38(9H,s),1.37(9H,s)。
m.p.:148〜150℃。Mass(FAB(+)):m/z 697(M+H)+。
実施例27
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.25(1H,t,J=6.3Hz),8.29(1H,d,J=6.8Hz),7.41−7.24(12H,m),6.77−6.70(2H,m),5.02(2H,s),5.02−4.97(1H,m),4.34(2H,dq,J=6.4,12.7Hz),4.12−4.04(1H,m),2.88−2.84(2H,m),2.20−2.02(2H,m),1.95−1.58(2H,m),1.57−1.10(6H,m),1.36(9H,s)。
m.p.:193〜195℃。Mass(FAB(+)):m/z 664(M+K)+。
実施例28
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.24(1H,t,J=6.1Hz),8.28(1H,t,J=6.0Hz),7.70(1H,brs),7.43−7.18(11H,m),6.76(1H,m),5.02(2H,s)5.00−4.92(1H,m),4.37−4.24(2H,m),4.11−3.98(1H,m),2.93−2.79(2H,m),2.54(3H,d,J=4.6Hz),2.21−2.02(2H,m),2.00−1.62(3H,m),1.55−1.17(5H,m),1.36(9H,s)。
m.p.:189〜192℃。Mass(FAB(+)):m/z 640(M+H)+。
実施例29
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.24(1H,t,J=6.2Hz),8.31(1H,t,J=6.4Hz),7.44(1H,d,J=8.0Hz),7.35−7.22(10H,m),6.76(1H,t,J=5.1Hz),5.01(2H,s),5.05−4.97(1H,m),4.37−4.26(2H,m),4.08−4.00(1H,m),2.92(3H s),2.93−2.88(2H,m),2.80(3H,s),2.36−2.32(2H,m),1.84−1.74(3H,m),1.52−1.23(5H,m),1.36(9H,s)。
m.p.:98〜101℃。
実施例30
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.24(1H,t,J=6.1Hz),8.29(1H,d,J=6.8Hz),7.79(1H,t,J=5.4Hz),7.45−7.18(11H,m),6.81−6.75(2H,m),5.02(2H,s),5.08−4.91(1H,m),4.38−4.30(2H,m),4.11−3.99(1H,m),3.16−2.75(6H,m),2.21−2.05(2H,m),1.99−1.80(1H,m),1.80−1.61(2H,m),1.56−1.10(5H,m),1.36(18H,s)。
m.p.:157〜159℃。Mass(FAB(+)):m/z 769(M+H)+、791(M+Na)+。
実施例31
1H−NMR(CDCl3)δ:9.23(1H,t,J=6.2Hz),8.33−8.31(1H,m),7.44(1H,d,J=8.0Hz),7.39−7.22(10H,m),6.80−6.66(1H,m),5.02(2H,s),5.05−4.90(1H,m),4.32(2H,dq,J=7.1,15.6Hz),4.13−3.96(1H,m),3.49−3.18(8H,m),2.95−2.75(2H,m),2.44−2.24(2H,m),1.92−1.77(2H,m),1.57−1.05(6H,m),1.40(9H,s),1.36(9H,s)。
m.p.:60〜65℃。
実施例32
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.20(1H,brs),9.25(1H,m),8.35(1H,s),7.70−7.20(11H,m),6.70(1H,brs),5.20−4.85(3H,m),4.35(2H,m),4.25(1H,m),3.20(6H,s),2.85(2H,m),2.25(2H,m),1.98−0.98(8H,m),1.35(9H,s)。
性状:泡状物質。
実施例33
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.88(1H,s),9.28−9.14(1H,m),8.31(1H,d,J=6.8Hz),7.42(1H,J=8.1Hz),7.37−7.15(13H,m),6.83−6.65(3H,m),5.04 & 5.02(2H,s),4.98−4.91(1H,m),4.34(2H,dq,J=5.4,11.5Hz),4.13−3.99(1H,m),3.06(3H,s),2.93−2.79(2H,m),2.37−2.14(2H,m),1.99−1.63(3H,m),1.56−1.24(5H,m),1.36(9H,s)。
m.p.:147〜150℃。Mass(FAB(+)):m/z 731(M+H)+、753(M+Na)+。
実施例34
下記式の化合物を合成した。
実施例18で得られた化合物40mg(0.052mmol)に4N塩酸−酢酸エチル溶液2mlを加えて、室温にて2時間攪拌した。反応液に無水エーテル20mlを加えると白色沈殿を生じた。これを瀘取し、沈殿物を無水エーテルで洗浄し、標記化合物23mg(収率65%)を白色粉体として得た。以下に物性値を示す。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.12(1H,brs),8.84(1H,d,J=8.6Hz),8.25(1H,t,J=6.0Hz),7.73(3H,m),7.47(1H,d,J=7.6Hz),7.45−7.15(10H,m),5.00(2H,ABq,J=12.5Hz),4.95−4.90(2H,m),4.05(1H,dt,J=7.3,7.6Hz),2.96(2H,dq,J=3.6,13.9Hz),2.92(3H,s),2.81(3H,s),2.65(2H,m),2.27(2H,m),1.91−1.64(2H,m),1.60−1.07(6H,m)。
m.p.:130〜132℃。Mass(FAB(+)):m/z 612(M+H)+。
以下、実施例35〜49について、対応する実施例19〜33で得られた化合物を用いて、実施例34と同様な方法で、各標記化合物を合成した。
実施例35
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.14(1H,brs),8.67(1H,d,J=8.3Hz),8.35(1H,d,J=7.1Hz),7.82(3H,m),7.46(1H,d,J=8.0Hz),7.37−7.30(5H,m),5.10−4.87(3H,m),4.72(1H,dt,J=4.2,10.1Hz),4.06(1H,m),3.02(3H,s),2.83(3H,s),2.80−2.65(2H,m),2.37−2.23(2H,m),2.00−1.13(11H,m),0.89(3H,d,J=6.6Hz),0.87(3H,d,J=6.6Hz)。
Mass(FAB(+)):m/z 578(M+H)+。
性状:泡状物質。
実施例36
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.14(2H,brs),8.65(1H,d,J=8.1Hz),8.37(1H,d,J=6.8Hz),7.82(3H,m),7.45(1H,d,J=7.6Hz),7.42−7.28(5H,m),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.97(1H,m),4.75(1H,m),4.06(1H,m),3.05(3H,s),2.84(3H,s),2.77(2H,m),2.37−2.21(4H,m),1.98−1.34(10H,m)。
Mass(FAB(+)):m/z 594(M+H)+。
性状:泡状物質。
実施例37
1H−NMR(DMSO−d6)δ:8.92 & 8.88(1H,d,J=8.5,7.8Hz),8.36(1H,d,J=7.1Hz),7.91(3H,m),7.49−7.25(7H,m),6.88(1H,brs),5.12−4.90(3H,m),4.15−3.93(2H,m),3.02(3H,s),2.81(3H,s),2.80−2.19(6H,m),2.07−1.16(8H,m)。
Mass(FAB(+)):m/z 579(M+H)+。
性状:泡状物質。
実施例38
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.11(1H,d,J=6.8Hz),8.76(1H,d,J=7.8Hz),7.98(6H,m),7.47−7.28(7H,m),5.05−4.90(3H,m),4.66(1H,m),3.52(3H,s),2.86(3H,s),2.74(4H,m),2.50−2.20(2H,m),2.05−1.20(14H,m)。
Mass(FAB(+)):m/z 593(M+H)+。
性状:泡状物質。
実施例39
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.11(1H,brs),8.73(1H,t,J=6.10Hz),8.34(1H,d,J=6.6Hz),7.74(3H,m),7.45(1H,d,J=7.8Hz),7.39−7.29(5H,m),5.01(2H,ABq,J=12.4Hz),5.00−4.92(1H,m),4.09−4.04(1H,m),3.12−3.03(2H,m),2.83−2.71(2H,m),2.29(2H,t,J=8.0Hz),1.93−1.30(10H,m),0.82(3H,t,J=7.4Hz)。
m.p.:173〜175℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 479(M+H)+。
実施例40
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.13(1H,s),10.62(1H,s),8.49−8.47(1H,m),7.79(2H,d,J=8.4Hz),7.76−7.62(3H,m),7.48(1H,d,J=7.6Hz),7.40−7.28(7H,m),7.14(1H,t,J=7.4Hz),5.09−5.00(1H,m),5.01(2H,Abq,J=12.9Hz),4.13−4.05(1H,m),2.85−2.74(2H,m),2.31(2H,t,J=8.3Hz),1.95−1.29(8H,m)。m.p.:172〜175℃(decomp.)。
実施例41
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.12(1H,brs),9.30(1H,t,J=6.4Hz),8.39(1H,d,J=6.6Hz),7.76(3H,m),7.46(1H,d,J=7.8Hz),7.39−7.22(10H,m),5.01(2H,ABq,J=12.4Hz),4.97−4.95(1H,m),4.32(2H,dq,J=6.6,14.9Hz),4.07(1H,dq,J=5.8,8.5Hz),2.76−2.67(2H,m),2.30(2H,t,J=8.1Hz),1.94−1.22(8H,m)。
m.p.:172〜174℃。Mass(FAB(+)):m/z 527(M+H)+。
実施例42
1H−NMR(DMSO−d6)δ:12.12(1H,brs),8.82(1H,t,J=5.8Hz),8.33(1H,d,J=6.6Hz),7.86−7.69(3H,m),7.45(1H,d,J=8.0Hz),7.41−7.19(10H,m),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.97−4.91(1H,m),4.07(1H,dt,J=8.0,5.6Hz),2.53−2.50(2H,m),2.80−2.76(4H,m),2.29(2H,t,J=7.9Hz),1.94−1.18(8H,m)。
m.p.:148〜151℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 541(M+H)+。
実施例43
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.28(1H,t,J=6.5Hz),8.38(1H,d,J=6.8Hz),7.93−7.74(3H,brs),7.42(1H,d,J=8.0Hz),7.37−7.24(11H,m),6.77(1H,brs),5.01(2H,s),5.03−4.98(1H,m),4.32(2H,dq,J=6.4,14.9Hz),4.13−4.00(1H,m),2.84−2.62(2H,m),2.30−1.19(10H,m)。
m.p.:183〜185℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 526(M+H)+。
実施例44
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.28(1H,t,J=6.4Hz),8.38(1H,d,J=6.8Hz),7.88(3H,brs),7.74(1H,q,J=4.5Hz),7.43(1H,d,J=7.8Hz),7.37−7.22(10H,m),5.04−4.99(1H,m),5.02(2H,s),4.32(2H,dq,J=6.4,15.0Hz),4.04(1H,dt,J=5.1,8.6Hz),2.82−2.72(2H,m),2.55(3H,d,J=4.6Hz),2.25−2.05(2H,m),2.01−1.13(8H,m)。
m.p.:157〜159℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 540(M+H)+。
実施例45
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.28(1H,t,J=6.3Hz),8.43(1H,d,J=6.6Hz),7.87(3H m),7.47(1H,q,J=7.8Hz),7.46−7.22(10H,m),5.04−4.97(1H,m),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.32(2H,dq,J=6.0,14.5Hz),4.10−4.06(1H,m),2.93(3H,s),2.80(3H,s),2.83−2.71(2H,m),2.35(2H,t,J=7.8Hz),1.91−1.24(8H,m)。
m.p.:137〜140℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 554(M+H)+。
実施例46
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.28(1H,t,J=6.2Hz),8.42(1H,d,J=6.6Hz),8.11(1H t,J=5.0Hz),8.00(3H,brs),7.90(3H,brs),7.45(1H,d,J=8.3Hz),7.36−7.24(10H,m),5.02(2H,s),5.10−4.94(1H,m),4.32(2H,dq,J=6.6,15.4Hz),4.11−4.03(1H,m),3.41−3.27(2H,m),2.89−2.79(2H,m),2.79−2.60(2H,m),2.30−2.11(2H,m),1.99−1.84(1H,m),1.84−1.75(1H,m),1.66−1.20(6H,m)。
m.p.:180〜185℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 569(M+H)+。
実施例47
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.39(2H,brs),9.28(1H,t,J=6.5Hz),8.46(1H,d,J=6.8Hz),m),7.91(3H,m),7.46(1H,d,J=8.0Hz),7.36−7.19(10H,m),5.02(2H,s),5.09−4.91(1H,m),4.33(2H,dq,J=6.8,15.4Hz),4.08−4.02(1H,m),3.76−3.55(4H,m),3.17−2.95(4H,m),2.83−2.75(2H,m),2.45−2.31(2H,m),1.94−1.05(8H,m)。
m.p.:168〜171℃(decomp.)。Mass(FAB(+)):m/z 595(M+H)+。
実施例48
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.28(1H,t,J=6.3Hz),8.43(1H,d,J=6.6Hz),7.87(3H brs),7.47(1H,q,J=7.8Hz),7.46−7.22(10H,m),5.04−4.97(1H,m),5.01(2H,ABq,J=12.7Hz),4.32(2H,m),4.10−4.06(1H,m),2.93(3H,s),2.80(3H,s),2.83−2.71(2H,m),2.35(2H,t,J=7.8Hz),1.91−1.24(8H,m)。
m.p.:131〜133℃。Mass(FAB(+)):m/z 569(M+H)+。
実施例49
1H−NMR(DMSO−d6)δ:9.90(1H,s),9.28(1H,t,J=5.6Hz),8.37−8.32(1H,m),7.80−7.62(3H m),7.45(1H,d,J=7.8Hz),7.40−7.10(13H,m),6.73(2H,d,J=7.1Hz),5.03(2H,s),5.03−4.98(1H,m),4.32(2H,dq,J=6.8,15.2Hz),4.13−4.00(1H,m),3.06(3H,s),2.83−2.67(2H,m),2.36−2.17(2H,m),2.03−1.67(3H,m),1.63−1.25(6H,m)。
m.p.:153〜155℃。Mass(FAB(+)):m/z 631(M+H)+。
製剤例1 口腔用軟膏剤
実施例1の本発明化合物1 1.0
白色ワセリン 10
ポリアクリル酸ナトリウム 3.0
流動パラフィン 残 量
全 量 100.0(重量%)
常法により、上記配合割合で口腔用軟膏剤を調製した。
製剤例2 歯磨剤
第2リン酸カルシウム 42
グリセリン 19
カラギーナン 0.9
ラウリル硫酸ナトリウム 1.2
サッカリン 1.0
実施例12の本発明化合物12 1.0
パラオキシ安息香酸ブチル 0.005
香料 1.0
水 残 量
全 量 100.0(重量%)
常法により、上記配合割合で歯磨剤を調製した。
製剤例3 トローチ剤
アラビアゴム 6.0
ブドウ糖 72.0
乳糖 19.0
実施例34の本発明化合物34 1.5
モノフルオロリン酸ナトリウム 0.7
香料 1.0
水 残 量
全 量 100.0(重量%)
常法により、上記配合割合でトローチ剤を調製した。
製剤例4 チューインガム
酢酸ビニル樹脂 20.0
ポリイソブチレン 3.0
炭酸カルシウム 2.0
ソルビトール 55.0
マンニトール 15.0
実施例39の本発明化合物39 4.0
香料 1.0
全 量 100.0(重量%)
常法により、上記配合割合でチューインガムを調製した。
製剤例5 含嗽剤
エタノール 20.0
ポリオキシエチレン(60)硬化ヒマシ油 3.0
ポリエチレングリコール 2.0
グリセリン 10.0
サッカリンナトリウム 0.02
実施例43の本発明化合物43 0.5
香料 0.2
水 残 量
全 量 100.0(重量%)
常法により、上記配合割合で含嗽剤を調製した。
製剤例6 洗口剤
エタノール 30.0
ポリオキシエチレン(20)ソルビタンラウレート 1.0
ポリオキシエチレン(40)硬化ヒマシ油 0.5
水酸化ナトリウム 0.05
サッカリンナトリウム 0.05
実施例46の本発明化合物46 0.5
香料 0.5
水 残 量
全 量 100.0(重量%)
常法により、上記配合割合で洗口剤を調製した。
試験例1 KGPに対する阻害活性の測定
リジル−ジンジパイン(KGP)に対する阻害活性の測定は,Z−His−Glu−Lys−MCAを基質として、Journal Biochemistry,1998年,123巻,305−312記載の方法に従って行った。具体的には、50mMのL−システインを100μl、0.1Mリン酸ナトリウム緩衝液(pH7.5)を200μl、0.05%「Brij35」(商品名、アルドリッチ社製、ポリオキシエチレン(23)ラウリルエーテル)を含む12.3nMのKGP溶液を20μl、蒸留水80μl、及び本発明化合物のジメチルスルホキシド溶液100μlを混合し、37℃で5分間プレインキュベーションした。その後、20μMのZ−His−Glu−Lys−MCAを含む0.1%ジメチルスルホキシド溶液500μlを加え、40℃で10分間インキュベートした。その後、10mMのヨードアセトアミドを含む酢酸緩衝液(pH5.0)を加えて酵素反応を停止させ、380nmで励起される460nmの蛍光強度(F)を測定した。対照として、本発明化合物を含まないジメチルスルホキシド溶液100μlを化合物溶液の代わりに加え、同様に蛍光強度(F0)を測定した。酵素阻害活性(%)は、下記式によって算出した。
酵素阻害活性(%)=[1−(F/F0)]×100
また、比較酵素として、アルグ−ジンジパイン(Arg−gingipain,以下「RGP」と略す。)を用い、これに対する阻害活性の測定を、Z−Phe−Arg−MCAを基質として、Journal Biological Chemistry,1994年,269巻,21371−21378記載の方法に従って、上記と同様に行った。
本願化合物のKGP及びRGPに対する酵素阻害活性を、表1に示す。
表1より、本発明化合物は、特異的に且つ高活性でKGPの酵素活性を阻害することが判る。
本発明化合物は、グラム陰性嫌気性桿菌のポルフィロモナス・ジンジバリス(Porphyromonas gingibvalis)が産生するリジン−ジンジパイン(KGP)の活性を特異的かつ高活性に阻害することにより、例えば、歯周病の予防薬又は治療薬として有用である。
Claims (4)
- 一般式(I)
- 請求項1に記載の一般式(I)のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を有効成分とするリジル−ジンジパインの阻害剤。
- 請求項1に記載の一般式(I)のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩を有効成分とする歯周病用薬剤。
- 請求項1に記載の一般式(I)のペプチド誘導体及びその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される担体を含有する口腔用組成物。
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