JP3962729B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
ところで、近年、SOI(Silicon On Insulator)にMOSトランジスタやメモリ素子を形成する技術が開発されている。SOI基板の埋め込み酸化膜(BOX(Buried Oxide)層ともいう)は、非常に薄く(例えば、10nm〜300nm)なってきているので、ゲート酸化膜の保護だけでなく、BOX層もプラズマダメージや静電ダメージによってブレークダウンするおそれがある。
本発明に係る他の実施形態に従った半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられた埋込み絶縁層と、前記埋込み絶縁層上に設けられた半導体層と、前記半導体層内に形成された第1導電型のソース層、前記半導体層に形成された第1導電型のドレイン層、および、前記ソース層と前記ドレイン層との間のチャネル形成領域を含むトランジスタであって、前記チャネル領域上に設けられたゲート絶縁膜、および、前記ゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極を備えたトランジスタと、前記チャネル形成領域の下の前記半導体基板の表面領域に形成された第1導電型のウェルと、前記ウェルと同電位であり、かつ前記ウェルと分離された第2導電型の第1の拡散層、並びに、前記第1の拡散層に隣接して設けられ、前記トランジスタのゲートに電気的に接続された第1導電型の第2の拡散層からなるゲート絶縁膜保護ダイオードとを備えている。
図1は、本発明に係る第1の実施形態に従った半導体装置100の断面図である。半導体装置100は、シリコンからなるP−型の半導体基板10と、半導体基板10の上に設けられた埋込み絶縁層(以下、BOX層という)20と、BOX層20上に設けられた半導体層(以下、SOI層という)30とを有するSOI基板上に形成されている。
図2は、本発明に係る第2の実施形態に従った半導体装置200の断面図である。第2の実施形態は、ゲート絶縁膜保護ダイオード61がSOI層30に形成されている点で第1の実施形態と異なる。
図3は、本発明に係る第3の実施形態に従った半導体装置300の断面図である。第3の実施形態は、埋め込み絶縁層保護ダイオード71がSOI層30に形成されている点で第1の実施形態と異なる。
図4は、本発明に係る第4の実施形態に従った半導体装置400の断面図である。第4の実施形態は、ゲート絶縁膜保護ダイオードとして保護ダイオード61を採用し、埋め込み絶縁層保護ダイオードとして保護ダイオード71を採用した実施形態である。
図5は、本発明に係る第5の実施形態に従った半導体装置500の断面図である。第5の実施形態は、チャネル形成領域35の直下の半導体基板10の領域にN型ウェルが形成されている点で第1から第4の実施形態と異なる。例えば、FBC(Floating Body Cell)等のメモリ素子では、データ保持能力を向上させるために、P型チャネル形成領域35の直下の半導体基板領域には、N型ウェル160が形成される。
図6は、本発明に係る第6の実施形態に従った半導体装置600の断面図である。第6の実施形態は、ゲート絶縁膜保護ダイオードとして、SOI層30に形成された保護ダイオード61を採用している点で第5の実施形態と異なる。
図7は、本発明に係る第7の実施形態に従った半導体装置700の断面図である。第7の実施形態は、埋込み絶縁層保護ダイオードとして、SOI層30に形成された保護ダイオード71を採用している点で第5の実施形態と異なる。
図8は、本発明に係る第8の実施形態に従った半導体装置800の断面図である。第8の実施形態は、ゲート絶縁膜保護ダイオードとして保護ダイオード61を採用し、埋め込み絶縁層保護ダイオードとして保護ダイオード71を採用した点で第5の実施形態と異なる。
第6から第8の実施形態は、図13または図14に示す保護ダイオード形成領域R2を図11または図12にと同様に設ければよい。
10 半導体基板
15 MOSトランジスタ
20 BOX層
30 SOI層
31 ソース層
33 ドレイン層
35 チャネル形成領域
60 ゲート絶縁膜保護ダイオード
70 埋込み絶縁層保護ダイオード
110 第1の拡散層
120 第2の拡散層
80 第3の拡散層
90 第4の拡散層
Claims (5)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられた埋込み絶縁層と、
前記埋込み絶縁層上に設けられた半導体層と、
前記半導体層内に形成された第1導電型のソース層、前記半導体層に形成された第1導電型のドレイン層、および、前記ソース層と前記ドレイン層との間のチャネル形成領域を含むトランジスタと、
前記チャネル形成領域の下の前記半導体基板の表面領域に形成された第1導電型のウェルと、
前記ウェルと同電位であり、かつ前記ウェルと分離された第2導電型の第1の拡散層、並びに、前記第1の拡散層に隣接して設けられ、前記ソース層、前記ドレイン層および前記チャネル形成領域のうち少なくとも1つに電気的に接続された第1導電型の第2の拡散層からなる埋込み絶縁層保護ダイオードとを備えた半導体装置。 - 半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられた埋込み絶縁層と、
前記埋込み絶縁層上に設けられた半導体層と、
前記半導体層内に形成された第1導電型のソース層、前記半導体層に形成された第1導電型のドレイン層、および、前記ソース層と前記ドレイン層との間のチャネル形成領域を含むトランジスタであって、前記チャネル領域上に設けられたゲート絶縁膜、および、前記ゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極を備えたトランジスタと、
前記チャネル形成領域の下の前記半導体基板の表面領域に形成された第1導電型のウェルと、
前記ウェルと同電位であり、かつ前記ウェルと分離された第2導電型の第1の拡散層、並びに、前記第1の拡散層に隣接して設けられ、前記トランジスタのゲートに電気的に接続された第1導電型の第2の拡散層からなるゲート絶縁膜保護ダイオードとを備えた半導体装置。 - 前記第1の拡散層は前記半導体基板に設けられ、
前記第2の拡散層は第1の拡散層内に設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置。 - 前記第1の拡散層は前記半導体層内に設けられ、
前記第2の拡散層は前記半導体層内に前記第1の拡散層に隣接して設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記トランジスタは、前記チャネル領域上に設けられたゲート絶縁膜、および、前記ゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極をさらに含み、
前記ウェルと同電位であり、かつ前記ウェルと分離された第2導電型の第3の拡散層、並びに、前記第3の拡散層に隣接して設けられ、前記トランジスタのゲートに電気的に接続された第1導電型の第4の拡散層からなるゲート絶縁膜保護ダイオードをさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
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