JP2007103809A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置10は、支持基板であるシリコン基板101aと、シリコン基板101a上の酸化膜101bと、酸化膜101b上のシリコン薄膜101cとを有するSOI基板101を用い、これのシリコン薄膜101c上に形成された入力端子IN(第2上層配線134)と、シリコン薄膜101c上に形成されたVss端子Tvss(第1上層配線139)と、シリコン薄膜101cに形成され、入力端子INとVss端子Tvssとに接続された半導体素子(例えばインバータ11)と、シリコン薄膜101cに形成され、Vss端子Tvssから入力端子INへ順方向に接続された保護ダイオード12とを有する。
【選択図】図2
Description
図2は、本実施例による半導体装置10の構成を示す回路図である。図2に示すように、半導体装置10は、電源線Vddと電源線Vssとの間に直列に接続されたPMOSトランジスタP11及びNMOSトランジスタN11を有する。PMOSトランジスタP11とNMOSトランジスタN11とのドレインは、共通結線され、出力端子OUTに接続される。PMOSトランジスタP11のソースは電源線Vddに接続される。NMOSトランジスタN11のソースは電源線Vssに接続されると共に、Vss端子Tvss(第2端子)に接続される。PMOSトランジスタP11とNMOSトランジスタN11とのゲートは共通結線され、入力端子IN(第1端子)に接続される。
次に、本実施例による半導体装置10の層構造を図面と共に詳細に説明する。図3は、半導体装置10の層構造を示す断面図である。なお、図3では、SOI基板101上面に対して垂直な面で保護ダイオード12を切断した際の断面図を示す。また、図3では、説明の簡略化のため、PMOSトランジスタP11の構成を省略する。
保護ダイオード12は、p型の導電性を持つ拡散領域(以下、P拡散領域という)111pと、P拡散領域111p(第1拡散領域又は第1領域)上部に形成されたシリサイド膜111aと、n型の導電性を持つ拡散領域(以下、N拡散領域という)112nと、N拡散領域112n(第2拡散領域又は第2領域)上部に形成されたシリサイド膜112aと、p型又はn型の導電性を持つ低拡散領域113(第3拡散領域)とを有する。このように、本実施例による保護ダイオード12は、SOI基板101に対してラテラルな構造を持つ。すなわち、本実施例では、保護ダイオード12にラテラル型のダイオードが適用される。
NMOSトランジスタN11は、シリコン薄膜101c上に形成されたゲート絶縁膜121と、ゲート絶縁膜121上に形成されたゲート電極122と、ゲート電極122上部に形成されたシリサイド膜122aと、n型の導電性を持つ一対のソース123s及びドレイン124d(一対の拡散領域)と、ソース123s上部及びドレイン124d上部にそれぞれ形成されたシリサイド膜123a及び124aと、p型の導電性を持つウェル領域125とを有する。
次に、本実施例による半導体装置10の製造方法を図面と共に詳細に説明する。なお、以下では、図3と同様に、SOI基板101に対して垂直な面で保護ダイオード12を切断した際の断面図を示す。また、以下では、保護ダイオード12とNMOSトランジスタN11とに着目して、その製造方法を説明する。
以上のように、本実施例による半導体装置10は、支持基板であるシリコン基板101aと、シリコン基板101a上の酸化膜101bと、酸化膜101b上のシリコン薄膜101cとを有するSOI基板101を用い、これのシリコン薄膜101c上に形成された入力端子IN(第2上層配線134)と、シリコン薄膜101c上に形成されたVss端子Tvss(第1上層配線139)と、シリコン薄膜101cに形成され、入力端子INとVss端子Tvssとに接続された半導体素子(例えばインバータ11)と、シリコン薄膜101cに形成され、Vss端子Tvssから入力端子INへ順方向に接続された保護ダイオード12とを有して構成される。
図10は、本実施例による半導体装置20の構成を示す回路図である。図10に示すように、半導体装置20は、実施例1による半導体装置10(図2参照)と同様の構成において、保護ダイオード12のアノードとVss端子Tvssとを結ぶ配線が基板に接続された構成を有する。なお、その他の構成は、半導体装置10と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
次に、本実施例による半導体装置20の層構造を図面と共に詳細に説明する。図11は、半導体装置20の層構造を示す断面図である。なお、図11では、SOI基板101上面に対して垂直な面で保護ダイオード12を切断した際の断面図を示す。また、図11では、説明の簡略化のため、PMOSトランジスタP11の構成を省略する。
次に、本実施例による半導体装置20の製造方法を図面と共に詳細に説明する。なお、以下では、図11と同様に、SOI基板101に対して垂直な面で保護ダイオード12を切断した際の断面図を示す。また、以下では、保護ダイオード12とNMOSトランジスタN11とに着目して、その製造方法を説明する。
次に、レジストパターンR12を除去した後、露出されたSOI基板101上面を、再度、熱酸化することで、図13(b)に示すように、例えば膜厚40Å程度のシリコン酸化膜121Aを形成する。膜厚40Å程度のシリコン酸化膜121Aは、例えば加熱温度を500℃程度とし、加熱時間を4時間程度とすることで形成することができる。
以上のように、本実施例による半導体装置10は、支持基板であるシリコン基板101aと、シリコン基板101a上の酸化膜101bと、酸化膜101b上のシリコン薄膜101cとを有するSOI基板101を用い、これのシリコン薄膜101c上に形成された入力端子IN(第2上層配線134)と、シリコン薄膜101c上に形成されたVss端子Tvss(第1上層配線139)と、シリコン薄膜101cに形成され、入力端子INとVss端子Tvssとに接続された半導体素子(例えばインバータ11)と、シリコン薄膜101cに形成され、Vss端子Tvssから入力端子INへ順方向に接続された保護ダイオード12とを有し、第2端子がシリコン基板101aに接続された構成を有する。
11 インバータ
12 保護ダイオード
13 メタル配線
101 SOI基板
101a シリコン基板
101b 酸化膜
101c シリコン薄膜
102 素子分離絶縁膜
103 第1パッシベーション
104 第2パッシベーション
105 第1層間絶縁膜
106 第2層間絶縁膜
111a、112a、122a、123a、124a、201 シリサイド膜
111p、111p’ P拡散領域
112n、112n’ N拡散領域
113 低拡散領域
113A、125、125A ウェル領域
114 保護膜
114A シリコン酸化膜
121 ゲート絶縁膜
122 ゲート電極
122A ポリシリコン膜
123s、123s’ ソース
124d、124d’ ドレイン
131、133、135、137、138、140、141、202 コンタクト内配線
132、136、139、142 第1上層配線
132a、132c、134a、134c 窒化チタン膜
132b、134b チタン膜
134 第2上層配線
201 基板コンタクト
IN 入力端子
N11 NMOSトランジスタ
OUT 出力端子
P11 PMOSトランジスタ
R1、R2、R3、R4、R11、R12、R13、R14、R15 レジストパターン
Tvss Vss端子
Vdd、Vss 電源線
Claims (12)
- 支持基板と、
前記支持基板上の酸化膜と、
前記酸化膜上の半導体薄膜と、
前記半導体薄膜上に形成された第1端子と、
前記半導体薄膜上に形成された第2端子と、
前記半導体薄膜に形成され、前記第1端子と前記第2端子とに接続された半導体素子と、
前記半導体薄膜に形成され、前記第2端子から前記第1端子へ順方向に接続された保護ダイオードと
を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記保護ダイオードはラテラル型のダイオードであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記半導体素子はトランジスタを含み、
前記第1端子は前記トランジスタのゲートに接続され、
前記第2端子は前記トランジスタのソースに接続されることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。 - 前記半導体薄膜上に形成された信号線と、
前記半導体薄膜上に形成された電源線とをさらに有し、
前記第1端子は前記信号線に接続され、
前記第2端子は前記電源線に接続されることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の半導体装置。 - 前記保護ダイオードは、前記半導体薄膜に形成されたp型の導電性を有する第1拡散領域と、前記半導体薄膜に形成されたn型の導電性を有する第2拡散領域と、前記第1拡散領域と前記第2拡散領域との間に形成された第3拡散領域とを含み、
前記第3拡散領域は、p型またはn型の不純物が前記第1及び第2拡散領域の不純物濃度よりも低い濃度で拡散された領域であることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の半導体装置。 - 前記第1拡散領域上部に形成された第1シリサイド膜と、
前記第2拡散領域上部に形成された第2シリサイド膜と、
少なくとも前記第3拡散領域上に形成された酸化膜と
をさらに有することを特徴とする請求項5記載の半導体装置。 - 前記第2端子は前記支持基板に接続されていることを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の半導体装置。
- 前記支持基板はp型またはn型の不純物が拡散された第4拡散領域を有し、
前記第2端子は、前記第4拡散領域に電気的に接続されていることを特徴とする請求項7記載の半導体装置。 - 前記半導体素子が形成された層よりも上層に形成されたメタル層をさらに有し、
前記第3拡散領域は、前記メタル層の層構造に応じて前記不純物の濃度が設定された領域であることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。 - 支持基板と、前記支持基板上の酸化膜と、前記酸化膜上の半導体薄膜とを含むSOI基板を準備する工程と、
前記SOI基板における前記半導体薄膜を第1素子形成領域と第2素子形成領域とを区画する工程と、
前記第1素子形成領域に、p型の導電性を有する第1領域と、n型の導電性を有する第2領域とを有する保護ダイオードを形成する工程と、
前記第2素子形成領域に、ゲート絶縁膜とゲート電極と一対の拡散領域とを有するトランジスタを形成する工程と、
前記保護ダイオードの前記第1領域と、前記トランジスタの前記拡散領域とを電気的に接続する第1配線を形成する工程と、
前記保護ダイオードの前記第2領域と、前記トランジスタの前記ゲートとを電気的に接続する第2配線を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第1素子形成領域全体に所定の不純物を拡散する工程をさらに有し、
前記第1領域と前記第2領域とは離間されていることを特徴とする請求項10記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1領域を前記支持基板に電気的に接続する工程をさらに有することを特徴とする請求項10または11記載の半導体装置の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010041042A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-02-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5226260B2 (ja) * | 2007-08-23 | 2013-07-03 | セイコーインスツル株式会社 | 半導体装置 |
CN101557103B (zh) * | 2008-04-11 | 2011-09-14 | 上海韦尔半导体股份有限公司 | 瞬态电压抑制器二极管及其制造方法 |
US8048753B2 (en) * | 2009-06-12 | 2011-11-01 | Globalfoundries Inc. | Charging protection device |
JP6018376B2 (ja) | 2011-12-05 | 2016-11-02 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置およびカメラ |
FR2985372A1 (fr) * | 2012-01-04 | 2013-07-05 | St Microelectronics Sa | Circuit electronique incluant un transistor mos et des agencements pour resister aux decharges electrostatiques |
TWI649808B (zh) | 2014-12-16 | 2019-02-01 | 聯華電子股份有限公司 | 半導體元件及其製作方法 |
US9734271B2 (en) * | 2015-12-10 | 2017-08-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Method of determining galvanic corrosion and interconnect structure in a semiconductor device for prevention of galvanic corrosion |
JP7180842B2 (ja) * | 2018-07-18 | 2022-11-30 | 株式会社東海理化電機製作所 | 半導体装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08125030A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-17 | Nippondenso Co Ltd | 入力保護回路を有する半導体装置およびその製造方法 |
JPH1174530A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP2002100739A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-04-05 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2002118267A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2003133559A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-09 | Kawasaki Microelectronics Kk | 半導体装置およびそのレイアウト方法 |
JP2005142363A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0837284A (ja) * | 1994-07-21 | 1996-02-06 | Nippondenso Co Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPH09115999A (ja) * | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Denso Corp | 半導体集積回路装置 |
US6590800B2 (en) * | 2001-06-15 | 2003-07-08 | Augustine Wei-Chun Chang | Schottky diode static random access memory (DSRAM) device, a method for making same, and CFET based DTL |
MXPA04004099A (es) * | 2001-10-31 | 2004-07-23 | Ibm | Dispositivo semiconductor y metodo de fabricacion del mismo. |
JP3962729B2 (ja) * | 2004-06-03 | 2007-08-22 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US7224205B2 (en) * | 2004-07-07 | 2007-05-29 | Semi Solutions, Llc | Apparatus and method for improving drive-strength and leakage of deep submicron MOS transistors |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08125030A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-17 | Nippondenso Co Ltd | 入力保護回路を有する半導体装置およびその製造方法 |
JPH1174530A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP2002100739A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-04-05 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2002118267A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
JP2003133559A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-09 | Kawasaki Microelectronics Kk | 半導体装置およびそのレイアウト方法 |
JP2005142363A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010041042A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-02-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
US8860081B2 (en) | 2008-07-10 | 2014-10-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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