JP3819186B2 - スタンダードセル、半導体集積回路およびそのレイアウト方法 - Google Patents
スタンダードセル、半導体集積回路およびそのレイアウト方法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スタンダードセル方式で用いられるセル、このスタンダードセルを組み合わせて実現される半導体集積回路、およびこの半導体集積回路の設計方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路が大規模になるにつれて、人手によってすべてを設計することが困難となり、そのためコンピュータによる自動設計であるセミカスタム設計手法が一般的に利用されるようになってきている。このセミカスタム設計手法とは、標準の基本回路(論理セル)をあらかじめ複数準備し、これらの論理セルをコンピュータにより自動設計して希望の回路を開発する手法であり、その代表例としてゲートアレイ方式やスタンダードセル方式がある。
【0003】
スタンダードセル方式では、基本回路を組み合わせて作った少し複雑な論理回路を最適設計して、コンピュータのデータベースにスタンダードセルとしてあらかじめ登録しておく。そして、LSIを設計する場合、データベースに登録された各種のセルを組み合わせて希望の回路を実現する。各セルは高さが一定であり、必要なセルが複数の列状に配置される。スタンダードセルが登録されるデータベースはセルライブラリー(Cell Library)と呼ばれ、このライブラリーに登録されているセルの種類が豊富なほど、無駄の少ないLSIチップを設計できる。
【0004】
近年、スタンダードセルに高機能のマクロセル(ブロック)の混在を可能としたセルベースASICがセミカスタム設計手法の主流となって来ている。特に、3層以上の金属配線による、セル領域(トランジスタ領域)と配線チャネル領域が混在したスタンダードセルを用いたセルベースASICが開発され、その高集積性に期待が寄せられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
半導体集積回路の集積密度が増大するにつれ、ますますセルサイズの縮小化が要求されて来ている。一般に、各セルのトランジスタサイズを小さくすればセルサイズの縮小化が可能である。しかしながら、一律にトランジスタサイズを小さくすれば、セルの駆動能力が低下してしまう。スタンダードセル方式では、各セルが複数の列状に配置されており、隣接するセル間で共有可能な回路構成がある場合がある。したがって、その回路構成を1つにまとめれば、セル列が縮小され、見かけのセルサイズの縮小が図られる。従来より良く用いられる方法として、基板(ウェル構造である場合にはそのウェル)に電位を与えるサブストレート・コンタクト領域を上下で隣接するセルの中央に配置し、そのサブストレート・コンタクト領域をそのセル間で共有する方法がある。しかし、この方法では、上下方向にセル列を縮小できても、左右方向については縮小することができない。したがって、左右方向についてもセル列を縮小し、セルサイズを実効的に縮小できる方法の実現が望まれている。
【0006】
本発明は、このような課題を解決し、上下方向および左右方向について実効セルサイズの縮小化を図り、半導体集積化回路の集積密度を向上できるスタンダードセルを提供することを目的とする。
【0007】
本発明の他の目的は、上記のスタンダードセルを組み合わせて実現される高集積化可能な半導体集積回路を提供することにある。
【0008】
本発明のさらに他の目的は、上記のスタンダードセルを組み合わせて実現される高集積化可能な半導体集積回路のレイアウト方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の特徴は、半導体基板上に形成される複数のMOSトランジスタを含み、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域を定義される複数のスタンダードセルを、それぞれの矩形の上下左右に隣接して配置し半導体集積回路を構成するスタンダードセル方式設計用のスタンダードセルであって、該スタンダードセルは、電源に接続され、前記矩形の左辺又は右辺の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、前記一辺を前記第1のスタンダードセルとの共通辺として、前記第1のスタンダードセルに隣接して配置可能で、前記セル領域を超えた第1ソース領域を配置可能な第1空き領域、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第1空き領域と並んで配置された前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域を有する第2のスタンダードセルであることである。
【0010】
本発明の特徴によれば、隣接するセル間でソース領域(ソース拡散層およびその上部のコンタクト)を共有させることによってセル列を上下方向および左右方向に縮小することができる。また、共有されるソース領域が無い場合であっても、一方のソース領域をセル間に跨って配置することでセル列を縮小することができる。このセル列の縮小によって、セルの実効サイズは縮小され、チップ面積の縮小化、集積密度の向上が図られる。
【0011】
本発明の特徴において、半導体基板またはウェルに電位を供給するコンタクト領域(サブストレート・コンタクト領域)をセル境界線を超えて形成されるソース領域と重なるように配置することで、セル列をより一層縮小することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。まず最初に、スタンダードセルについて説明し、次に、本発明に係る半導体集積回路のレイアウト装置および方法について説明する。
【0013】
(第1の参考例)
図1は、本発明の第1の実施の形態を説明するための図であり、図1(a)は、第1の参考例に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図、図1(b)は、その比較例である従来技術に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図、図1(c)は、第1の参考例に係るインバータを構成するスタンダードセルの平面図、図1(d)は、その比較例である従来技術に係るインバータを構成するスタンダードセルの平面図を示す。簡単化のため、ここではソース・ドレイン拡散層、ポリシリコン(ポリSi)、コンタクトおよびセル境界線(セル枠)のみが示されており、金属配線層は省略されている。図示はしないが、従来技術と同様、基板またはウェルに電位を与えるサブストレート・コンタクト領域が上下で隣接するセル間で共有される。また、各セル同士はセル境界線が接するように上下左右に隣接して配置され、上下方向および左右方向にセル列を形成する。
【0014】
図1(a)に示すように、第1の参考例に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルでは、複数のp型MOSトランジスタとn型MOSトランジスタを構成するためのソース・ドレイン拡散層10a,10b,10c、12a,12b,12cと、ポリシリコン14,16と、コンタクト18a,18b,18c,18d,18eと、セル境界線20とから構成されている。このセルは2個のp型MOSトランジスタ1aおよび2aと、2個のn型MOSトランジスタ3aおよび4aとから成り、p型MOSトランジスタ1aはゲートとなるポリシリコン14と、ソース領域となるp型拡散層10aと、p型MOSトランジスタ2aと共有されるドレイン領域となるp型拡散層10bとを有している。同様に、p型MOSトランジスタ2aはゲートとなるポリシリコン16と、ソース領域となるp型拡散層10cと、p型MOSトランジスタ1aと共有されるドレイン領域となるp型拡散層10bとを有している。p型MOSトランジスタ1aおよび2aのソース拡散層10aおよび10cにはコンタクト18aおよび18cを介して電源電圧(VDD)が供給される。p型MOSトランジスタ1aおよび2aは並列接続されている。
【0015】
一方、n型MOSトランジスタ3aはゲートとなるポリシリコン14と、ソース領域となるn型拡散層12aと、ドレイン領域となるn型拡散層12bとを有している。同様に、n型MOSトランジスタ4aはゲートとなるポリシリコン16と、ソース領域となるn型拡散層12bと、ドレイン領域となるn型拡散層12cとを有している。n型拡散層12bは、n型MOSトランジスタ3aのドレイン領域とn型MOSトランジスタ4aのソース領域の両方を兼ねている。n型MOSトランジスタ3aのn型拡散層12aにはコンタクト18dを介して接地電圧(VSS)が供給される。n型MOSトランジスタ3aおよび4aは直列接続されている。
【0016】
そして、p型MOSトランジスタ1aおよび2aの共有ドレイン拡散層10bの上部に設けられたコンタクト18bおよびn型MOSトランジスタ4aのドレイン拡散層12cの上部に設けられたコンタクト18eを介して、p型拡散層10bとn型拡散層12cが金属配線層(図示しない)で接続される。
【0017】
第1の参考例に係るインバータを構成するスタンダードセルでは、図1(c)に示すように、p型MOSトランジスタとn型MOSトランジスタを構成するためのソース・ドレイン拡散層22a,22b、24a,24bと、ポリシリコン26と、コンタクト28a,28b,28c,28dと、セル境界線30とから構成されている。このセルは1個のp型MOSトランジスタ5aと、1個のn型MOSトランジスタ6aとから成り、p型MOSトランジスタ5aはゲートとなるポリシリコン26と、ソース領域となるp型拡散層22aと、ドレイン領域となるp型拡散層22bとを有している。p型MOSトランジスタ5aの拡散層22aにはコンタクト28aを介して電源電圧(VDD)が供給される。一方、n型MOSトランジスタ6aはゲートとなるポリシリコン26と、ソース領域となるn型拡散層24aと、ドレイン領域となるn型拡散層24bとを有している。n型MOSトランジスタ6aのn型拡散層24aにはコンタクト28cを介して接地電圧(VSS)が供給される。そして、p型MOSトランジスタ5aのドレイン拡散層22bの上部に設けられたコンタクト28bおよびn型MOSトランジスタ6aのドレイン拡散層24bの上部に設けられたコンタクト28dを介して、2つのドレイン拡散層22bおよび24bは金属配線層(図示しない)で接続される。
【0018】
図1(a)および図1(b)から明らかなように、図1(a)のNANDセルでは、ソース拡散層10a,10c,12aおよびその上部のコンタクト18a,18c,18dの一部がセル境界線20を超えて配置されている点が、図1(b)に示す従来の構成とは異なっている。また、そこには、このNANDセルには隣接する別のセルのソース拡散層32およびその上部のコンタクト36の一部を配置可能なスペースが設けられていても良い。同様に、図1(c)のインバータセルでは、ソース拡散層22a,24aおよびその上部のコンタクト28a,28cの一部がセル境界線30を超えて配置されている点、および隣接する別のセルのソース拡散層38,42およびその上部のコンタクト36,44の一部を配置可能なスペースが設けられている点が異なっている。図1(a)および図1(c)に示す構成により、見かけのセルサイズを左右方向に縮小することが可能となる。
【0019】
すなわち、図1に示した第1の参考例に係るスタンダードセルにおいては、隣接するセル間で共有可能なソース領域(ソース拡散層10a,10c,12a,22a,24aおよびそのコンタクト18a,18c、18d,28a,28c)の一部をあらかじめセル境界線20,30からはみ出した形状となるように構成されている。また、隣接する別のセルからはみ出したソース領域(ソース拡散層32,38,42およびそのコンタクト36,40,44)の一部を配置可能なスペースが設けられている。そして、参考例の図2に示すように、図1(a)のNANDセルと図1(b)のインバータセルを隣接して配置した場合、図1(a)のソース拡散層10cおよびその上部のコンタクト18cと、図1(b)のソース拡散層22aおよびその上部のコンタクト28aは1つにまとめられ、これらのセル間で共有される。また、図1(b)のはみ出した拡散層24aおよびコンタクト28cの一部は図1(a)の拡散層32およびコンタクト36として(a)のスペースに配置される。つまり、第1の参考例では、隣接するセル間でソース拡散層およびその上部のコンタクトを共有させることによってセル列を左右方向に縮小する。また、共有しない場合であっても、ソース拡散層およびそのコンタクトを隣接するセル間に跨って配置することでセル列を左右方向に縮小する。したがって、図2から明らかなように、従来技術に係る図1(c)および図1(d)に示したNANDセルおよびインバータセルを隣接して配置した場合の図2(c)および図2(d)に比べて、第1の参考例に係る図1(a)および図1(c)に示したNANDセルおよびインバータセルを隣接して配置した場合の方が大幅に左右方向のセル列を縮小することができる。それにより、実効的なセルサイズを左右方向に縮小し、チップ面積の縮小化、集積密度の向上を図ることができる。
【0020】
第1の参考例において、EDA(Electoronic Design Automation)に次のような機能を付加すれば、上記のようなスペースを不要することができる。すなわち、各セルにソース拡散層およびそのコンタクトがセル境界線をはみ出すか否かの情報を持たせ、そのセルと隣接する別のセル間でソースを共有しない場合に、そのセル間にスペースを設けるように配置する機能をEDAに付加すれば良い。ただし、計算機の負荷が大きくなるので、設計工期の短縮の点からは、一律にすべてのセルに上記のスペースを設けた方が好ましい。
【0021】
(第1の実施の形態)
次に、本発明の第1の実施の形態について説明する。本発明の第1の実施の形態は、図1および図2に示した第1の参考例としてのスタンダードセルにおいて、(1)セル境界線を超えて配置されるソース拡散層およびその上部のコンタクト、(2)隣接するセルのソース拡散層およびそのコンタクトの一部を配置するスペース、を所定の基準に従って配置しておくことにより、左右方向についての実効的なセルサイズをより一層縮小するものである。すなわち、前述した図1(a)に示すスタンダードセルでは、ドレイン拡散層12cおよびそのコンタクト18eと、隣接する別のセルのソース拡散層32およびそのコンタクト36を配置するスペースと、が左右方向に並んで配置されているため、セルサイズが左右方向に大きくなってしまう。このことは、図1(c)に示すスタンダードセルについても同様である。
【0022】
このため、本発明の第1の実施の形態では、セル境界線内の、ドレイン拡散層およびそのコンタクトと、ソース拡散層およびそのコンタクトと、を上下方向にずらして配置する。すなわち、ドレイン拡散層およびそのコンタクトと隣接するセルのソース拡散層およびそのコンタクトを配置するスペースとを上下方向にずらして配置する。それにより、セル境界線近傍にドレイン拡散層およびそのコンタクトを配置し、左右方向の実効セルサイズをより一層縮小する。
【0023】
図3は、本発明の第1の実施の形態を説明するための図であり、図3(a)は、この実施の形態に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図、図3(b)は、第1の実施の形態に係るインバータを構成するスタンダードセルの平面図、図3(c)は、図3(a)のセルと図3(b)のセルを隣接させた場合を示す平面図である。簡単化のため、ここではソース・ドレイン拡散層、ポリシリコン(ポリSi)、コンタクトおよびセル境界線(セル枠)のみが示されており、金属配線層は省略されている。図示はしないが、従来技術と同様、サブストレート・コンタクト領域が上下で隣接するセル間で共有されている。また、各セル同士はセル境界線が接するように上下左右に隣接して配置され、上下方向および左右方向にセル列を形成する。
【0024】
図3(a)に示すように、この実施の形態に係るNANDセルは、ソース拡散層46a,46c,48aおよびその上部のコンタクト54a,54c,54dの一部がセル境界線56を超えて配置されている。そして、ソース拡散層46a,46c,48aおよびその上部のコンタクト54a,54c,54dがセルの上部また下部に配置され、ドレイン拡散層48cおよびその上部のコンタクト54eがセルの中央部に配置されている。そして、p型MOSトランジスタ1bおよび2bの共有ドレイン拡散層の上部に設けられたコンタクト54bおよびn型MOSトランジスタ4bのドレイン拡散層54eの上部に設けられたコンタクト54eを介して、p型拡散層(共有ドレイン拡散層)とn型拡散層48cが金属配線層(図示しない)で接続される。さらに、上記のソースおよびドレインの配置によって、隣接するセルのソース拡散層68およびその上部のコンタクト70を配置可能なスペースがドレイン拡散層48cおよびそのコンタクト54eとは上下にずれて設けられている。同様に、図3(b)のインバータセルでは、ソース拡散層58a,60aおよびその上部のコンタクト64a,64cの一部がセル境界線66を超えて配置されている。そして、ソース拡散層58a,60aおよびその上部のコンタクト64a,64cがセルの上部また下部に配置され、ドレイン拡散層58b,60bおよびその上部のコンタクト64b,64dがセルの中央部に配置されている。さらに、上記のソースおよびドレインの配置によって、隣接するセルのソース拡散層72,76およびその上部のコンタクト74,78を配置可能なスペースがドレイン拡散層58b,60bおよびその上部のコンタクト64b,64dとは上下にずれて設けられている。
【0025】
図3(c)に示すように、図3(a)のNANDセルと図3(b)のインバータセルを隣接して配置した場合、図3(a)のソース拡散層46cおよびその上部のコンタクト54cと、図3(b)のソース拡散層58aおよびその上部のコンタクト64aは1つにまとめられ、これらのセル間で共有される。そして、セル間で共有されるソース拡散層46c(58a)およびその上部のコンタクト54c(64a)の形状は少なくとも凹形状を含むものとなる。また、図3(b)のはみ出した拡散層60aおよびコンタクト64cの一部は図3(a)の拡散層68およびコンタクト70として図3(a)のスペースに配置される。
【0026】
本発明の第1の実施の形態によれば、隣接するセルのソース拡散層およびそのコンタクトの一部を配置可能なスペースとドレイン拡散層およびそのコンタクトを上下にずらして設けたので、左右方向にセル列がより縮小され、セルの実効サイズをより一層小さくすることができる。それにより、チップ面積の縮小化、集積密度の向上を図ることができる。
【0027】
(第2の参考例)
次に、本発明の第2の参考例について説明する。上記においては、基板またはウェルに電位を供給するサブストレート・コンタクト領域が上下で隣接するセル間で共有されている場合について述べたが、第2の参考例では、サブストレート・コンタクト領域を左右で隣接するセル間で共有させることにより、別途サブストレート・コンタクト領域ストレートを設けなくて済み、全体的に見れば上下方向および左右方向の両方についてセル列の縮小化を図るものである。それにより、実効的なセルサイズを上下方向および左右方向に縮小し、チップ面積の縮小化、集積密度の向上を図るものである。
【0028】
図4は、第2の参考例に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図である。簡単化のため、ここではソース・ドレイン拡散層、ポリシリコン(ポリSi)、コンタクト、セル境界線(セル枠)およびサブストレート・コンタクト領域のみが示されており、金属配線層は省略されている。また、各セル同士はセル境界線が接するように上下左右に隣接して配置され、上下方向および左右方向にセル列を形成する。
【0029】
図4に示すように、この実施の形態に係るNANDセルは、ソース拡散層80a,80c,82aおよびその上部のコンタクト88a,88c,88dの一部がセル境界線90を超えて配置されている。そして、ソース拡散層80a,80c,82aおよびその上部のコンタクト88a,88c,88dがセルの上部また下部に配置され、ドレイン拡散層82cおよびその上部のコンタクト88eがセルの中央部に配置されている。そして、p型MOSトランジスタ1cおよび2cの共有ドレイン拡散層80bの上部に設けられたコンタクト88bおよびn型MOSトランジスタ4cのドレイン拡散層82cの上部に設けられたコンタクト88eを介して、p型拡散層(共有ドレイン拡散層)80bとn型拡散層82cが金属配線層(図示しない)で接続される。さらに、上記のソースおよびドレインの配置によって、隣接するセルのソース拡散層92およびその上部のコンタクト94を配置可能スペースがドレイン拡散層82cおよびそのコンタクト88eとは上下にずれて設けられている。
【0030】
ここまでは、本発明の第1の実施の形態と同様であるが、第2の参考例では、サブストレート・コンタクト領域96a,96b,98aをセルの左右方向に配置することにより、左右に隣接するセル間でサブストレート・コンタクト領域96a,96b,98aを共有するようになっている。さらに、この参考例では、サブストレート・コンタクト領域96a,96b,98aとソース拡散層80a,80c,82aは重なるように配置され、1つのコンタクト88a,88c,88dを介してそれぞれ接続されるように構成されている。隣接するセルのソース拡散層92、コンタクト94およびサブストレート・コンタクト領域98bが配置される場合においても、同様の構成となっている。たとえばp型MOSトランジスタを構成するソース拡散層80aおよび80cはボロン(B)等のp型不純物で構成され、サブストレート・コンタクト領域96aおよび96bはリン(P)、ヒ素(As)等のn型不純物で構成されている。コンタクト88aおよび88cはp型領域であるソース拡散層80aおよび80cとn型不純物領域であるサブストレート・コンタクト領域96aおよび96bの両方と接続される。なお、ソース拡散層80a,80cのうちサブストレート・コンタクト領域96a,96bと重なる部分についてはp型不純物は導入されていない。n型MOSトランジスタを構成するソース拡散層82a、コンタクト88dおよびサブストレート・コンタクト領域98aにおいても、それぞれの導電型を逆とすれば上記と同様である。
【0031】
本発明の第2の参考例では、基板またはウェルに電位を供給するサブスト
レート・コンタクト領域を左右のセル間で共有されるソース拡散層と重なるように配置する。このため、左右のセル間でサブストレート・コンタクト領域を共有し、さらに、1つのコンタクトでソース拡散層とサブストレート・コンタクト領域の接続が可能となる。それにより、上下方向および左右方向にセル列がより縮小され、セルの実効サイズをより一層小さくすることができる。それにより、チップ面積の縮小化、集積密度の向上を図ることができる。
【0032】
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。上記においては、基板またはウェルに電位を供給するサブストレート・コンタクト領域が上下または左右のいずれか一方で隣接するセル間で共有されている場合について述べたが、本発明の第2の実施の形態では、サブストレート・コンタクト領域を上下左右の両方で隣接するセル間で共有させることにより、全体的に見れば上下方向および左右方向の両方についてセル列の縮小化をより一層図るものである。それにより、実効的なセルサイズを上下方向および左右方向に縮小し、チップ面積の縮小化、集積密度の向上を図るものである。
【0033】
図5は、本発明の第2の実施の形態に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図である。簡単化のため、ここではソース・ドレイン拡散層、ポリシリコン(ポリSi)、コンタクト、セル境界線(セル枠)およびサブストレート・コンタクト領域のみが示されており、金属配線層は省略されている。また、各セル同士はセル境界線が接するように上下左右に隣接して配置され、上下方向および左右方向にセル列を形成する。
【0034】
図5に示すように、この実施の形態に係るNANDセルは、ソース拡散層100a,102aおよびその上部のコンタクト108a,108cの一部がセル境界線110を超えて配置されている。そして、ソース拡散層100a,102aおよびその上部のコンタクト108a,108cがセルの上部また下部に配置され、ドレイン拡散層102cおよびその上部のコンタクト108dがセルの中央部に配置されている。そして、p型MOSトランジスタ1dおよび2dの共有ドレイン拡散層100bの上部に設けられたコンタクト108bおよびn型MOSトランジスタ4dのドレイン拡散層102cの上部に設けられたコンタクト108dを介して、p型拡散層(共有ドレイン拡散層)100bとn型拡散層102cが金属配線層(図示しない)で接続される。また、サブストレート・コンタクト領域112,114はセルの上下方向にソース拡散層100a,102aに重なるように配置され、さらにサブストレート・コンタクト領域112,114およびソース拡散層100a,102aは左右方向に延びた形状となっている。
【0035】
そして、図6に示すように、上下左右方向に複数のセルを隣接して配置した場合、サブストレート・コンタクト領域112,114とソース拡散層100a,102aは上下方向および左右方向のセル間で共有される。このため、全体的に見れば上下方向および左右方向の両方についてセル列の縮小化が図られ、実効的なセルサイズを上下方向および左右方向に縮小することができる。それにより、チップ面積の縮小化、集積密度の向上を実現できる。
【0036】
また、この実施の形態では、コンタクト108a,108cをサブストレート・コンタクト領域112,114の上部に配置することでコンタクトの数を低減している。すなわち、コンタクト108a,108cとソース拡散層100a,102aを直接接続しないで、ソース拡散層100a,102a上に形成された低抵抗の導電層を介して間接的に接続している。したがって、コンタクト108a,108cを上下に隣接するセル間で共有することが可能となり、それによりコンタクトの数を低減することができる。ソース拡散層100a,102a上の導電層はたとえば周知のサリサイドプロセスで実現すれば良い。
【0037】
(レイアウト設計装置および方法)
図7は、本発明に係るレイアウト装置のブロック図である。図8は、本発明に係る半導体集積回路のレイアウト方法の基本的な処理手順を示すフローチャートである。図7に示すように、本発明に係るレイアウト装置118は、スタンダードセルや高機能化したブロック(マクロ・セル)等を配置する手段120と、配置されてセル間の配線を経路を決定する手段122とで構成される。この実施の形態に係るレイアウト装置118は、複数の回路の接続情報から成る回路接続情報116を入力し、レイアウト結果であるレイアウト・ブロック(パターン)124を出力する。
【0038】
次に、本発明に係るレイアウト方法について図8を用いて説明する。図8に示すように、ステップS101において、回路接続情報116とセル・ライブラリデータ126が入力される。これらのデータは計算機のメモリ上に格納される。論理設計によって得られた回路間の結線データ(ネットリスト)は、論理設計終了後、論理回路データベースなどから回路接続情報116として出力される。回路接続情報116はセル名、端子名および信号名を記述して回路間の結線情報を表現する。同一信号名が記述された端子間は配線によって結線される。そして、回路接続情報116に記述されているセルをセル・ライブラリ126から選択して、複数のセルを配置する。この配置処理においてはいかに効率よく最適配置できるかが非常に重要な事柄である。というのは、標準セルの配置は、大規模・高機能のLSIの実現の際、チップ面積の最小化、配線長最小化等の課題に大きく影響するからである。この自動配置の手法としては種々のものが挙げられるが、大別して、初期配置での構成的配置法と、配置改善における繰り返し改善法がある。初期配置での構成的配置法としては、たとえばペア・リンキング法、クラスタ成長法がある。
【0039】
次に、ステップS102において、回路接続情報に記述されている端子名、信号名を参照して配置された標準セル間の配線のレイアウトを行う。この配線処理は、製造プロセスからの制限(配線層の数や設計基準など)、LSI動作速度からの遅延時間制限、電源配線インピーダンスなどを考慮して実行される。そして、その実際の計算機処理においては、配線数が膨大であることから、大まかなグローバル配線と詳細配線の2段階によって進められる。自動配線の終了すれば、希望の半導体集積回路のレイアウトパターンの生成が終了する。
【0040】
その後、生成されたレイアウトに基づきマスクパターンを生成する。生成されたマスクパターンは半導体製造のための後処理に渡される。
【0041】
【発明の効果】
本発明によれば、上下左右方向にセルサイズの縮小化を図り、半導体集積化回路の集積密度を向上できるスタンダードセルを実現できる。
【0042】
本発明によれば、高集積化可能な半導体集積回路を実現できる。
【0043】
本発明によれば、高集積化可能な半導体集積回路のレイアウト方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1の参考例を説明するための図であり、図1(a)は、2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図、図1(b)は、その比較例である従来技術に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図、図1(c)は、インバータを構成するスタンダードセルの平面図、図1(d)は、その比較例である従来技術に係るインバータを構成するスタンダードセルの平面図である。
【図2】 図1(a)のNANDセルと(b)のインバータセルを隣接して配置した例および図1(c)のNANDセルと(d)のインバータセルを隣接して配置した例を示す平面図である。
【図3】 本発明の第1の実施の形態を説明するための図であり、図3(a)は、この実施の形態に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図、図3(b)は、この実施の形態に係るインバータを構成するスタンダードセルの平面図、図3(c)は、図3(a)のセルと図3(b)のセルを隣接させた場合を示す平面図である。
【図4】 第2の参考例に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図である。
【図5】 本発明の第2の実施の形態に係る2入力NANDを構成するスタンダードセルの平面図である。
【図6】 図5のNANDセルを上下左右に隣接して配置した例を示す平面図である。
【図7】 本発明に係るレイアウト装置のブロック図である。
【図8】 本発明に係る半導体集積回路のレイアウト方法の基本的な処理手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1,2 p型MOSトランジスタ
3,4 n型MOSトランジスタ
10,12,22,24,32,38,42,46,48,58,60,68,72,76,80,82,92,100,102 拡散層
14,16,26,50,52,62,84,86,104,106 ポリシリコン
18,28,36,40,44,54,64,70,74,78,94,108 コンタクト
20,30,56,66,90,110 セル境界線
96,98,112,114 サブストレート・コンタクト領域
116 回路接続情報
118 レイアウト装置
120 セルを配置する手段
122 配線を行う手段
124 レイアウトブロック(レイアウト結果)
126 セルライブラリー
Claims (15)
- 半導体基板上に形成される複数のMOSトランジスタを含み、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域を定義される複数のスタンダードセルを、それぞれの矩形の上下左右に隣接して配置し半導体集積回路を構成するスタンダードセル方式設計用のスタンダードセルであって、該スタンダードセルは、
電源に接続され、前記矩形の左辺又は右辺の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、
前記一辺を前記第1のスタンダードセルとの共通辺として、前記第1のスタンダードセルに隣接して配置可能で、前記セル領域を超えた第1ソース領域を配置可能な第1空き領域、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第1空き領域と並んで配置された前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域を有する第2のスタンダードセル
とを含むことを特徴とするスタンダードセル。 - 前記第2のスタンダードセルは、前記共通辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第2ソース領域を更に有することを特徴とする請求項1に記載のスタンダードセル。
- 前記第2のスタンダードセルにおいて、前記ドレイン領域は前記共通辺に沿った方向の中央部に配置され、前記第2ソース領域は前記共通辺に沿った方向の上部または下部に配置されていることを特徴とする請求項2に記載のスタンダードセル。
- 前記第1のスタンダードセルは、前記共通辺に対向する辺を横切って進入する他のソース領域を配置可能な第2空き領域をさらに有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスタンダードセル。
- 前記第2のスタンダードセルは、前記半導体基板中または前記半導体基板中に形成されたウェル中に形成されたサブストレート・コンタクト領域を、さらに有し、
前記サブストレート・コンタクト領域と前記第2ソース領域は重なるように配置されていることを特徴とする請求項2又は3に記載のスタンダードセル。 - 前記サブストレート・コンタクト領域および前記第2ソース領域は、前記第2のスタンダードセルの上辺及び下辺上に、または左辺及び右辺上に配置されていることを特徴とする請求項5に記載のスタンダードセル。
- 半導体基板上に形成される複数のMOSトランジスタを含み、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域を定義される複数のスタンダードセルを、それぞれの矩形の上下左右に隣接して配置し半導体集積回路を構成するスタンダードセル方式設計用のスタンダードセルであって、該スタンダードセルは、
電源に接続され、前記矩形の左辺又は右辺の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、
前記一辺を前記第1のスタンダードセルとの共通辺として、前記第1のスタンダードセルに隣接して配置可能で、前記セル領域を超えて形成され、前記第1ソース領域と共有可能な第2ソース領域、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第2ソース領域と並んで配置された前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域を有する第2のスタンダードセル
とを含むことを特徴とするスタンダードセル。 - 電源に接続され、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域が定義され、前記矩形の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、前記セル領域を超えた第1ソース領域を配置可能な第1空き領域を有する第2のスタンダードセルとを含むスタンダードセルの組み合わせを用いるスタンダードセル方式で設計した半導体集積回路であって、
半導体基板上に、前記第1及び第2のスタンダードセルが前記矩形の左辺又は右辺の一辺を共通辺として互いに隣接して配置され、
前記第2のスタンダードセルの前記第1空き領域に前記第1のスタンダードセルの前記第1ソース領域が配置されることにより、前記第1及び第2のスタンダードセル間を跨るようにソース領域が配置され、前記第2のスタンダードセルの内部には、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第1空き領域と前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域が並んで配置されている
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記第2のスタンダードセルは、前記共通辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第2ソース領域を更に有することを特徴とする請求項8に記載の半導体集積回路。
- 前記第2のスタンダードセルにおいて、前記ドレイン領域は前記共通辺に沿った方向の中央部に配置され、前記第2ソース領域は前記共通辺に沿った方向の上部または下部に配置されていることを特徴とする請求項9に記載の半導体集積回路。
- 前記第2のスタンダードセルは、前記半導体基板中または前記半導体基板中に形成されたウェル中に形成されたサブストレート・コンタクト領域を、さらに有し、
前記サブストレート・コンタクト領域と前記第2ソース領域は重なるように配置されていることを特徴とする請求項9又は10に記載の半導体集積回路。 - 前記サブストレート・コンタクト領域および前記第2ソース領域は、前記第2のスタンダードセルの上辺及び下辺上に、または左辺及び右辺上に配置されていることを特徴とする請求項11に記載の半導体集積回路。
- 電源に接続され、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域が定義され、前記矩形の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、前記矩形の一辺を横切り、前記セル領域を超えた第2ソース領域を有する第2のスタンダードセルとを含むスタンダードセルの組み合わせを用いるスタンダードセル方式で設計した半導体集積回路であって、
半導体基板上に、前記第1及び第2のスタンダードセルが前記矩形の左辺又は右辺の一辺を共通辺として互いに隣接して配置され、
前記第2のスタンダードセルの前記第2ソース領域と前記第1のスタンダードセルの前記第1ソース領域とが共有して配置されることにより、前記第1及び第2のスタンダードセル間を跨るようにソース領域が配置され、前記第2のスタンダードセルの内部には、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第2ソース領域と前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域が並んで配置されている
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 電源に接続され、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域が定義され、前記矩形の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、前記セル領域を超えた第1ソース領域を配置可能な第1空き領域を有する第2のスタンダードセルとを含むスタンダードセルの組み合わせを用いるスタンダードセル方式の半導体集積回路のレイアウト方法であって、
前記セル間の接続情報と前記セルが登録されたセルライブラリーを入力する工程と、
前記接続情報に基づいて前記セルライブラリーに登録された前記セルを配置する工程と、
前記配置されたセル間の配線経路を決定する工程とを含み、
前記セルを配置する工程では、
前記第1及び第2のスタンダードセルを前記矩形の左辺又は右辺の一辺を共通辺として互いに隣接して配置し、前記第2のスタンダードセルの前記第1空き領域に前記第1のスタンダードセルの前記第1ソース領域を配置することにより、前記第1及び第2のスタンダードセル間を跨るように前記ソース領域を配置し、前記第2のスタンダードセルの内部には、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第1空き領域と前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域を並んで配置する
ことを特徴とする半導体集積回路のレイアウト方法。 - 電源に接続され、上辺、前記上辺に対向する下辺、前記上辺に垂直な左辺及び右辺により定義された矩形でセル領域が定義され、前記矩形の一辺を横切り、前記セル領域を超えて形成された第1ソース領域を有する第1のスタンダードセルと、前記セル領域を超えた第1ソース領域と共有可能な第2ソース領域を有する第2のスタンダードセルとを含むスタンダードセルの組み合わせを用いるスタンダードセル方式の半導体集積回路のレイアウト方法であって、
前記セル間の接続情報と前記セルが登録されたセルライブラリーを入力する工程と、
前記接続情報に基づいて前記セルライブラリーに登録された前記セルを配置する工程と、
前記配置されたセル間の配線経路を決定する工程とを含み、
前記セルを配置する工程では、
前記第1及び第2のスタンダードセルを前記矩形の左辺又は右辺の一辺を共通辺として互いに隣接して配置し、前記共通辺を超えて形成された前記第2のスタンダードセルの前記第2ソース領域に前記第1のスタンダードセルの前記第1ソース領域を接続することにより、前記第1及び第2のスタンダードセル間を跨るようにソース領域を配置し、前記第2のスタンダードセルの内部には、前記共通辺の延伸方向に沿って前記第2ソース領域と前記第1ソース領域と同一導電型のドレイン領域を並んで配置する
ことを特徴とする半導体集積回路のレイアウト方法。
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