JP3685498B2 - プログラム可能高密度電子工学試験装置 - Google Patents

プログラム可能高密度電子工学試験装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3685498B2
JP3685498B2 JP51465096A JP51465096A JP3685498B2 JP 3685498 B2 JP3685498 B2 JP 3685498B2 JP 51465096 A JP51465096 A JP 51465096A JP 51465096 A JP51465096 A JP 51465096A JP 3685498 B2 JP3685498 B2 JP 3685498B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
pin
circuit
switching circuit
block
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP51465096A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10508380A (ja
Inventor
チョン,フ・チゥン
Original Assignee
カリック アンド ソファ ホウルディングス インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by カリック アンド ソファ ホウルディングス インコーポレイテッド filed Critical カリック アンド ソファ ホウルディングス インコーポレイテッド
Publication of JPH10508380A publication Critical patent/JPH10508380A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3685498B2 publication Critical patent/JP3685498B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/0735Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card arranged on a flexible frame or film
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/319Tester hardware, i.e. output processing circuits
    • G01R31/31903Tester hardware, i.e. output processing circuits tester configuration
    • G01R31/31905Interface with the device under test [DUT], e.g. arrangements between the test head and the DUT, mechanical aspects, fixture
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/319Tester hardware, i.e. output processing circuits
    • G01R31/31903Tester hardware, i.e. output processing circuits tester configuration
    • G01R31/31908Tester set-up, e.g. configuring the tester to the device under test [DUT], down loading test patterns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Description

発明の背景
本発明は、高密度電子工学装置試験に関連する。
2つの進展によって電子回路の試験は益々難しくなっている。第1に、製造業者がさらに数多くの電子コンポーネントを1つの集積回路基板(IC)上に配置しようとしている点である。第2には、複数のディスクリートなICを、今までにない小さい寸法のプリント配線基板(PWB)やマルチチップモジュール基板(MCM)上に組合せて配置しようとしていることである。MCMは典型的には基板に取付けられた複数のICを含む。エッチングによる相互接続配線路でICのノード間(端末またはパッド等)をリンクする。
ICの試験は、これらのICが個々のダイに分けられたあとかまたはPWBやMCM基板上にアセンブルされた後に、半導体ウェハ上の現位置で行なうことができる。MCM基板およびPWBについても、ICが上に装着される前に試験することができる。
とどまるところを知らない小型化によって既存の試験装置の性能が問われている。装置に対し行なわれるあるタイプの試験は、ノード間の相互接続(「ネット」とよ呼ぶ)の完全性を測定するものである。この試験の有効性は、典型的には測定プローブが安全にアクセスすることができる最小ノード間距離(テストプローブサイズ)に基づき、秒当りの試験数によって表わされる。ネットの数が増えかつノード間距離が小さくなるにつれ、有効性や費用競争力を維持するためより高速で、テストプローブサイズが小さい試験方法が求められる。
ある確立された試験方法では、電気接点のアレイを含むいわゆる「ネイルのベッド」テスタを採用する。試験の際に、この接点のアレイは対応するノードのアレイを同時に打つ。ネイルのベッドテスタを用いるPWBまたはMCM基板の電気的連続性および短絡についての試験は並列で迅速に進行し、多数のノードを一度に試験することができる。しかしながら、ネイルのベッドテスタのサイズを、回路サイズが縮小するに従って際限なく縮小できるわけではない。
もう1つの試験方法では、回路基板を横切ってノードからノードへ素早く移動する1つまたは少数のプローブのみを使用し、個々のノード(またはノードの小グループ)を連続的に試験する。このプローブテスタの試験速度は回路基板を保持する機械的なステージの速度またはプローブの速度によって秒当り数テストに限られるが、さらに研究を進めればこの速度は秒当り30から50試験にまで延びる可能性がある。ある方法ではマルチプローブアレイ(たとえば2つのプローブテスタを備える)を採用し、一度に1を超える数の試験を行なうことによって試験速度を増大させている。
研究者らはまた、合焦した電子ビームを使用する回路基板の試験を研究している。素早く移動する電子ビームが交互に充電した後に個々の回路ネット上の電圧を検知するが、これらの作業はすべて高真空状態で行なう。
発明の要約
本発明は一般にそのある局面において、被試験装置のパッドとテスタ回路との間で試験信号を経路決めするための構造を特徴とする。この構造は、試験を行なうパッドの各々について1つずつ接点を有する基板を含むプローブ支持部と、その数が基板上の接点数より少ない、テスタ回路に接続される複数の導体と、プローブ支持部上に装着されて導体と接点との間で試験信号の経路を選択するための切換回路とを含む。
本発明の実現には以下の特徴を含んでもよい。切換回路は集積回路または集積回路を含むマルチチップモジュールを含みうる。基板はフレキシブル膜を含んでもよく、かつ切換回路はこのフレキシブル膜に取付けられた少なくとも1つのマルチチップモジュールを含み得る。フレキシブル膜は概して矩形形状でかつ接点がある領域を包囲するフレームを有してもよい。フレキシブル膜は第2の組の電気接点を介して切換回路に接続することができ、かつこの第2の組の電気接点は膜−薄膜電気接続を含み得る。さらに、この切換回路は第3の電気接点を介して試験回路に接続することができる。切換回路は、各々が制御論理ブロックと複数のI/Oピン論理ブロックを含む、複数の制御チップを含み得る。各I/Oピン論理ブロックは検知_ピンおよび強制_ピン論理ブロックを含み得る。各I/Oピン論理ブロックは入力_ピン論理ブロック、出力_ピン論理ブロックおよびI/Oデコード論理ブロックを含み得る。
他の局面では、本発明は被試験装置のパッドとテスタ回路との間で試験信号を経路決めするための構造を特徴とし、同構造は、試験を行なうパッドの各々について1つの接点を有しかつフレキシブル膜を含む基板と、その数が基板上の接点数より少ない、テスタ回路に接続させる複数の導体と、プローブ支持部上に装着されて導体と接点との間で試験信号を経路決めするための切換回路とを含む。切換回路はフレキシブル膜に取付けられた少なくとも1つのマルチチップモジュールを含み、フレキシブル膜は第2の組の電気接点を介して切換回路に接続し、切換回路は第3の組の電気接点を介して導体に接続する。
他の局面において、本発明は、各々が複数のパッドを有する同様の装置を一度に試験するための構造を特徴とし、同構造は被試験装置の各々について1組ずつの、複数の同様の接点の組を有する基板を含み、試験を行なうパッドごとに1つの接点が対応し、さらにその数が基板上の接点数より少ない、テスタ回路に接続させるための複数の導体と、プローブ支持部上に装着されて、導体と接点との間で試験信号の経路を決めるための切換回路とを含む。
他の局面では、本発明は被試験装置のパッドとテスタ回路の端末との間で試験信号の経路を決めるための方法を特徴とし、同方法は被試験装置の付近にテストヘッドを設けるステップを含み、このテストヘッドは被試験装置上で試験される各パッドについて1つのコンタクトと、テストヘッド上にある切換回路に各コンタクトを接続する別個の導体とを有し、被試験装置のパッドと切換回路との間で導体を介して試験信号を伝達し、かつ切換回路とテスタの端末との間で配線を介して試験信号を伝達し、その配線の数はテストヘッド上の導体の数の半分より少ない。
本発明の実現には以下の特徴を含み得る。テスタは切換回路内のラッチをセットしたりセットを外したりする信号を切換回路に送ることができる。ラッチは各々それぞれの通過ゲートを開いたり閉じたりすることができ、各通過ゲートは導体のうち1つを配線のうちの1つに接続する。テスタは切換回路に信号を送り、導体の1つからの試験信号を配線の1本からの基準信号と比較できるようにする。テスタは被試験装置上の回路ネットの1つのパッドに電圧を送り、回路ネットの各他のパッドをうまく接地して、最初のパッドの電圧を測定することができる。
他の局面では、本発明は被試験装置のパッドとテスタ回路のの端末との間で試験信号の経路を定めるための方法を特徴とし、同方法は被試験装置の付近にテストヘッドを設けるステップを含み、このテストヘッドは被試験装置上の試験を行なう各パッドについて1つの接点とテストヘッド上にある切換回路に各接点を接続する別の導体とを有し、被試験装置のパッドと切換回路との間で導体を介して試験信号を伝達し、かつ切換回路内のラッチをセットしたりセットを外したりする信号をテスタから切換回路に送り、ラッチはそれぞれの通過ゲートを開いたり閉じたりし、各通過ゲートは1組の配線のうちの1本に導体の1つを接続し、この配線の数はテストヘッド上の導体数の半分より少なく、この配線がテスタ回路の端末に接続する。
本発明の利点は以下のものを含む。多様な装置の試験をかなり柔軟に行なうことができ、それら装置には半導体回路(ウェハ上で製造中のものや別々のチップになったもの)、ならびにPWBおよびMCM等の配線基板が含まれる。フレキシブル膜接点では非常に密集した電気パッドを試験することができる。切換回路のラッチによって比較的少数の試験接続部で多数のパッドにアクセスすることができる。切換回路もまた、多様な電源電圧および基準電圧の、テストが行なわれている各パッドへの伝達を図る。切換回路は1つの論理族または1つの半導体基板についてのみ構成されているわけではないので、回路を変えずに適切な電圧を付与または参照することができる。また、切換回路はバッファ処理を行なうのではなく、試験を行なっているパッドから試験コントローラへ接続をつなぐのでデジタルおよびアナログの両方の試験が行なえる。さらに、切換回路は電気接点パターンとともにテストヘッド上に複製することができるので、試験コントローラが供給する同じ試験ベクトルを使用して複数の同様な回路を同時に試験することができる。
本発明の他の特徴および利点については以下の説明および請求項に明らかである。
発明の説明
図1は、アクティブプローブ試験装置の模式図である。
図2は、フレキシブル膜試験アセンブリの断面図である。
図3は、試験装置の膜プローブカードの斜視図である。
図4aおよび図4bは、膜アセンブリの上面および断面図である(図4bではプローブカード上に装着されているところを示す)。
図5は、膜プローブカードの切換回路の上面図である。
図6は、膜アセンブリの拡大上面図である。
図7は、切換回路の模式図である。
図8は、切換回路の制御_チップブロックの模式図である。
図9は、制御_チップブロックの制御_論理回路の模式図である。
図10は、制御_チップブロックのI/Oピン論理回路の模式図である。
図11および図12は、それぞれI/Oピン論理回路の強制_ピンおよび検知_ピンブロックの模式図である。
図13は、試験装置によって行なわれる短絡および連続性試験の模式図である。
図14は、試験装置によって行なわれる短絡および連続性試験の測定電圧を示すグラフである。
図15は、I/Oピン論理回路の出力_ピンブロックの模式図である。
図16は、代替試験アセンブリの断面図である。
図1を参照して、電子工学装置(試験中の装置またはDUT)12を試験するためのアクティブプローブ試験装置10は、フレキシブル膜試験アセンブリ14(アクティブプローブ電子工学素子16を含む)と、プローブ機械サブシステム18と、試験コントローラ20とを含む。試験が行なわれる電子工学装置12(たとえばICおよび/または配線基板)とは半導体ウェハ(ダイシング前の)上に行列状に配列されたICまたはウェハから切り離されたそのようなICのうちの1つ、PCBもしくはMCM配線基板に取付けられたIC、またはICが取付けられる前のPCBもしくはMCM配線基板自体を含み得る。
試験の際、装置12はプローブ機械サブシステム18によって運ばれフレキシブル膜試験アセンブリ14と接触する。試験が終わると、プローブ機械サブシステム18は装置12を試験装置10から取出す。
試験コントローラ20は産業標準のロー・ピン・カウントIC/基板試験コントローラ(たとえばヒューレット・パッカード社(Hewlett-Packard)から入手可能なモデル82000)でよい。これらのコントローラは典型的には外部のコンピュータネットワークと通信して試験プロトコールをダウンロードしかつ試験を行なった各装置についての最終試験データをアップロードするためのシステムコントローラ22を含む。システムコントローラ22は順にプローブ機械サブシステム18の動作を支配するIEEE標準装備のコントローラブロック24と、各装置12を試験するためのアクティブプローブ電子素子16に給電する電源26と通信する。またシステムコントローラ22は検知制御ユニット28と、機能試験およびタイミングユニット30と、直流測定ユニット32とを組合せたもの(以下に説明するとおり)と通信し、これらはアクティブプローブ電子素子16により行なわれる試験を制御する。試験コントローラ20は、バス線29を介してアクティブプローブ電子素子と通信する。
図2を参照して、フレキシブル試験膜アセンブリ14が試験を行なうサンプル電子工学装置12の上の部分を破断した形で図示される。装置12はその表面上に電気接続パッドまたはノード13を有する。
フレキシブル膜アセンブリ14は円形の膜プローブカード34と圧力機構36とを備え、これらは両方ともにハウジング38に取付けられている。圧力機構36は以下に詳細に説明するが、装置12のパッド13と膜プローブカード34の膜42上に露出する導電回路接続バンプ43との間に適当な接触力を維持する。回路接続バンプ43は試験中の電子工学装置12のパッド13の位置に従って配列され、膜プローブカード34の両側の切換回路44aおよび44bにそれぞれコネクタ46aおよび46bを介して電気的に接続する。切換回路44aおよび44bはコネクタ51を介して試験コントローラ20の電気的に接続し、かつともにアクティブプローブ電子ブロック16(図1の)を含む。膜42および回路接続バンプ43の製造については米国特許出願連続番号第08/303,498号に記載されており、同出願の開示をここに引用により援用する。
真空チャック33(プローブ機械サブシステム18の一部を構成する)がフレキシブル膜アセンブリ14の下で装置12をしっかりとつかまえ、フレキシブル膜42に対する横方向の動きを可能にして装置12の電気パッド13を回路接続バンプ13に沿って配向させる。電気パッド13が回路接続バンプ43下に適切に整列すると、真空チャック33がハウジング38に対して直角をなす方向に移動し、電気パッド13を回路接続バンプ43と電気的に接触させる。そこで、テスタ20は装置12と信号をやり取りし、装置12に電力を供給し、かつ装置12の性能を評価することができる。
膜プローブカード34および圧力機構36は膜プローブカード34の外縁のまわりに均一な周縁間隔で配置された装着孔48内へ装着された固定ねじ40によってハウジング38に対し固定された状態に保持される。ねじ40は圧力機構36のフレームリング50を貫通しハウジング38に取付けられた同心の固定リング52のねじ溝と噛み合う。
圧力機構36は、その各々がフレームリング50からの一方端と圧力ブロック56からの他方端で片持ち状態になっている、フレキシブルビームスプリング54を含む。圧力ブロック56は、膜42の中央に結合されたプローブフレーム58の上に載る。真空チャック33は、電気パッド13を回路接続バンプ43に接続させ、ビームスプリング54は屈曲して圧力ブロック56とプローブフレーム58とが鉛直方向に移動できるようにする。ビームスプリング54の弾力性は、電気パッド13と回路接続バンプ43間の接触力がこの2つの部分を確実に高信頼度で電気接続するのに十分で、かつそれぞれに損傷を与えるほどではない程度に選択される。
図3から図6を参照して、矩形プローブフレーム58を伴う膜42と、矩形コネクタフレーム46aおよび46bとは膜アセンブリ60を構成する。プローブフレーム58は膜42の中心部分およびドラムヘッドに及ぶ開放領域62を囲む。
コネクタフレーム46aおよび46bは膜アセンブリ60の端部を膜接続パッドアレイ47aおよび47bでそれぞれの切換回路44aおよび44bに付ける(図5を参照)。切換回路44は以下により詳細に説明するとおり、IC45を含むマルチチップモジュール(MCM)を含み得る。これらMCM切換回路44はプローブカード34の主要支持コンポーネントである円形プリント基板(PCB)64に結合される。MCM切換回路44はまた試験コントローラ20に電気的に接続させるテスタ接続パッドアレイ49aおよび49bを有する(図1の線29)。これは、さまざまな形で接続することができる1組のピングリッドアレイ(PGA)ピン49を用いて実現できる。図3に示すとおり、フレキシブル導体53をコネクタ51を介してPGAピン49に取付けることができる。または、PGAピン49は下向きに直接PCB64内、すなわち試験コントローラ20に信号を送る信号トレース内へ接続することができる。
膜アセンブリ60は、PCB64内に設けられた矩形の孔66の中央にぶら下がるように配列される。膜42の幅を孔66より大きくしたので、プローブフレーム58はコネクタフレーム46aおよび46bならびにPCB64に対して垂直な方向に移動できる。プローブフレーム58が最も低い地点へ移動すると、膜42は断面で見て、おおむねU字型になる(図4b)。プローブフレーム58の各角に1つずつ全部で4つ設けられた孔68はねじ(図示せず)を受入れてプローブフレーム58を圧力機構36の圧力ブロック56(図2)へ装着する。
図6では、回路接続バンプパッド43がプローブフレーム58の開放領域にわたる膜42の部分上に集められて、試験を受けている装置12の電気パッド13に対応するよう配向されている。開放された四角形のパターンを図示しているが(説明を簡単にするため)、回路接続バンプは必要に応じどのようなパターンに配列されてもよい。さらに、2組の膜接続バンプ72が、コネクタフレーム46aおよび46bの開放領域74aおよび74bにかかる膜42の部分上に行列状のマトリクスで配列されている。これら膜接続バンプ72の配列はMCM切換回路44aおよび44bのそれぞれ膜接続パッドアレイ47aおよび47bに対応する。膜接続バンプ72の典型的な配列には、30×200のマトリクスで、各々0.015″の間隔をおいた6000膜接続バンプが含まれ、回路接続バンプパッド43へは6000の別々の信号経路(run)70が形成される(図面を簡略化するため、全信号経路70は図示していない)。さらに、特定の設計においては、6000膜信号経路70のすべてを使用する必要はない。
各信号経路70はプローブフレーム58の中央の回路接続バンプ43のすぐ上の地点からコネクタフレーム46のうちの1つの中央領域内の対応する膜接続バンプパッドのすぐ上の地点へ延びる。(わかりやすくするため、信号経路70を実線で(仮想線ではなく)図6に示すが、実際には信号経路70はバンプパッド43および72と同一平面上に存在していない。)各信号経路70の各端部にあるビア(図示せず)は信号経路70をその端部の信号経路のすぐ下にある対応するバンプパッド43および72へ接続する。信号経路70、接続バンプ43および72ならびにビアは従来技術のフォトリソグラフィ技術を用いて膜42上に製造することができる。バンプパッド72をMCM上のパッドアレイ47に接続することによって膜−薄膜接続を用いて密な信号の集合を伝達する。
膜接続パッドアレイ47(切換回路44の)が膜アセンブリ60の膜接続バンプ72にリンクすると同時に、テスタ接続パッドアレイ49(図5)も試験コントローラ20に切換回路44をリンクする。各テスタ接続パッドアレイ49は間隔が0.100”の6×60波型マトリクスに配列された360個の電気接続パッド(または上に述べたとおりPGA)を含む。切換回路44はこうして被試験装置12に接続するおよそ6000信号経路70に対しておよそ360の入来テスタ信号線をリンクする役割を果たす。用途に応じて、配線ピン49の数は数個から数百個までさまざまに変更することができる。
切換回路44の構造および動作を図7から図15に示す。各切換回路44はM個の制御チップ76(便宜上761から76Mとする)を含む。Mはある装置を試験するのに必要な信号経路70の数(たとえばDUT12上にある信号パッドの数)と各制御チップ76iに取込まれる別々の信号経路I/Oチャネルの数Nの関数である。ある切換回路44の全制御チップ76iは同じ入来テスタ信号バス線80に並列に接続する。これらの入来テスタ信号線はテスタ接続パッドアレイ49のパッドに接続する。各制御チップ76iは最終的に(回路接続バンプ43を介して)被試験装置12に接続するN個の信号経路70に接続する。各切換回路44はしたがってM×N個の信号線70を制御することができる。
信号線82(走査_A線)は、すべての信号経路70に対しどの走査試験が行なわれるか(つまり、下により詳細に説明するように、テスト中の装置12のすべてのパッドに対する走査試験)を起動し制御する。論理/動作試験およびDC変数試験の両方を走査_A線を介して別々に選択することができる。信号線84(走査_B線)は、すべての信号経路70に対する強制および検知チャネルの走査試験を制御する。信号線86A-Fはすべての信号経路70に対する測定線(強制および検知に対する)、基準電圧および比較器ストローブ電圧を与える。信号線88(制御線)は各制御チップ76にモード制御信号を与える。最後に、信号線89(電源/バイアス線)は各制御チップ76に電源および電圧バイアスを与え、強制および検知測定に関連して各制御チップ76が連続性試験を行なうことを可能にする。
図8〜図12を参照すると、各制御チップ76は制御論理ブロック90とN個のI/Oピン論理ブロック921から92Nとを含む。図9に詳細に示される制御論理ブロック90は、2つのIEEE標準1149.1タップコントローラ94aおよび94bと、モードコントローラ96とを含む。制御論理ブロックはI/Oピン論理ブロック92に境界走査制御信号を与える。2つのタップコントローラ94aおよび94bは、走査_Aおよび走査_Bとしてグループ分けされる業界標準入力信号をそれぞれ受取り、図示されるような信号118、119、120および121に制御信号を与える。タップコントローラ94aおよび94bの残りの相互接続はI/Oピン論理ブロック92の論理ゲートに従来の態様で接続する。より詳しい説明については、CMOS VLSI設計の原理:システム展望(Principles of CMOS VLSI Design:A Systems Perspective)、第2版、ニール・エイチ・イー・ウエスト(Neil H.E.Weste)およびカム経路・エシュライアン(Kamran Eshraghian)、アディソン−ウェズリー出版Co.(Addison-Wesley Publishing Co.)、1993年(特に第8章)等の標準的な教本を参照することができる。
モード制御ブロック96は制御信号の組を受取ってどの試験が行なわれるべきかを決定する。たとえば、下にさらに説明されるように、これらの試験は連続性/短絡試験であり得、または集積回路もしくはMCMの全論理試験であり得る。モード制御ブロック96は制御線から線116への通過線のように単純であり得、別々の試験装置を可能化または不能化し、走査鎖長を最適化して試験時間諸経費を低減する。
線86A-Fは直接通過線である。電源およびバイアス線は直接通過され得、または2つ以上の部分に分割され得:一方の部分は能動プローブエレクトロニクス装置16の回路に電源およびバイアスを供給し得、他方の部分は試験中の装置12に1つ以上の異なる電圧およびバイアスを与え得る。下にさらに説明されるように、各I/Oピン論理ブロック92の種々の論理ブロックにより、2つ以上の電源(またはバイアス)電圧が所与の信号経路70のところで与えられ(または比較され)る。
制御チップ76の制御論理ブロック90はN個のI/Oピン論理ブロック92に直列に接続して、すべてのN個の信号経路70の直列走査を可能にする。各I/Oピン論理ブロック92の回路を図10〜図12に示す。バス線86A−86Fは各I/Oピン論理ブロックに並列に接続される。バス線86A(3つの線SMA、SMBおよびSMC、または94A-Cを含む)は検知_ピンブロック96に接続する。バス線86B(3つの線FMA、FMBおよびFMC、または98A-Cを含む)は強制_ピンブロック100に接続する。バス線86Cおよび86D(8つの線、RA_0〜RD_0(線102)およびRA_1〜RD_1(線104)を含む)は入力_ピンブロック106に接続する。バス線86Eおよび86F(8つの線、SA_0〜SD_0(線108)およびSA_1〜SD_1(線110)を含む)は出力_ピンブロック112に接続する。I/Oピン論理ブロック92はさらに図示されるI/Oデコードブロック114を含む。
別個の線116、117、118および120は、検知_ピンブロック96、強制_ピンブロック100、入力_ピンブロック106、出力_ピンブロック112およびI/Oデコードブロック114を図示されるように接続する。各I/Oピン論理ブロック92iは、テスト中の装置12上のパッド13iに回路接続バンプ43iを介して接続する独自の信号経路70iに接続する。
図10に示されるI/Oピン論理ブロック92iは、テスト中の装置12の各パッド13に対し異なる試験を行なうための、異なる組の回路ブロックを設ける。検知_ピンおよび強制_ピンブロック96および100は、下に記載されるように、相互接続および短絡を試験するための、およびD.C.変数測定のための試験装置を与える。出力_ピンおよび入力_ピンブロック112および106は、各パッド13の論理上の機能状態を試験するための装置を与える。モード制御ブロック96は、線116を介してどの組の試験が可能化され不能化されるかグローバルに決定する。これにより、同装置は同じ汎用回路で相互接続および論理動作の両方に対して非常に柔軟に試験を行なうことができる。
適用例に依っては、制御チップ44は能動コンポーネントまたは相互接続基板のいずれかを試験するよう設計され得る。図10の入力_ピンブロック116は、ピン70iを86Cおよび86Dのうちの選択された電圧レールに接続することによって、ピン70iを特定の電圧に設定するよう設計される。同様に、70iに接続される装置12のピンが装置出力ピンである場合には、入力_ピンブロック116は不能化され、出力_ピンブロック112が可能化される。出力_ピンブロックは次いでピン70iにあるデータを読んでそれをレール86Eおよび86Fから選択されたストローブ基準電圧と比較する。
入力_ピンブロックを使用するかまたは出力_ピンブロックを使用するかについてのピン単位選択は、1149.1タップコントローラ94aを介して走査_A線に接続されるI/Oデコードブロック114に走査されるビットパターンを通してなされる。ゆえに、走査_Aは、I/Oピン論理ブロック114に、それが何の試験を行なっており、特定の試験に対して図10のどの論理ブロックを選択すべきかを伝えるために用いられる。モード制御ブロック96が出力_ピン/入力_ピン論理の組と強制_ピン/検知_ピン論理の組との間でグローバルに選択を行ない得る一方で、走査_A線の使用(I/Oデコードブロック114を介する)によって異なる組をピン単位で選択することができる。これは、ある装置網に対しては連続性を、他の装置網に対してはそれらの論理上の機能の仕方を、同時に試験する際に役立ち得る。信号経路70iに対し論理試験がオフに切換えられると、次に連続性試験およびD.C.変数測定のために走査_Bを用いて86A&Bのうちのいずれかの線を(強制_ピンおよび検知_ピンブロック96および100を介して)選択して70iに接続する。
図11を参照すると、各検知_ピンブロック96iは3つの同一の検知_ピンサブブロック122を含み、これは各々、直列接続される2つのフリップフロップ回路124および126と、インバータ128と、P−N MOSFETト経路ジスタ対130とを含む。図10および図11に見られるように、信号線118j+1は検知_ピンブロック96iを次の強制_ピンブロック100iに接続する。3つの線SMA、SMBおよびSMC(96A、96Bおよび96C)によりノード70iは3つの検知線のいずれかに接続されて、相互接続の並列試験のために複数の外部測定ユニットを使用することを可能にする。これら個々の線は、それらのそれぞれのフリップフロップ126がオンであるかまたはオフであるかに依って、それぞれのト経路ジスタ対130およびインバータ128(「通過ゲート」)を介してオンまたはオフに切換えられる。
図12を参照すると、各強制_ピンブロック100i(各検知_ピンブロック96iと全く同様)は3つの同一の強制_ピンサブブロック132を含み、それは各々、直列に接続される2つのフリップフロップ回路124および126と、インバータ128と、MOSFETト経路ジスタ対130とを含む。図10および図12に見られるように、信号線118j+2は強制_ピンブロック100iを次の検知_ピンブロック96i+1に接続する。検知_ピンブロックの場合のように、3つの線FMA、FMBおよびFMC(98A、98Bおよび98C)により3つの異なる電圧がノード70iにつながれる。これら個々の線は、それらのそれぞれのフリップフロップ126がオンであるかまたはオフであるかに依って、それぞれのト経路ジスタ対130およびインバータ128(これもまた「通過ゲート」)を介してオンまたはオフに切換えられる。
検知_ピンおよび強制_ピンブロック96iおよび100iは協働して、テスト中の各網に対して従来の4点回路測定を可能にする。たとえば、1つのノードiに対する検知_ピンおよび強制_ピンブロックを試験のための強制ハイおよび検知ハイチャネルに対して用い得、一方、別のノードj(ノードiに接続されて網を形成する)に対する検知_ピンおよび強制_ピンブロックを強制ローおよび検知ローチャネルに対して用い得る。
すべての検知_ピンおよび強制_ピンブロック96iおよび100iは線118によって直列接続される。1149.1タップコントローラ94(図9)からのクロックDR信号線119はすべてのノードiを通過するデジタル信号の直列の流れを制御する。したがって、どのノードが試験され、どのノードに対するどのチャネル(たとえば、SMA、SMBもしくはSMC、またはFMA、FMBもしくはFMC)がオンにされるかの所与のパターンは、クロックDR線119をそれぞれストローブすることによって、ブロック96iおよび100iを介して高速に切換えられ得る。ハイおよびローの信号の適切なパターンが各それぞれの第1のフリップフロップ124に置かれると、(これも1149.1タップコントローラ94からである)更新DR線121は、第1のフリップフロップ124の出力を各ノード70iの各線のために第2のフリップフロップ126に伝達する。たとえば、(クロックDR線119を6回ストローブすることによって)単一のノード70iの検知_ピンブロック96iおよび後続の強制_ピンブロック100iへクロック100100を与え、次いで更新DR線121を可能化することにより、後続の第2のフリップフロップ100にその100100パターンを伝達する。このパターンは、ノード70iに接続されるFMAおよびSMA線をオンにし、FMB、FMCおよびSMB、SMC線をオフにする。このようにして、各試験サイクルで試験されるべきノードの複雑なマッピングが、この発明の切換回路16を介して高速にクロックされ得る。さらに、これらの手段によって、小数の入来信号線が多数の信号経路70にアクセスし得る。
標準4点測定試験は時間がかかりすぎることがあり得る。正確さがそれほど所望されない場合には(たとえば、アセンブリラインが正確に較正されて、回路の大量生産中に)、本発明を用いて、正確さは落ちるもののより高速である回路試験を行なうことができる。図13および図14は、短絡および連続性の、さらにより高速な修正された試験を示す。電源136(たとえば、接地140への5ボルトク経路プに並列接続される10ボルト電源138を含む)はスイッチ142を介して信号経路70Aに接続する。(この発明では、スイッチ142は各I/Oピン論理ブロック92(図8)によって形成される)。ノードAは網状にノードDおよびEに接続される。他のすべてのノードは信号経路70B,C,FおよびGを介して接地に接続される。ノードAへの電源136をオンに切換え、そのノードでの電圧を測定することにより、短絡および連続性を容易に測定し得る。(機能試験およびタイミングブロック30の)試験コントローラ20にみられる電圧比較器を測定をなすために利用することができ、または専用の精巧な比較器を用いることもできる。さらに、電圧変化の立上がり時間および傾きを、回路網の容量および他の伝送線特性を測定するために測定することができる。
信号経路70Aに取付けられる強制_ピンブロック100Aを介して電源がオンに切換えられると、そのノードで測定され電圧は図14に示されるグラフ144で表現され得る。「短絡」テスト期間146の間、測定される電圧は、接地に短絡されない網に典型的なVDHIGH148にまで経路プアップするはずである。動作中、試験装置10は、信号線70Aを適切な電圧にそれぞれの強制_ピンブロック100Aを介して切換え、電圧が経路プアップするのを短期間待って、信号経路70Aを通る電圧の測定を検知_ピンブロック96Aを介してとる。
電圧グラフ144の第2の部分150は連続性に対する電圧測定を表現する。網の各ノード、たとえばノードDが今度は接地に接続され、ノードAでの電圧が短い緩和時間後再び測定される。電圧は、接地への十分な接続を示すVLOW152にまで落ちるはずである。VHIGHおよびVLOWに対する緩和時間は非常に短いため、各信号経路70は各I/Oピン論理ブロック92のクロックメカニズムによって非常に高速にオンおよびオフに切換えられ得、装置12の多数のノードが短絡および連続性に関して非常に高速にチェックされ得る。
検知_ピンおよび強制_ピンブロック96および100を介する各信号経路への3つの異なる線を含むことによって、1つの切換チップ44は同じ装置上の種々の異なる論理ファミリーに、またはMCM上に組合せられる種々の異なる半導体回路に接続し得る。たとえば、シリコン基板にSMA、FMA線を介して印加される電圧はヒ化ガリウム基板に印加される電圧とは異なり得る。MCMはここで1つのモジュール上に種々のそのような基板を含み得るので、各基板のための各テストに対して異なる適当な電圧が選択されてもよい。さらに、強制_ピン、検知_ピン、入力_ピン、および出力_ピンブロックのゲートは単一の論理ファミリーにとって適当な電圧レベルを与えるようには構成されず、むしろ任意の数の異なる電圧線を通過するよう構成されるため、2つ以上の測定を並列で行なうことができ、装置ピンをデジタルおよびアナログ装置の両方に接続し得る。
図15において、出力_ピンブロック112は、(テスト中の装置12のパッド13に接続される)信号経路70からの入来信号を、線110および108(SA_1−−SD_1およびSA_0−−SD_0)によって与えられる比較器ストローブ電圧レベルと比較する2つまたはそれ以上の比較器からなる。線108および110からとられる比較器ストローブ電圧レベルは選択論理ブロック162aおよび162bによるバス線117a上の信号によって決定される。I/Oデコードブロック114は(一旦モード制御ブロック96により可能化されると)、信号線120上で走査されるコードを用いて、SX_1のどの信号を論理ハイ電圧基準として用い、SX_0のどの信号を論理ロー電圧基準として用いるべきかを選択ブロック162aに命ずる。信号経路70上のVoutが論理ハイである場合には、それは(SX_1からの)基準ハイよりも高く、比較器160aは論理1を出力する。信号経路70上のVoutが論理ローである場合には、それは(SX_0からの)基準ローよりも低く、比較器160bは論理1を出力する。
比較器160aおよび160bの出力(1−0または0−1のいずれか)はラッチ170aおよび170bにラッチされ、このときI/OデコードブロックはANDゲート164を介して線117bをハイに強制する。これはサンプル動作期間中に生ずる。サンプル期間が終了すると、117bはローになり、ラッチ170aまたは170bのいずれかがハイになる。117jをクロックすることにより、試験の結果はI/Oデコードブロックにクロックし返され得る。つまり、インバータ166およびANDゲート168を介して、ラッチ170bの出力はANDゲート168aに送られラッチ170aにラッチされ、一方、ラッチ170aの出力は117j+2に沿って出力される。すべての出力_ピンブロック112に与えられるクロック−Aは、論理試験のこれらの出力を規制する別個のクロックである。
入力_ピンブロック106は、信号経路70に取付けられるパッド13を、(I/Oデコードブロック114により再び選択される)86Dの線のうちの1つから選択される電圧レベルに強制する。これらの電圧は、図12に示される強制_ピンブロックと全く同じ態様でかつそれと全く同じ装置で、選択され通過させられ得る。入力_ピンブロックは次いで出力_ピンブロックと協働して、回路網の論理および動作試験を行なう。
I/Oデコードブロック114は、信号経路70に接続される装置パッド13が入力であるべきかまたは出力であるべきか、およびそのノードに与えられまたは期待される電圧が何であるべきかを決定する。I/Oデコードブロック114は入力_ピンブロック106および出力_ピンブロック112と協働して任意の集積回路装置12に対する全論理試験を与える。
代替的な試験プローブ構造200を図16に示す。装置ホルダ202は、エラストマーブロック表面上で試験を行なうために、回路ダイ12(フェンス207により保持される)を受けるエラストマーブロック206をしっかりと保持する基板支持プレート204を含む。ちょうど膜アセンブリ60の場合のように、エラストマーブロック206は、回路ダイ12上のパッド12(図示せず)と通信し、相互接続膜208に埋込まれる信号経路と電気ボタンコネクタ212とを介して、切換回路220aおよび220bを有する試験プローブカード216とも通信する、埋込まれた信号経路70(図示せず)を含む。電気ボタンコネクタ212はHDIアルミニウムドーナツ210により適所に保持される。プローブカード216は、位置合わせピン218によって装置ホルダ202と正確に重ね合わせられる状態で保たれ、介在プレート214によって分離された状態で保たれる。代替的実施例200はより堅固な本発明の試験装置を与え、ここでは、試験アセンブリは試験中の装置上に降ろされるのではなく、試験アセンブリに試験中の装置を挿入する。切換回路の他のすべての電気的動作は同じである。
他の実施例は以下の請求の範囲内にある。たとえば、必要に応じて各スイッチに対し異なる数の電圧線を用いることができる。試験中の装置に接触する方法そのものを変えることもでき:たとえば、切換回路44に至る適当な数の信号経路70を有する容器にICダイを挿入することもできる。異なる材料を用いて、試験中の回路に接触するためのフレキシブル膜構造を作り出すこともできる。マルチチップモジュール切換回路44を網42上に直接作製することもできる。能動プローブエレクトロニクス装置において、より多いまたはより少ない試験回路を用いることもできる。異なる電気的試験を同じ態様で組込むこともできる。試験中の装置12に対して多数の異なる試験ブロックを動作させるようノード制御ブロック96を作ることもできる。異なる数の制御ブロック76および信号経路70を用いることもできる。
加えて(図7に示すように)、MCM切換回路44が上に記載したような同一の制御チップ76を多数含んで、それらが、試験コントローラ20によって送られる1つの試験ベクトルに司られて並列動作するようにすることもできる。こうして、多数の同一の半導体ダイが除去前に同時にそれらのウエハ上で試験され得る。並列試験回路はしたがって各ダイに対し「良」または「不良」試験表示を出すだけでよく、不良回路ダイを費用の面で非常に効率のよい態様で篩にかけることができる。

Claims (8)

  1. 試験信号を試験下における装置のパッドとテスタ回路との間において経路づけるための構造であって、
    接点を、1つが各前記パッドに対するように有する基板と、
    前記テスタ回路への接続のため或る数の導体を有するプローブ支持部とを含み、前記或る数の導体は前記基板上における前記接点の数よりも少なく、前記基板は前記プローブ支持部上に支持されかつ前記プローブ支持部から取外し可能であり、前記構造はさらに、
    前記試験信号を前記導体と前記取外し可能な基板上の前記接点との間において経路づけるための切換回路を含み、前記基板が前記プローブ支持部から取外されるとき前記切換回路は前記プローブ支持部に結合されたままであるように前記切換回路は前記プローブ支持部上に取付けられ、前記構造はさらに、
    前記切換回路と前記基板との間に、分離可能な、薄膜から薄膜への電気的接続を含む、構造。
  2. 前記基板は薄膜の膜を含み、前記基板は、接点を、前記薄膜の膜上において、1つが試験されるべき各前記パッドに対するように有する、請求項1に記載の構造。
  3. 前記薄膜の膜は前記接点がある領域を取囲むフレームを有する、請求項2に記載の構造。
  4. 前記切換回路は前記導体のうち少なくとも1つを前記接点のうち少なくとも1つに接続する局所的にプログラマブルな通過ゲートを含む、請求項1に記載の構造。
  5. 前記通過ゲートは、前記導体上のアナログ電気信号の、前記接点への接続を可能にする、請求項4に記載の構造。
  6. 前記導体のうち少なくとも1つを前記接点のうち少なくとも1つに接続する複数の局所的にプログラマブルな通過ゲートをさらに含み、前記複数の通過ゲートは同じ導体に結合され、前記導体上で運ばれる実質的に同じアナログ電気信号を、前記複数の通過ゲートに接続される前記接点の各々に接続することを可能にする、請求項4に記載の構造。
  7. 前記切換回路は集積回路を含む、請求項1に記載の構造。
  8. 前記切換回路は集積回路を含むマルチチップモジュールを含む、請求項1に記載の構造。
JP51465096A 1994-10-28 1995-10-19 プログラム可能高密度電子工学試験装置 Expired - Lifetime JP3685498B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US33105594A 1994-10-28 1994-10-28
US08/331,055 1994-10-28
PCT/US1995/013510 WO1996013967A1 (en) 1994-10-28 1995-10-19 Programmable high density electronic testing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10508380A JPH10508380A (ja) 1998-08-18
JP3685498B2 true JP3685498B2 (ja) 2005-08-17

Family

ID=23292443

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51465096A Expired - Lifetime JP3685498B2 (ja) 1994-10-28 1995-10-19 プログラム可能高密度電子工学試験装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5973504A (ja)
EP (1) EP0788729A4 (ja)
JP (1) JP3685498B2 (ja)
KR (1) KR100384265B1 (ja)
TW (1) TW278138B (ja)
WO (1) WO1996013967A1 (ja)

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914613A (en) * 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6181145B1 (en) * 1997-10-13 2001-01-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Probe card
US6107818A (en) * 1998-04-15 2000-08-22 Teradyne, Inc. High speed, real-time, state interconnect for automatic test equipment
US6256882B1 (en) 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6812718B1 (en) 1999-05-27 2004-11-02 Nanonexus, Inc. Massively parallel interface for electronic circuits
US7382142B2 (en) 2000-05-23 2008-06-03 Nanonexus, Inc. High density interconnect system having rapid fabrication cycle
US6578264B1 (en) 1999-06-04 2003-06-17 Cascade Microtech, Inc. Method for constructing a membrane probe using a depression
US6489797B1 (en) * 1999-07-15 2002-12-03 Ltx Corporation Test system including a test head with integral device for generating and measuring output having variable current or voltage characteristics
US6838890B2 (en) * 2000-02-25 2005-01-04 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6661244B2 (en) 2000-03-06 2003-12-09 Wentworth Laboratories, Inc. Nickel alloy probe card frame laminate
US6633175B1 (en) 2000-03-06 2003-10-14 Wenworth Laboratories, Inc. Temperature compensated vertical pin probing device
US6927586B2 (en) * 2000-03-06 2005-08-09 Wentworth Laboratories, Inc. Temperature compensated vertical pin probing device
US6566898B2 (en) 2000-03-06 2003-05-20 Wentworth Laboratories, Inc. Temperature compensated vertical pin probing device
US7952373B2 (en) 2000-05-23 2011-05-31 Verigy (Singapore) Pte. Ltd. Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit wafer probe card assemblies
DE10143173A1 (de) 2000-12-04 2002-06-06 Cascade Microtech Inc Wafersonde
JP3736740B2 (ja) * 2000-12-12 2006-01-18 シャープ株式会社 絶縁膜容量評価装置および絶縁膜容量評価方法
US6756797B2 (en) 2001-01-31 2004-06-29 Wentworth Laboratories Inc. Planarizing interposer for thermal compensation of a probe card
US6729019B2 (en) * 2001-07-11 2004-05-04 Formfactor, Inc. Method of manufacturing a probe card
AU2002327490A1 (en) 2001-08-21 2003-06-30 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US6998865B2 (en) 2001-12-10 2006-02-14 International Business Machines Corporation Semiconductor device test arrangement with reassignable probe pads
US6867607B2 (en) * 2002-01-22 2005-03-15 Sychip, Inc. Membrane test method and apparatus for integrated circuit testing
US6842029B2 (en) 2002-04-11 2005-01-11 Solid State Measurements, Inc. Non-invasive electrical measurement of semiconductor wafers
US6965244B2 (en) 2002-05-08 2005-11-15 Formfactor, Inc. High performance probe system
US6911835B2 (en) * 2002-05-08 2005-06-28 Formfactor, Inc. High performance probe system
US6971045B1 (en) 2002-05-20 2005-11-29 Cyress Semiconductor Corp. Reducing tester channels for high pinout integrated circuits
US7057404B2 (en) 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
US6847203B1 (en) * 2003-07-02 2005-01-25 International Business Machines Corporation Applying parametric test patterns for high pin count ASICs on low pin count testers
JP4465995B2 (ja) * 2003-07-02 2010-05-26 株式会社日立製作所 プローブシート、プローブカード、半導体検査装置および半導体装置の製造方法
US6853205B1 (en) * 2003-07-17 2005-02-08 Chipmos Technologies (Bermuda) Ltd. Probe card assembly
US7224173B2 (en) * 2003-10-01 2007-05-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Electrical bias electrical test apparatus and method
KR20060126700A (ko) 2003-12-24 2006-12-08 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 능동 웨이퍼 프로브
WO2006002334A2 (en) * 2004-06-24 2006-01-05 Celerity Research Inc. Intelligent probe chips/heads
KR20070058522A (ko) 2004-09-13 2007-06-08 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 양측 프루빙 구조
US20060087331A1 (en) * 2004-10-22 2006-04-27 Young Michael E System and method for a multisite, integrated, combination probe card and spider card
KR100688517B1 (ko) * 2005-01-11 2007-03-02 삼성전자주식회사 전압공급유닛 분할을 통한 반도체 소자의 병렬검사 방법
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7541819B2 (en) * 2005-10-28 2009-06-02 Teradyne, Inc. Modularized device interface with grounding insert between two strips
US7504822B2 (en) * 2005-10-28 2009-03-17 Teradyne, Inc. Automatic testing equipment instrument card and probe cabling system and apparatus
JP2007205960A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Electron Ltd プローブカード及びプローブ装置
US7859277B2 (en) * 2006-04-24 2010-12-28 Verigy (Singapore) Pte. Ltd. Apparatus, systems and methods for processing signals between a tester and a plurality of devices under test at high temperatures and with single touchdown of a probe array
US7723999B2 (en) 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7764072B2 (en) 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7403028B2 (en) 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
WO2008127345A1 (en) * 2006-07-11 2008-10-23 Eli Lilly And Company Medication cartridge piston
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
US7888957B2 (en) 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
WO2010059247A2 (en) 2008-11-21 2010-05-27 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus
JP5427536B2 (ja) * 2009-10-01 2014-02-26 東京エレクトロン株式会社 プローブカード
US8954014B2 (en) * 2009-10-26 2015-02-10 Anite Telecoms Oy Over-the air test
KR102016427B1 (ko) * 2013-09-10 2019-09-02 삼성전자주식회사 포고 핀 및 이를 포함하는 프로브 카드
CN107942223A (zh) * 2016-10-12 2018-04-20 肖敏 用于芯片测试和编程的装置及其制造方法
TWI779586B (zh) * 2021-04-30 2022-10-01 瑞昱半導體股份有限公司 測試電路系統的方法及相關電路系統

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3516077A (en) * 1968-05-28 1970-06-02 Bell Telephone Labor Inc Magnetic propagation device wherein pole patterns move along the periphery of magnetic disks
US3577131A (en) * 1969-01-30 1971-05-04 Bell Telephone Labor Inc Domain propagation arrangement
CH514251A (de) * 1970-08-21 1971-10-15 Siemens Ag Albis Schaltungsanordnung zum wahlweisen Anschalten wenigstens zweier Eingänge an eine wenigstens einen Vorbereitungs- und einen Auslöseeingang aufweisende Zählstufe
US4117543A (en) * 1972-08-24 1978-09-26 Monsanto Company Magnetic bubble logic family
US4021790A (en) * 1974-01-11 1977-05-03 Monsanto Company Mutually exclusive magnetic bubble propagation circuits
US3934236A (en) * 1974-01-11 1976-01-20 Monsanto Company Pulsed field accessed bubble propagation circuits
US4646299A (en) * 1983-08-01 1987-02-24 Fairchild Semiconductor Corporation Method and apparatus for applying and monitoring programmed test signals during automated testing of electronic circuits
US4757256A (en) * 1985-05-10 1988-07-12 Micro-Probe, Inc. High density probe card
US4692839A (en) * 1985-06-24 1987-09-08 Digital Equipment Corporation Multiple chip interconnection system and package
US4778950A (en) * 1985-07-22 1988-10-18 Digital Equipment Corporation Anisotropic elastomeric interconnecting system
US4954873A (en) * 1985-07-22 1990-09-04 Digital Equipment Corporation Electrical connector for surface mounting
US4754546A (en) * 1985-07-22 1988-07-05 Digital Equipment Corporation Electrical connector for surface mounting and method of making thereof
US4729166A (en) * 1985-07-22 1988-03-08 Digital Equipment Corporation Method of fabricating electrical connector for surface mounting
US4758785A (en) * 1986-09-03 1988-07-19 Tektronix, Inc. Pressure control apparatus for use in an integrated circuit testing station
US4918383A (en) * 1987-01-20 1990-04-17 Huff Richard E Membrane probe with automatic contact scrub action
US4783719A (en) * 1987-01-20 1988-11-08 Hughes Aircraft Company Test connector for electrical devices
EP0298219A3 (en) * 1987-06-08 1990-08-01 Tektronix Inc. Method and apparatus for testing unpackaged integrated circuits in a hybrid circuit environment
US4912399A (en) * 1987-06-09 1990-03-27 Tektronix, Inc. Multiple lead probe for integrated circuits in wafer form
US4804132A (en) * 1987-08-28 1989-02-14 Difrancesco Louis Method for cold bonding
US4980637A (en) * 1988-03-01 1990-12-25 Hewlett-Packard Company Force delivery system for improved precision membrane probe
US5103557A (en) * 1988-05-16 1992-04-14 Leedy Glenn J Making and testing an integrated circuit using high density probe points
US5020219A (en) * 1988-05-16 1991-06-04 Leedy Glenn J Method of making a flexible tester surface for testing integrated circuits
US4922192A (en) * 1988-09-06 1990-05-01 Unisys Corporation Elastic membrane probe
EP0361779A1 (en) * 1988-09-26 1990-04-04 Hewlett-Packard Company Micro-strip architecture for membrane test probe
US4989209A (en) * 1989-03-24 1991-01-29 Motorola, Inc. Method and apparatus for testing high pin count integrated circuits
US4975638A (en) * 1989-12-18 1990-12-04 Wentworth Laboratories Test probe assembly for testing integrated circuit devices
US5083697A (en) * 1990-02-14 1992-01-28 Difrancesco Louis Particle-enhanced joining of metal surfaces
US5072176A (en) * 1990-07-10 1991-12-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Flexible membrane circuit tester
US5132613A (en) * 1990-11-30 1992-07-21 International Business Machines Corporation Low inductance side mount decoupling test structure
US5323107A (en) * 1991-04-15 1994-06-21 Hitachi America, Ltd. Active probe card
US5264787A (en) * 1991-08-30 1993-11-23 Hughes Aircraft Company Rigid-flex circuits with raised features as IC test probes
US5180977A (en) * 1991-12-02 1993-01-19 Hoya Corporation Usa Membrane probe contact bump compliancy system
JP3135378B2 (ja) * 1992-08-10 2001-02-13 ローム株式会社 半導体試験装置
US5355079A (en) * 1993-01-07 1994-10-11 Wentworth Laboratories, Inc. Probe assembly for testing integrated circuit devices
US5422574A (en) * 1993-01-14 1995-06-06 Probe Technology Corporation Large scale protrusion membrane for semiconductor devices under test with very high pin counts
US5378982A (en) * 1993-02-25 1995-01-03 Hughes Aircraft Company Test probe for panel having an overlying protective member adjacent panel contacts
JPH0763788A (ja) * 1993-08-21 1995-03-10 Hewlett Packard Co <Hp> プローブおよび電気部品/回路検査装置ならびに電気部品/回路検査方法
US5456404A (en) * 1993-10-28 1995-10-10 Digital Equipment Corporation Method of testing semiconductor chips with reusable test package
US5468157A (en) * 1993-10-29 1995-11-21 Texas Instruments Incorporated Non-destructive interconnect system for semiconductor devices
US5469072A (en) * 1993-11-01 1995-11-21 Motorola, Inc. Integrated circuit test system
US5416429A (en) * 1994-05-23 1995-05-16 Wentworth Laboratories, Inc. Probe assembly for testing integrated circuits

Also Published As

Publication number Publication date
EP0788729A1 (en) 1997-08-13
TW278138B (ja) 1996-06-11
KR100384265B1 (ko) 2003-08-14
JPH10508380A (ja) 1998-08-18
EP0788729A4 (en) 1998-06-03
KR970707708A (ko) 1997-12-01
WO1996013967A1 (en) 1996-05-09
US5973504A (en) 1999-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3685498B2 (ja) プログラム可能高密度電子工学試験装置
KR100295595B1 (ko) 다중칩모듈및그와함께사용하는설비
KR101258385B1 (ko) 지능형 프로브 카드 아키텍처
US8847615B2 (en) Method, apparatus and system of parallel IC test
US20070261009A1 (en) Programmable devices to route signals on probe cards
JP2014062925A (ja) 信号測定装置
WO2010075815A1 (zh) 集成电路并行测试方法、装置和系统
KR20020028159A (ko) 전자 회로용 대량 병렬 인터페이스
KR101374965B1 (ko) 직렬 제어식 지능형 스위치들을 이용하여 디바이스를 테스트하는 방법 및 장치
KR100787829B1 (ko) 프로브 카드 테스트 장치 및 테스트 방법
US5781021A (en) Universal fixtureless test equipment
JP2006510026A (ja) 1つまたは複数の導体アセンブリを試験するためのアダプタ
JP2004069650A (ja) 変換装置
US20150168482A1 (en) Configurable test equipment
JP3135135B2 (ja) 半導体装置,その製造方法,その試験方法及びその試験装置
US6984997B2 (en) Method and system for testing multi-chip integrated circuit modules
Thacker et al. Compliant probe substrates for testing high pin-count chip scale packages
KR20020087931A (ko) 조절가능한 경계 스캔 경로를 가지는 인쇄회로 어셈블리
JP2007012709A (ja) 半導体検査装置および半導体装置の検査方法
JP2001291749A (ja) プローブカード及びそれを用いたチップ領域ソート方法
JPS6197941A (ja) 半導体ウエハにおけるテスト回路部
JPH0720150A (ja) プローブカード及びこれを用いた試験装置
JPH0287566A (ja) 大規模集積回路装置
KR19980029366A (ko) 복수 칩 테스트용 웨이퍼 프로브 카드
JPH03284861A (ja) プローブカード

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041102

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050510

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050531

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090610

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100610

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110610

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110610

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120610

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130610

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term