JP3674725B2 - 音響記録を型どるためのマスター及びその製法 - Google Patents

音響記録を型どるためのマスター及びその製法 Download PDF

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、現像されたフォトレジストから形成された突出する(erhabener)輪郭（Konturen）の形で音響記録(Schallaufzeichnung)を有するエンボシング面(Praegeflaeche；Surface Coat)、及びエンボシング面を被覆する金属からなる第１の層、及びフォトレジスト面をガラスプレート上に保持する接着媒介物層、並びに第１の層を外へ被覆すべき金属からなる保護層を有する、ケイ酸塩ガラスから形成されたプレートの使用下で、円形の支持体盤上に螺旋状に配置された凹(Vertiefung)の形で音響記録を型どる(Abformen)ためのマスター(Matrize)並びにマスターそれ自体の製法に関する。
【０００２】
被覆及び現像されたフォトレジスト層上もしくは照射されかつ現像されたポジティブラック面(Positivlackflaeche)上にスパッタされたニッケル層又は銀層は、電気メッキ的方法(galvanischen Verfahren)によって析出した厚いＮｉ層によって強化されることが知られている。
【０００３】
マスターの公知製法における欠点は、フォトレジスト層からのマスターの分離の際に少なくとも部分的にマスターに付着したままである、フォトラック層の特性により生じる。このことは、引き続く支持体盤（ＣＤ）の製造の際に、著しい問題を生じる。それというのも、フォトレジスト層もしくは接着媒介物の残分が、後に鋳造すべき支持体盤に付着しうるからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、接着媒介物残分又はフォトレジスト層の残分がマスターに付着したままにならずに、マスターをフォトレジスト層から簡単に剥がすことができることを保証するように第１の層を形成することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明により、この課題は、フォトレジスト上に施与された第１の層を、ＮｉＶ合金から形成されているスパッタターゲットから析出することにより解決され、その際、バナジウムの割合は３％〜３０％である。
【０００６】
ＮｉとＶとからなるターゲット合金の代わりに、Ｎｉと反磁性金属との合金からなるものも使用することができ、その際、合金は、酸化物形成のための高い親和力を有するように選択する。
【０００７】
【実施例】
本発明は、種々異なる実施可能性を許容する；これに関して、図を元にして詳述する。
【０００８】
（例えば、ポリカーボネートからなる）コンパクトディスクを射出成形するためのマスター（スタンパ)の製造は、その片面に接着媒介物（Haftvermittler;adhesion promotor）４及び感光層（photo resist layer）５が施与されるガラスプレート（coated plate）３を用いて行われ、これを、引き続き、レーザー光線を用いて照射し(exposure by laser beam)、かつその後、現像する（developed glass master）。フォトレジスト層５上に、真空中で、ＮｉＶ（Ｖ ３％〜３０％）からなる比較的薄い層６をスパッタする（ＮｉＶ合金からなるターゲットから）。引き続き、このＮｉＶ層６を、電気メッキ的方法で析出する（例えば３００μの）Ｎｉ層７により実質的に強化する。最後に、マスター８をフォトレジスト層５から引き剥がし（分離し）かつ射出成形機の金型(Werkzeug)へ置くか、又はマスター８（ニッケルマスター）から電気メッキ的方法で自体公知の方法で複製板（Duplikate）（娘マスター;Tochter-Matrizen）を製造し、これを、マスターとして金型へ置くことができる。
【０００９】
第１の金属層のために使用した合金（ＮｉＶ）の本質的な利点は、フォトレジスト層上でのその比較的僅かな付着性にあり、かつこのＮｉＶ合金が相当して高い耐用時間を有する厚壁状のターゲットの使用を可能にすることにある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明によるマスターを製造するための構造を示す。
【符号の説明】
３ ガラスプレート、 ４ 接着媒介物層、 ５ フォトレジスト層、 ６ 第１の層、 ７ 保護層、 ８ マスター 、 ９ 凹部、 ９′ 凹部、 ９′′ 凹部、 １０ エンボシング面

Claims (3)

  1. フォトレジスト（５）から形成された突出する輪郭の形で音響記録を有するエンボシング面（１０）と、エンボシング面（１０）を被覆する金属からなる第１の層（６）と、この第１の層（６）を被覆する保護層（７）とを有する、円形の支持体盤上に螺旋状に配置された凹所（９，９′，…）の形で音響記録を型どるためのマスター（８）を、ケイ酸塩ガラスから形成されたプレート（３）の使用下で製造する際に、フォトレジスト（５）上に施された第１の金属層（６）をスパッタターゲットから析出させ、保護層を電気メッキ法により析出されたニッケルから形成させ、このマスターをフォトレジスト層（５）から引き剥がすことにより前記のマスターを製造する方法において、フォトレジスト層（５）をガラスプレート（３）上に保持する接着媒介物層（４）が施され、かつ第１の層（６）を設けるためのスパッタターゲットが、バナジウム割合３％〜３０％を有するＮｉＶ合金から形成されていることを特徴とする、マスター（８）の製造方法。
  2. フォトレジスト（５）から形成された突出する輪郭の形で音響記録を有するエンボシング面（１０）と、エンボシング面（１０）を被覆する金属からなる第１の層（６）と、この第１の層（６）を被覆する保護層（７）とを有する、円形の支持体盤上に螺旋状に配置された凹所（９，９′，…）の形で音響記録を型どるためのマスター（８）を、ケイ酸塩ガラスから形成されたプレート（３）の使用下で製造する際に、フォトレジスト（５）上に施された第１の金属層（６）をスパッタターゲットから析出させることにより前記のマスターを製造する方法において、フォトレジスト層（５）をガラスプレート（３）上に保持する接着媒介物層（４）が施され、かつ第１の層（６）を設けるためのスパッタターゲットが、酸化物形成のために高い親和力を有する、ニッケルと反磁性金属とからなる合金から形成され、保護層（７）は電気メッキ法により析出されたＮｉから形成され、かつマスター（８）をフォトレジスト層（５）から引き剥がすことを特徴とする、マスター（８）の製造方法。
  3. ３〜３０％のバナジウムの割合を有するＮｉＶ合金からなる音響記録を有する層（６）及び第１の層（６）を被覆するＮｉからなる保護層（７）を有することを特徴とする、円形の支持体盤上に螺旋状に配置された凹所（９，９′，…）の形で音響記録を型どるためのマスター。
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