JP2518828B2 - マトリツクス - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
- B29C45/2632—Stampers; Mountings thereof
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/565—Consisting of shell-like structures supported by backing material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、光読取り情報トラックを有する光読取り情
報キャリアを製造するための射出成形法又は圧縮成形法
に使用するのに適切なマトリックスに関するものであ
る。
報キャリアを製造するための射出成形法又は圧縮成形法
に使用するのに適切なマトリックスに関するものであ
る。
光読取りインフォメーションキャリアは、例えばポリ
メチルメタクリレート(PMMA)又はポリカーボネートか
ら製造される合成樹脂ディスクである。該ディスクの表
面に設けられた情報トラックは高いレベルと低いレベル
で交互に位置する情報領域の凹凸形状を有する。該領域
の寸法は小さく、例えば縦方向の寸法は0.3〜3μmで
変化する。該領域間の高低差は0.1〜0.2μmである。情
報トラックの片側で、ディスクは反射層、例えばほとん
どがAg又はAlの層により被覆される。該トラックはレー
ザー光ビームによる反射において読取れる。読取りは、
高いレベルで位置する領域又は低いレベルで位置する領
域が照射されるかどうかによる反射光の位相中の差異に
基づくものである。
メチルメタクリレート(PMMA)又はポリカーボネートか
ら製造される合成樹脂ディスクである。該ディスクの表
面に設けられた情報トラックは高いレベルと低いレベル
で交互に位置する情報領域の凹凸形状を有する。該領域
の寸法は小さく、例えば縦方向の寸法は0.3〜3μmで
変化する。該領域間の高低差は0.1〜0.2μmである。情
報トラックの片側で、ディスクは反射層、例えばほとん
どがAg又はAlの層により被覆される。該トラックはレー
ザー光ビームによる反射において読取れる。読取りは、
高いレベルで位置する領域又は低いレベルで位置する領
域が照射されるかどうかによる反射光の位相中の差異に
基づくものである。
該ディスクは、加圧下モールド内に液状合成樹脂組成
物を射出する圧縮成形法又は射出成形法を用いることに
より製造される。射出成形法においては、液状合成樹脂
を既に密封したモールド内に注入する。圧縮成形法にお
いては、モールドを射出する間又は射出した後すぐに密
封する。1種又は2種のマトリックスがモールド内に提
供される。マトリックスは、最終製品の所望の情報トラ
ックのネガである情報トラックを有する。
物を射出する圧縮成形法又は射出成形法を用いることに
より製造される。射出成形法においては、液状合成樹脂
を既に密封したモールド内に注入する。圧縮成形法にお
いては、モールドを射出する間又は射出した後すぐに密
封する。1種又は2種のマトリックスがモールド内に提
供される。マトリックスは、最終製品の所望の情報トラ
ックのネガである情報トラックを有する。
光読取り情報キャリアの製造に使用する既知のマトリ
ックスはニッケルマトリックスである。その製造はマス
ターから出発する。マスターは、ホトレジスト層を片側
に備えるガラス板であり、光に照射し次いで現像するこ
とにより該層中に情報トラックが設けられる。マスター
のホトレジスト層の側に、無電解製造金属層、例えばAg
層を設ける。該無電解製造金属層をマスターから取り外
す。ファザーディスクである、この該無電解製造金属層
上にNi層が電着により成長する。該Ni層、すなわちマザ
ーディスクからNi複製物、いわゆるダイ(マトリック
ス)が製造され、上記射出成形法又は圧縮成形法で使用
される。上記方法の欠点はファザーディスクの製造にお
いてマスターが破壊されることである。従って1個のNi
ファザーディスクのみをマスターから製造することがで
きる。このことはマスターの経費を高くするという点で
重大な欠点である。更に、Niマトリックスの製造に関す
る上記方法は時間がかかり、一連の処理工程から成り、
各工程は誤差の発生を生じる。その上、電着により製造
される各Ni層は、磨かなければならない。その結果とし
て低い品質及び/又は比較的高い不良品割合を得る。
ックスはニッケルマトリックスである。その製造はマス
ターから出発する。マスターは、ホトレジスト層を片側
に備えるガラス板であり、光に照射し次いで現像するこ
とにより該層中に情報トラックが設けられる。マスター
のホトレジスト層の側に、無電解製造金属層、例えばAg
層を設ける。該無電解製造金属層をマスターから取り外
す。ファザーディスクである、この該無電解製造金属層
上にNi層が電着により成長する。該Ni層、すなわちマザ
ーディスクからNi複製物、いわゆるダイ(マトリック
ス)が製造され、上記射出成形法又は圧縮成形法で使用
される。上記方法の欠点はファザーディスクの製造にお
いてマスターが破壊されることである。従って1個のNi
ファザーディスクのみをマスターから製造することがで
きる。このことはマスターの経費を高くするという点で
重大な欠点である。更に、Niマトリックスの製造に関す
る上記方法は時間がかかり、一連の処理工程から成り、
各工程は誤差の発生を生じる。その上、電着により製造
される各Ni層は、磨かなければならない。その結果とし
て低い品質及び/又は比較的高い不良品割合を得る。
本発明の目的は簡易な方法で製造することができるマ
トリックスを提供することにある。更に特に本発明の目
的は、中間工程を用いずマスターから直接誘導されるマ
トリックスを提供することにある。かかる場合において
は、マスターディスクは破壊されない。1個のマスター
ディスクから数個、例えば50個の本発明のマトリックス
を製造することができる。
トリックスを提供することにある。更に特に本発明の目
的は、中間工程を用いずマスターから直接誘導されるマ
トリックスを提供することにある。かかる場合において
は、マスターディスクは破壊されない。1個のマスター
ディスクから数個、例えば50個の本発明のマトリックス
を製造することができる。
本発明においてかかる目的は、最初に記した型のマト
リックスにより達さられ、該マトリックスは金属支持板
を備え、該支持板の片側上に情報トラックのネガを有す
る放射−硬化合成樹脂組成物の層を有することを特徴と
する。
リックスにより達さられ、該マトリックスは金属支持板
を備え、該支持板の片側上に情報トラックのネガを有す
る放射−硬化合成樹脂組成物の層を有することを特徴と
する。
該マトリックスはホトレジスト層の片側に金属の薄層
を備えるマスターにより製造される。該金属層はホトレ
ジスト層中に存在する情報トラックをなぞる。硬化して
ない液状合成樹脂組成物の層を有する支持板をマスター
の金属層に対して圧縮する。該合成樹脂組成物の層を放
射により硬化し、支持板に結合した硬化合成樹脂層を備
えた支持板でマスターの情報トラックが複製されている
ものをマスターから取り外す。該マスターは立体形状を
とどめたままである。
を備えるマスターにより製造される。該金属層はホトレ
ジスト層中に存在する情報トラックをなぞる。硬化して
ない液状合成樹脂組成物の層を有する支持板をマスター
の金属層に対して圧縮する。該合成樹脂組成物の層を放
射により硬化し、支持板に結合した硬化合成樹脂層を備
えた支持板でマスターの情報トラックが複製されている
ものをマスターから取り外す。該マスターは立体形状を
とどめたままである。
射出成形法又は圧縮成形法において、モールド内の熱
制御は重要な役割を果たす。このことは、極めて細かい
構造、例えば光読取り情報トラックの非常に精巧な製造
を有する製品を製造すべき場合特に当てはまる。マトリ
ックスは熱制御に強い影響を有する。特に重要なことは
マトリックス物質の性質と組成物層の厚みである。優れ
た結果が、特に本発明のマトリックス及びステンレス
鋼、ニッケル又は硬質アルミニウム合金から製造され、
少なくともその厚みが200μmである支持板により達せ
られる。硬質アルミニウム合金の例としてはAlとMgの合
金がある。
制御は重要な役割を果たす。このことは、極めて細かい
構造、例えば光読取り情報トラックの非常に精巧な製造
を有する製品を製造すべき場合特に当てはまる。マトリ
ックスは熱制御に強い影響を有する。特に重要なことは
マトリックス物質の性質と組成物層の厚みである。優れ
た結果が、特に本発明のマトリックス及びステンレス
鋼、ニッケル又は硬質アルミニウム合金から製造され、
少なくともその厚みが200μmである支持板により達せ
られる。硬質アルミニウム合金の例としてはAlとMgの合
金がある。
他の好適例においては、ステンレス鋼から製造され、
硬化した合成樹脂組成物の片側にAl又はNiの層を備える
支持板を使用する。Al又はNiの層は例えば数ミクロンの
厚さを有する。かかる層を用いることにより、特にステ
ンレス鋼支持板が極めて滑らかな表面を有する場合、支
持板と合成樹脂組成物間の結合を改善する。所望の場
合、例えばシランの結合層を支持板及び合成樹脂組成物
中に提供することができる。適切なシランはガンマ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシランである。かか
るシラン化合物は合成樹脂組成物といっしょに硬化す
る。
硬化した合成樹脂組成物の片側にAl又はNiの層を備える
支持板を使用する。Al又はNiの層は例えば数ミクロンの
厚さを有する。かかる層を用いることにより、特にステ
ンレス鋼支持板が極めて滑らかな表面を有する場合、支
持板と合成樹脂組成物間の結合を改善する。所望の場
合、例えばシランの結合層を支持板及び合成樹脂組成物
中に提供することができる。適切なシランはガンマ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシランである。かか
るシラン化合物は合成樹脂組成物といっしょに硬化す
る。
マトリックスを射出成形法又は圧縮成形法に用いる場
合、硬化した合成樹脂組成物の層を加熱射出した合成樹
脂と接触させる。例えばポリメチルメタクリレートの場
合、射出成形温度は275℃である。ポリカーボネートの
場合、350℃である。
合、硬化した合成樹脂組成物の層を加熱射出した合成樹
脂と接触させる。例えばポリメチルメタクリレートの場
合、射出成形温度は275℃である。ポリカーボネートの
場合、350℃である。
従って、高圧に関して非変形性を生じる硬度及び耐熱
性について合成樹脂組成物に高い必要条件が課せられ
る。更に硬化した合成層はモールド内の冷却速度に影響
を及ぼす。
性について合成樹脂組成物に高い必要条件が課せられ
る。更に硬化した合成層はモールド内の冷却速度に影響
を及ぼす。
マトリックスの金属支持板の片側に30〜80重量%のウ
レタンアクリレートを含有するUV光−硬化合成樹脂組成
物の層を備えるマトリックスにより好ましい結果が達成
される。硬化した合成樹脂組成物の厚みは好ましくは10
〜30μmである。
レタンアクリレートを含有するUV光−硬化合成樹脂組成
物の層を備えるマトリックスにより好ましい結果が達成
される。硬化した合成樹脂組成物の厚みは好ましくは10
〜30μmである。
本発明のマトリックスの好適な形状において、金属支
持板が片側に25〜65重量%の芳香族ウレタンアクリレー
ト、5〜15重量%の脂肪族ウレタンアクリレート、2〜
8重量%の触媒、15〜65重量%のモノマーを含むUV光−
硬化合成樹脂組成物を備える。
持板が片側に25〜65重量%の芳香族ウレタンアクリレー
ト、5〜15重量%の脂肪族ウレタンアクリレート、2〜
8重量%の触媒、15〜65重量%のモノマーを含むUV光−
硬化合成樹脂組成物を備える。
適切な芳香族ウレタンアクリレートは商品名エベクリ
ル220(Ebecryl 220)で知られている。適切な脂肪族ウ
レタンアクリレートは商品名エベクリル230(Ebecryl 2
30)で知られている。触媒は、例えば、ベンゾインイソ
ブチルエーテル又はベンジルジメチルケタールのような
ケタールの如き芳香族カルボニル化合物である。UV光−
硬化性モノマー化合物は1分子当たり1個、2個又は3
個のビニル基を各々含む一官能価、二官能価、三官能価
化合物が好ましい。一官能価化合物の例としてはN−ビ
ニルピロリドン又はヘキシルアクリレートのようなモノ
アクリレートである。二官能価化合物の例としては例え
ばヘキサンジオールジアクリレートのようなジアクリレ
ートである。適切な三官能価化合物は例えばトリメチロ
ールプロパントリアクリレートである。
ル220(Ebecryl 220)で知られている。適切な脂肪族ウ
レタンアクリレートは商品名エベクリル230(Ebecryl 2
30)で知られている。触媒は、例えば、ベンゾインイソ
ブチルエーテル又はベンジルジメチルケタールのような
ケタールの如き芳香族カルボニル化合物である。UV光−
硬化性モノマー化合物は1分子当たり1個、2個又は3
個のビニル基を各々含む一官能価、二官能価、三官能価
化合物が好ましい。一官能価化合物の例としてはN−ビ
ニルピロリドン又はヘキシルアクリレートのようなモノ
アクリレートである。二官能価化合物の例としては例え
ばヘキサンジオールジアクリレートのようなジアクリレ
ートである。適切な三官能価化合物は例えばトリメチロ
ールプロパントリアクリレートである。
数千の情報キャリアをマトリックスにより製造するこ
とができる。本発明のマトリックスを使用した場合、従
来のNiマトリックスと比較して、情報キャリアのより品
質の高い情報トラックを得る。
とができる。本発明のマトリックスを使用した場合、従
来のNiマトリックスと比較して、情報キャリアのより品
質の高い情報トラックを得る。
他の好適例において、硬化した合成樹脂組成物の層は
その自由表面に厚みが10〜60nmの金属層を有する。
その自由表面に厚みが10〜60nmの金属層を有する。
適切な金属層はCr又はAl層で、該層を硬化した合成樹
脂組成物上に蒸着法又はスパッター法により提供する。
脂組成物上に蒸着法又はスパッター法により提供する。
次に本発明を図面を参照して次の実施例により説明す
る。
る。
実施例 第1図中の1はマスターディスクを示す。該マスター
は直径が約30cmで厚さが5mmのガラス板2より成り、光
に露光して現像させ、情報トラック4を有するポジのホ
トレジストの層3を片側に備える。トラック4は高いレ
ベルと低いレベルで交互に位置する情報領域5及び情報
領域6の凹凸形状を有する。該領域間の高低差は0.1〜
0.2μmである。縦方向の大きさは準備した情報に従っ
て約0.3〜3μmで変化する。ホトレジストの層3は、
厚みが例えば10〜40nm、例えば25nmの極めて薄い金属層
(図示せず)で被覆されている。
は直径が約30cmで厚さが5mmのガラス板2より成り、光
に露光して現像させ、情報トラック4を有するポジのホ
トレジストの層3を片側に備える。トラック4は高いレ
ベルと低いレベルで交互に位置する情報領域5及び情報
領域6の凹凸形状を有する。該領域間の高低差は0.1〜
0.2μmである。縦方向の大きさは準備した情報に従っ
て約0.3〜3μmで変化する。ホトレジストの層3は、
厚みが例えば10〜40nm、例えば25nmの極めて薄い金属層
(図示せず)で被覆されている。
該マスター1に面する側にUV光−硬化性合成樹脂組成
物の液層8を有する金属支持板7をマスター1の金属層
に対して圧する。金属支持板は例えばAl/Mg合金から製
造され、厚さは300μmである。支持板を代わりにNi又
はステンレス鋼から製造することができる。ステンレス
鋼支持板を使用する場合、合成樹脂組成物に面する表面
をわずかに粗にするか又は数ミクロンの厚さのAl若しく
はNiの薄層を備えることが好ましい。シランの結合層、
特にメタクリロキシプロピルトリメトキシシランの単一
層を提供することが好ましく、これは放射の作用の下支
持板及び合成樹脂組成物間で共重合化される。合成樹脂
組成物の層8の厚みは10〜30μm、特に20μmである。
物の液層8を有する金属支持板7をマスター1の金属層
に対して圧する。金属支持板は例えばAl/Mg合金から製
造され、厚さは300μmである。支持板を代わりにNi又
はステンレス鋼から製造することができる。ステンレス
鋼支持板を使用する場合、合成樹脂組成物に面する表面
をわずかに粗にするか又は数ミクロンの厚さのAl若しく
はNiの薄層を備えることが好ましい。シランの結合層、
特にメタクリロキシプロピルトリメトキシシランの単一
層を提供することが好ましく、これは放射の作用の下支
持板及び合成樹脂組成物間で共重合化される。合成樹脂
組成物の層8の厚みは10〜30μm、特に20μmである。
数種の合成樹脂組成物及びその特性を下記の表に示
す。
す。
半減露光時間は最終収縮の50%に達した際の時間であ
る。
る。
上記の如き合成樹脂組成物はマスターを介してUV光9
に露光される。露光時間は15秒若しくはそれ以上であ
る。露光の結果として合成樹脂組成物が硬化される(架
橋)。メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの光
結合層も合成樹脂組成物と架橋する。硬化した合成樹脂
組成物が結合し、マスターの情報トラックが複製された
金属支持板をマスターから取りはずした。マスターは損
傷せず、上記と同様のマトリックスの製造に再び用いる
ことができる。実際に約50個のマトリックスが1個のマ
スターから製造できることを見出した。得られるマトリ
ックス(第2図)は、射出成形法又は圧縮成形法におけ
るダイとしての使用に適切である。かかる目的に関し、
ダイを従来のモールド内に設置し、次いで射出成形法又
は圧縮成形法における従来技術に従いモールド内に液状
合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレート若しくはポ
リカーボネートを高圧で圧する。かかる方法において少
なくとも2500個の合成樹脂レプリカを1個のダイから製
造することができる。合成樹脂レプリカの情報トラック
の質は優れ、ほとんどがNiで製造されたマトリックスを
使用する場合よりもかなり良好である。本発明のマトリ
ックスの情報トラックは合成樹脂レプリカに良好に複製
される。合成樹脂レプリカ中の情報トラックのシグナル
対ノイズ比は少しのdBにより改善される。マトリックス
を射出成形法又は圧縮成形法において使用する前に、該
マトリックスは、硬化した合成樹脂組成物の片側に厚さ
10〜60nmの金属層10、例えばCr又はAlを備えることもで
きる。かかる層を、蒸着法又はスパッタ法により硬化し
た合成樹脂組成物上に備えることも可能である。
に露光される。露光時間は15秒若しくはそれ以上であ
る。露光の結果として合成樹脂組成物が硬化される(架
橋)。メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの光
結合層も合成樹脂組成物と架橋する。硬化した合成樹脂
組成物が結合し、マスターの情報トラックが複製された
金属支持板をマスターから取りはずした。マスターは損
傷せず、上記と同様のマトリックスの製造に再び用いる
ことができる。実際に約50個のマトリックスが1個のマ
スターから製造できることを見出した。得られるマトリ
ックス(第2図)は、射出成形法又は圧縮成形法におけ
るダイとしての使用に適切である。かかる目的に関し、
ダイを従来のモールド内に設置し、次いで射出成形法又
は圧縮成形法における従来技術に従いモールド内に液状
合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレート若しくはポ
リカーボネートを高圧で圧する。かかる方法において少
なくとも2500個の合成樹脂レプリカを1個のダイから製
造することができる。合成樹脂レプリカの情報トラック
の質は優れ、ほとんどがNiで製造されたマトリックスを
使用する場合よりもかなり良好である。本発明のマトリ
ックスの情報トラックは合成樹脂レプリカに良好に複製
される。合成樹脂レプリカ中の情報トラックのシグナル
対ノイズ比は少しのdBにより改善される。マトリックス
を射出成形法又は圧縮成形法において使用する前に、該
マトリックスは、硬化した合成樹脂組成物の片側に厚さ
10〜60nmの金属層10、例えばCr又はAlを備えることもで
きる。かかる層を、蒸着法又はスパッタ法により硬化し
た合成樹脂組成物上に備えることも可能である。
第1図は、マトリックス製造中のマスター及びマトリッ
クスの断面図、 第2図は本発明のマトリックスの断面図を示す。 1……マスターディスク、2……ガラス板 3……ポジのホトレジスト層 4……情報トラック、5,6……情報領域 7……金属支持板 8……硬化性合成樹脂組成物層 9……UV光、10……金属薄層
クスの断面図、 第2図は本発明のマトリックスの断面図を示す。 1……マスターディスク、2……ガラス板 3……ポジのホトレジスト層 4……情報トラック、5,6……情報領域 7……金属支持板 8……硬化性合成樹脂組成物層 9……UV光、10……金属薄層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−114031(JP,A) 特開 昭57−98325(JP,A) 特開 昭57−49530(JP,A) 特開 昭59−9012(JP,A)
Claims (6)
- 【請求項1】光読取り情報トラックを有する光読取り情
報キャリアを製造するための射出成形法又は圧縮成形法
に用いるに適するマトリックスにおいて、該マトリック
スは金属支持板を備え、該支持板の片側に情報トラック
のネガを有する放射−硬化合成樹脂組成物層を有するこ
とを特徴とするマトリックス。 - 【請求項2】該金属支持板はステンレス鋼、ニッケル又
は硬質アルミニウム合金から製造され、少なくとも200
μmの厚みを有する特許請求の範囲第1項記載のマトリ
ックス。 - 【請求項3】該金属支持板はステンレス鋼から製造さ
れ、該合成樹脂組成物の片側にAl又はNiの層を有する特
許請求の範囲第2項記載のマトリックス。 - 【請求項4】該金属支持板が片側に、30〜80重量%のウ
レタンアクリレートを含むUV光−硬化合成樹脂組成物の
層を備える特許請求の範囲第1項記載のマトリックス。 - 【請求項5】該金属支持板が片側に、25〜65重量%の芳
香族ウレタンアクリレート、5〜15重量%の脂肪族ウレ
タンアクリレート、2〜8重量%の触媒及び15〜65重量
%のモノマーを含むUV光−硬化合成樹脂組成物の層を含
む特許請求の範囲第4項記載のマトリックス。 - 【請求項6】硬化した合成樹脂組成物の層がその自由表
面に厚さ10〜60nmの金属層を有する特許請求の範囲第1
項記載のマトリックス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8503234 | 1985-11-25 | ||
NL8503234A NL8503234A (nl) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | Matrijs. |
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---|---|
JPS62144919A JPS62144919A (ja) | 1987-06-29 |
JP2518828B2 true JP2518828B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=19846910
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP2518828B2 (ja) |
DE (1) | DE3677337D1 (ja) |
NL (1) | NL8503234A (ja) |
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1985
- 1985-11-25 NL NL8503234A patent/NL8503234A/nl not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-11-24 DE DE8686202079T patent/DE3677337D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-24 EP EP86202079A patent/EP0224312B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-25 JP JP61278890A patent/JP2518828B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-12 US US07/597,961 patent/US5149607A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
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NL8503234A (nl) | 1987-06-16 |
EP0224312B1 (en) | 1991-01-30 |
EP0224312A1 (en) | 1987-06-03 |
US5149607A (en) | 1992-09-22 |
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DE3677337D1 (de) | 1991-03-07 |
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