JPS599012A - 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 - Google Patents
平板状情報記録担体複製金型の製造方法Info
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- JPS599012A JPS599012A JP11885382A JP11885382A JPS599012A JP S599012 A JPS599012 A JP S599012A JP 11885382 A JP11885382 A JP 11885382A JP 11885382 A JP11885382 A JP 11885382A JP S599012 A JPS599012 A JP S599012A
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- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は輻射線の作用iこより硬化可能な液状成型樹脂
を用いて高品質、高歩留りのビデオ、メーテイオテイヌ
ク尋の複製を行なう為の平板状情報記録担体複製金型の
製造方法に関するものである。
を用いて高品質、高歩留りのビデオ、メーテイオテイヌ
ク尋の複製を行なう為の平板状情報記録担体複製金型の
製造方法に関するものである。
ビデオディスク。PCMデジタ八・へ−ディメディスク
、オーテイオディスク等の複製には一般的には電鋳工程
により拘られるN団〕発型、即ちスタンパ−が用いられ
る。この金型な用いて複製ディス勿を得る従来の方法と
しては、コンブ”レッション法、インジェクション法9
両者の折衷的なインジエクシ五ンコンプレツション法等
がある。これらの方法は熱可塑性の樹脂をガラス転移点
以上に加熱したものをスタンバ−により成型するように
なっている。従って、スタンバ−には高温畠肚の熱及び
圧力サイクルが加わる。そのため樹脂中の異物やスタン
バ−に付着する塵埃、異物等C(よりスタンバ−寿命は
著しく短くなる。又、熱及びaカサイクルによる金属自
体の劣化も生じる。従って。
、オーテイオディスク等の複製には一般的には電鋳工程
により拘られるN団〕発型、即ちスタンパ−が用いられ
る。この金型な用いて複製ディス勿を得る従来の方法と
しては、コンブ”レッション法、インジェクション法9
両者の折衷的なインジエクシ五ンコンプレツション法等
がある。これらの方法は熱可塑性の樹脂をガラス転移点
以上に加熱したものをスタンバ−により成型するように
なっている。従って、スタンバ−には高温畠肚の熱及び
圧力サイクルが加わる。そのため樹脂中の異物やスタン
バ−に付着する塵埃、異物等C(よりスタンバ−寿命は
著しく短くなる。又、熱及びaカサイクルによる金属自
体の劣化も生じる。従って。
ビデオ、 PCMデジタルオーディオディ7り等の、高
密度ディ7りの複製においては品個、夛留りの点で多く
の問題を含んでいる。斯かる問題を解決する新しいディ
ヌクの複製方法として、紫外線硬化型樹脂を用いた方法
が提唱された。この方法はスタンバ−上に液状の紫外線
硬化型&1脂を滴下し。
密度ディ7りの複製においては品個、夛留りの点で多く
の問題を含んでいる。斯かる問題を解決する新しいディ
ヌクの複製方法として、紫外線硬化型樹脂を用いた方法
が提唱された。この方法はスタンバ−上に液状の紫外線
硬化型&1脂を滴下し。
その上から紫外線を通す裏当で板1例えばPMMA 。
ポリカーボネート、ポリスチレン、ガラス等の板材を押
し当て、紫外線硬化型樹脂を均一に伸し広げ、裏当て板
を通して紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂を硬化せし
め、裏当て根と一体化したものをスタンバ−より剥離し
、複製ディスクを得るというものである。第1図にその
模式図を示す。
し当て、紫外線硬化型樹脂を均一に伸し広げ、裏当て板
を通して紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂を硬化せし
め、裏当て根と一体化したものをスタンバ−より剥離し
、複製ディスクを得るというものである。第1図にその
模式図を示す。
先ず第1図(aJでスタンバ−(υ上に紫外線硬化型樹
脂(21を滴−トし、(b)で裏当て材(3)を押し当
て、(C)で紫外線照射手段(4月こより硬化させ、(
d)で剥離し。
脂(21を滴−トし、(b)で裏当て材(3)を押し当
て、(C)で紫外線照射手段(4月こより硬化させ、(
d)で剥離し。
複製ディスクかでき上がる。ところで、従来方法では転
与成型工程で7タンパー(υに対し約10θトンの強い
仕方が加わり、スタンバ−(υそのものに凹凸のうねり
や歪があっても高温高圧か加わることにより平担化され
、ヌタンバー(IJを支える図外の基台(スタンバ−ケ
ース)に沿ってしまうという#jSaになる。従−)で
、スタンバ−の初期の歪は消えるが、その結果として真
円度の狂い、トラック歪等を発生する。−万葉外線硬化
型樹脂を用いる方法で11彫1図に示す工程で温度は殆
んど加イ〕らず、圧力は約100kg (従来方法の約
1/1000の圧力)程度か加わるだけである。従って
、スタンバ−の高温高圧ザイクμによる劣化は生じない
反面、スタンバ−に歪かあると全面にわたるゆるやかな
歪は端止されるが1局所的な企は端正されず。
与成型工程で7タンパー(υに対し約10θトンの強い
仕方が加わり、スタンバ−(υそのものに凹凸のうねり
や歪があっても高温高圧か加わることにより平担化され
、ヌタンバー(IJを支える図外の基台(スタンバ−ケ
ース)に沿ってしまうという#jSaになる。従−)で
、スタンバ−の初期の歪は消えるが、その結果として真
円度の狂い、トラック歪等を発生する。−万葉外線硬化
型樹脂を用いる方法で11彫1図に示す工程で温度は殆
んど加イ〕らず、圧力は約100kg (従来方法の約
1/1000の圧力)程度か加わるだけである。従って
、スタンバ−の高温高圧ザイクμによる劣化は生じない
反面、スタンバ−に歪かあると全面にわたるゆるやかな
歪は端止されるが1局所的な企は端正されず。
そのまま複製ディスクの万に転与されてしまい。
ディスクの厚みムラ、面振れ等の原因になる。
本発明は斯かる問題を解決し、紫外線硬化型樹脂を用い
て複製ディスクを製作する場合に必要にして十分な手相
性を有するスタンバ−(金型)を提供するものである。
て複製ディスクを製作する場合に必要にして十分な手相
性を有するスタンバ−(金型)を提供するものである。
ビデオ及びPCMオーディオディスク等に用いられる原
盤I、を通常は平坦なガラス盤上にフォトレジストを塗
布し、信号記録、現像によりビットを形成しtこもので
ある。又、研磨されたCu盤にメカニカルに信号を記録
したものもある。これには現像工程は不要である。信号
記録後は直接電解メツキ工程に移すことかできる。フオ
Yレジスト原盤では表面導電化工程を経てNMメッキか
施される。
盤I、を通常は平坦なガラス盤上にフォトレジストを塗
布し、信号記録、現像によりビットを形成しtこもので
ある。又、研磨されたCu盤にメカニカルに信号を記録
したものもある。これには現像工程は不要である。信号
記録後は直接電解メツキ工程に移すことかできる。フオ
Yレジスト原盤では表面導電化工程を経てNMメッキか
施される。
電解メッキ工程で形成されたNi金型(スタンバ−)表
面はガラス盤上に塗布されたフォトレジスト。
面はガラス盤上に塗布されたフォトレジスト。
又は研磨されたCu盤の表面の平担性をそのまま転写保
存しているか、Nl金型をカラ7旅盤又はCD盤から剥
離する際、剥離の為に加えらむだ外部応力及びメッキ時
点での残存内部応力の為、剥離後のNi金型は大小に拘
らず歪んでいる。コンルツション等の従来成型法ではこ
の歪は仲はされて平担になるが、紫外線硬化型樹脂を用
いる方法では平担にならず、ディスクの厚みムラの原因
になり。
存しているか、Nl金型をカラ7旅盤又はCD盤から剥
離する際、剥離の為に加えらむだ外部応力及びメッキ時
点での残存内部応力の為、剥離後のNi金型は大小に拘
らず歪んでいる。コンルツション等の従来成型法ではこ
の歪は仲はされて平担になるが、紫外線硬化型樹脂を用
いる方法では平担にならず、ディスクの厚みムラの原因
になり。
高いN、Aのレンズを用いて記録再生する場合、フォー
カス誤差及びレンズの球面収差増加の原因になり、収束
スポットが十分小さくならないという状態になる6市解
メッキ後、Ni金型を一旦ガヲス原盤又はCu原盤より
剥離してし才うと、前述のように歪が発生してしまい、
ひとたび発生した歪は簡単に取り除くことはできない。
カス誤差及びレンズの球面収差増加の原因になり、収束
スポットが十分小さくならないという状態になる6市解
メッキ後、Ni金型を一旦ガヲス原盤又はCu原盤より
剥離してし才うと、前述のように歪が発生してしまい、
ひとたび発生した歪は簡単に取り除くことはできない。
本発明は斯かる問題に対処すべく為されたもので、情報
構造もしくは同じ円又は渦巻状の溝構造を有する原盤に
電鋳工程を経て複製金型を形成し。
構造もしくは同じ円又は渦巻状の溝構造を有する原盤に
電鋳工程を経て複製金型を形成し。
この複製金型を前記原盤より剥離する前に前記複製金型
の裏面を裏打ち補強するものである。そこで本発明では
原盤より金型を剥離する前に裏打ち補強し、十分な剛性
を持たせてしかる後に原盤より剥離する。電解メッキで
形成されたN1金型は通常100〜500stnの厚さ
を有している。メッキ時間を十分長くとれは更に厚くす
ることもできるが。
の裏面を裏打ち補強するものである。そこで本発明では
原盤より金型を剥離する前に裏打ち補強し、十分な剛性
を持たせてしかる後に原盤より剥離する。電解メッキで
形成されたN1金型は通常100〜500stnの厚さ
を有している。メッキ時間を十分長くとれは更に厚くす
ることもできるが。
長い時間を要する。又、メッキ時点での内部応力も厚く
することにより、より現われ易くなる。、Ni金型に裏
打ち補強材を貼り付けるのに接着剤を用いるか、適当な
粘度と接着力と硬化時間と硬さ等を有している必要かあ
る。これに用いる材料には。
することにより、より現われ易くなる。、Ni金型に裏
打ち補強材を貼り付けるのに接着剤を用いるか、適当な
粘度と接着力と硬化時間と硬さ等を有している必要かあ
る。これに用いる材料には。
エポキシタイプの熱硬化性接着剤、紫外線硬化型接着剤
等かある。これらの接着剤を用いて接着する場合Ni金
型と裏打ち補強材とを気泡を混入しないように接着する
必要がめる。気泡が混入した場合、少ない圧力ではある
が複製時にNi金型に圧力が加わるので、気泡の上の部
分か圧力により陥没して凹状に変形してしまう。気泡が
入っているかとうかを確認する為には、1kfJち補強
材は透明でなけれはならない。又、透明な裏nち補強材
を用いて気泡の混入か確認された場合1表打ち補強材自
体十分な剛性を持っている為、気泡だけを取り除くのは
困難である。紫外線硬化型接着剤を用いれば気泡の混入
もわかり易いし、万一気泡が混入しfコ場合でも粘度が
低い場合は取り除き易いし。
等かある。これらの接着剤を用いて接着する場合Ni金
型と裏打ち補強材とを気泡を混入しないように接着する
必要がめる。気泡が混入した場合、少ない圧力ではある
が複製時にNi金型に圧力が加わるので、気泡の上の部
分か圧力により陥没して凹状に変形してしまう。気泡が
入っているかとうかを確認する為には、1kfJち補強
材は透明でなけれはならない。又、透明な裏nち補強材
を用いて気泡の混入か確認された場合1表打ち補強材自
体十分な剛性を持っている為、気泡だけを取り除くのは
困難である。紫外線硬化型接着剤を用いれば気泡の混入
もわかり易いし、万一気泡が混入しfコ場合でも粘度が
低い場合は取り除き易いし。
接着層を全部取り去って再5L接着層を形成するという
ことも紫外線硬化型であるが為、容易である。
ことも紫外線硬化型であるが為、容易である。
以十本発明を実施例を示す図面に基づいて説明する。第
2図にメッキ後の原盤及びNi金型を示す。
2図にメッキ後の原盤及びNi金型を示す。
OUI、iNl型、吟はガラス原盤、a4はフォトレジ
ヌト層である。第8図にNi金型に裏打ち補強材を貼り
付けた状態を示す。041は接着層、(ト)は裏打ら補
強材、 09は接¥を層a(中に混入した気泡である。
ヌト層である。第8図にNi金型に裏打ち補強材を貼り
付けた状態を示す。041は接着層、(ト)は裏打ら補
強材、 09は接¥を層a(中に混入した気泡である。
前記裏打ち補強材に)としてはPMMA 、ポリカーボ
ネート、ポリヌチレン、ガラス等の透明材を使用する。
ネート、ポリヌチレン、ガラス等の透明材を使用する。
接着層0◆の拐料としては複数のチオー/L/基(−5
H)及ヒエン(:C−(’:)を含むウレタンアクリレ
ート。
H)及ヒエン(:C−(’:)を含むウレタンアクリレ
ート。
エポキシアクリレート。複数の官応基を冶する反応性七
ツマ−1例えは2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシメチルアクリレート。
ツマ−1例えは2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシメチルアクリレート。
1.6ヘキザンジメールジアクリレート、ネオベンチル
ジメーールシアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、A−BPE−4等と光開始剤、光開始
助剤等を混合したものが良い・ベークとなる極B#iζ
複数のチオール基(−5H)及びエン(、L ” L
C)を含むアクリレート化合物を用いると空気硬化性か
良く、ガラス、樹脂、N1面に比較的良好に接着する接
着層を得ることができる。第4図はガラス原& 02か
らその平担性を保って剥離しfコ裏打ら補強済みのNi
金型を示す。フォトレシス)fflθ]は溶剤で洗浄し
て取り去っている。接着/1Wa41に気泡O(!が残
留している場合、Ni金型Opに圧力が加わるとその部
分が局所的に凹み、複製ディスクに悪影響が出る。透明
な裏打ち補強10旬と紫外線硬化型接着剤の接着層o4
を用いることにより。
ジメーールシアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、A−BPE−4等と光開始剤、光開始
助剤等を混合したものが良い・ベークとなる極B#iζ
複数のチオール基(−5H)及びエン(、L ” L
C)を含むアクリレート化合物を用いると空気硬化性か
良く、ガラス、樹脂、N1面に比較的良好に接着する接
着層を得ることができる。第4図はガラス原& 02か
らその平担性を保って剥離しfコ裏打ら補強済みのNi
金型を示す。フォトレシス)fflθ]は溶剤で洗浄し
て取り去っている。接着/1Wa41に気泡O(!が残
留している場合、Ni金型Opに圧力が加わるとその部
分が局所的に凹み、複製ディスクに悪影響が出る。透明
な裏打ち補強10旬と紫外線硬化型接着剤の接着層o4
を用いることにより。
気泡を全く混入させない状態を確認でき、均−且つ迅速
tこmHすることができる。こうしてガラス原盤(2)
の有する平担性はN1金型ovに保存されるのであるが
、実際には訳解メッキエ捏で原盤o4の平担性はいくは
くか損なオ)れる。つまり、メッキ浴温は付着するN1
メッキ層の内部応力が最小になるように条件設定されて
いる。その設定温良の一例は約60℃である。N1メッ
キ層が形成された原盤を50℃の液中から取り出して室
温(約25℃)lζ戻すと、その温度痩化は26℃とな
り、原盤が厚さ6mmのソーダガラス、Nlメッキ層が
800μmの厚さとすると、その線膨張率の違いにより
バイメタル状になり、無視できない程大きい反りを生ず
る。反りの大きさを第6図で検討する。abはNi金型
。Vの中心線、iはガラス原盤(2)の中心線である。
tこmHすることができる。こうしてガラス原盤(2)
の有する平担性はN1金型ovに保存されるのであるが
、実際には訳解メッキエ捏で原盤o4の平担性はいくは
くか損なオ)れる。つまり、メッキ浴温は付着するN1
メッキ層の内部応力が最小になるように条件設定されて
いる。その設定温良の一例は約60℃である。N1メッ
キ層が形成された原盤を50℃の液中から取り出して室
温(約25℃)lζ戻すと、その温度痩化は26℃とな
り、原盤が厚さ6mmのソーダガラス、Nlメッキ層が
800μmの厚さとすると、その線膨張率の違いにより
バイメタル状になり、無視できない程大きい反りを生ず
る。反りの大きさを第6図で検討する。abはNi金型
。Vの中心線、iはガラス原盤(2)の中心線である。
中心線間距離を△rとする。メッキ浴中でのガラス原盤
□4及びN1金型01の中心H長さは等しいが、室1I
7AIと戻すとNi金型aυ側かより大きく収縮し、金
型σ復側に凹状になる。室温でのガラス原盤(2)及び
Ni金型O1l側の中心線長さを夫々e+△e、eとす
ると、凹みの急△hは近似的に次のようになる。
□4及びN1金型01の中心H長さは等しいが、室1I
7AIと戻すとNi金型aυ側かより大きく収縮し、金
型σ復側に凹状になる。室温でのガラス原盤(2)及び
Ni金型O1l側の中心線長さを夫々e+△e、eとす
ると、凹みの急△hは近似的に次のようになる。
△h誼(e/8)(△e/△、) ・・・■rはガ
ラス原盤(2)及びN1金型。lが歪んで曲面状になっ
たときの曲率半径6θはカラス原盤曲を見込む中心角で
ある。Fe、Ni及びソータガラスの線膨張率の大きさ
αを次に示す。
ラス原盤(2)及びN1金型。lが歪んで曲面状になっ
たときの曲率半径6θはカラス原盤曲を見込む中心角で
ある。Fe、Ni及びソータガラスの線膨張率の大きさ
αを次に示す。
Fe :αm11..7X10−6/deg。
N i :a−12,7x 10−’/deg 。
ソーダ力″う7:αs= g、6xlO−’/deg。
この値を用いて反り員△11を」算する。カッ7、原盤
Q’JO)厚さ6mm、Ni金型συの厚さ800μm
とした場合。
Q’JO)厚さ6mm、Ni金型συの厚さ800μm
とした場合。
△rx8.15mm、又温度変化を60℃−25℃#2
5℃とする。
5℃とする。
1)原盤直径e −800rrrnの場合/\e−27
μm と 14 リ 。
μm と 14 リ 。
■式より△h−165μm となる。
2)e霞200mmの場合
△l諒18.6μm
△h駆75μm
8) 8m160mmの場合
6g−16μm
△h−49μm
従って、常温でNi金型Oηに裏nち補強すると、前記
のような反りを持つ1こままになる。この反りを取除く
には機械的な手法が使える。第6図に示すように、ガラ
ス原盤(ロ)及びNi金型Oυを定盤幹ンの上に載せ、
孔(至)のあいた押え板01でネジ等を用いて反った力
゛ラフ、原盤幹を平担にする。反りの負は前述のように
一800mm、最外局でも200μm以下であるので、
簡単に平担に端正する仁とができる。平担にしておき、
押え板軸の孔[相]の部分から裏打ち補強材(へ)を接
着する。その後押え椴Ql#%外し、Ni金型Iをガラ
ス原盤(ロ)から外すと、略完全に平担なNI金型o1
が得られろ。このままの秋態では室温が変われは裏打ら
補強材がソータガラス、PMMA等であれは、当初はフ
ラットであっても反りか発生する。j187図に示すよ
うに実施すれは、′&打ち補強後の温度変化にJる反り
の発生は略完全に押えることができる。裏打ち補強材(
11Gで補強されたNi金型(ロ)に更にN1の補強材
(ホ)を接着する。この接着は接着層【υに気泡が入っ
ていても全く間BないONt金型aυとNt補強材(ホ
)の線膨張率は等しく、温度変化に対して極めて安定な
ものになる。N1補強材翰の代りにFe袖強材を用いて
も殆んど問題はない。
のような反りを持つ1こままになる。この反りを取除く
には機械的な手法が使える。第6図に示すように、ガラ
ス原盤(ロ)及びNi金型Oυを定盤幹ンの上に載せ、
孔(至)のあいた押え板01でネジ等を用いて反った力
゛ラフ、原盤幹を平担にする。反りの負は前述のように
一800mm、最外局でも200μm以下であるので、
簡単に平担に端正する仁とができる。平担にしておき、
押え板軸の孔[相]の部分から裏打ち補強材(へ)を接
着する。その後押え椴Ql#%外し、Ni金型Iをガラ
ス原盤(ロ)から外すと、略完全に平担なNI金型o1
が得られろ。このままの秋態では室温が変われは裏打ら
補強材がソータガラス、PMMA等であれは、当初はフ
ラットであっても反りか発生する。j187図に示すよ
うに実施すれは、′&打ち補強後の温度変化にJる反り
の発生は略完全に押えることができる。裏打ち補強材(
11Gで補強されたNi金型(ロ)に更にN1の補強材
(ホ)を接着する。この接着は接着層【υに気泡が入っ
ていても全く間BないONt金型aυとNt補強材(ホ
)の線膨張率は等しく、温度変化に対して極めて安定な
ものになる。N1補強材翰の代りにFe袖強材を用いて
も殆んど問題はない。
N1又はFeを用いるとマグネットに吸着でき、金型を
ディスク複製装置に装着するのが大変容易になる。この
補強材の厚さは0.8〜2mm程度で良い。
ディスク複製装置に装着するのが大変容易になる。この
補強材の厚さは0.8〜2mm程度で良い。
又、他の実施例としてはNi金型への裏打ち補強材とし
て、厚さ数mm〜十数mm +7)N i板を直接接着
する方法がある。この場合にはエボキV等の熱硬化性接
着剤を多めに流し、気泡の混入がないようにする。又、
真墾中で接着しても良い。接島後大気中で硬化さセれは
気泡が入っていたとしても、無視し得る程の大きさにな
り影昏は出なくなる。裏打ち補強材は一層だけで温度変
化に対してf反りの発生の少ないNl金型を得ることが
できる。機械的に反りを補止して良打ら補強材(イ)を
貼り付けた場合、N1金型(1〃中には応力は残存して
いるか、接着層(141の滑りによりNl金型(ロ)中
の応力は殆んど問題ない程度迄減少する。原盤四に電気
メッキを施すと、どうしてもメッキ時点で外周縁部に電
界集中かおこり、メッキ(か厚くなり易い。応力もこの
外局縁部に集積され易い。従って、外周縁部を6〜10
mmの幅のソータで予じめ原盤(ロ)とNl金型α刀を
剥離しておくと、残存応力は更に減少する。従って、裏
打ち補強後のNi金型C1lの平担性は更に良くなる。
て、厚さ数mm〜十数mm +7)N i板を直接接着
する方法がある。この場合にはエボキV等の熱硬化性接
着剤を多めに流し、気泡の混入がないようにする。又、
真墾中で接着しても良い。接島後大気中で硬化さセれは
気泡が入っていたとしても、無視し得る程の大きさにな
り影昏は出なくなる。裏打ち補強材は一層だけで温度変
化に対してf反りの発生の少ないNl金型を得ることが
できる。機械的に反りを補止して良打ら補強材(イ)を
貼り付けた場合、N1金型(1〃中には応力は残存して
いるか、接着層(141の滑りによりNl金型(ロ)中
の応力は殆んど問題ない程度迄減少する。原盤四に電気
メッキを施すと、どうしてもメッキ時点で外周縁部に電
界集中かおこり、メッキ(か厚くなり易い。応力もこの
外局縁部に集積され易い。従って、外周縁部を6〜10
mmの幅のソータで予じめ原盤(ロ)とNl金型α刀を
剥離しておくと、残存応力は更に減少する。従って、裏
打ち補強後のNi金型C1lの平担性は更に良くなる。
Ni金型aυに裏打ち補強を施す場合、接着層の厚み、
補強材の傾き等もコントロールする必委がある。第8図
にそれらを補止する方法を示す□先ず裏打ち補強杓曽を
接着しておき、更にNi又はFeよりなる良打ち補強材
−を接着する。この場合。
補強材の傾き等もコントロールする必委がある。第8図
にそれらを補止する方法を示す□先ず裏打ち補強杓曽を
接着しておき、更にNi又はFeよりなる良打ち補強材
−を接着する。この場合。
十分に平担で適当な圧力を加えることのできる押え板(
イ)テ押え、且つスペーサー四で補強層全体の厚さか均
一になるように接着層(2)の厚さをコントロールする
。この接Mm(ハ)には熱硬化型のエホキシ糸の接着剤
が好適である。接着層に)が硬化後に押え板(財)を外
してガラス原盤幹よりNi金型aυを剥m−qると、平
担で均一な厚みを有する裏打ち補強イ」き歯合型aυか
できる。
イ)テ押え、且つスペーサー四で補強層全体の厚さか均
一になるように接着層(2)の厚さをコントロールする
。この接Mm(ハ)には熱硬化型のエホキシ糸の接着剤
が好適である。接着層に)が硬化後に押え板(財)を外
してガラス原盤幹よりNi金型aυを剥m−qると、平
担で均一な厚みを有する裏打ち補強イ」き歯合型aυか
できる。
以上述べtコように4本発明によれ、は、複製金型を用
いてビデオディスク、溝付記録用ディスク。
いてビデオディスク、溝付記録用ディスク。
PCMデジタμオーディオディスク等の複製ディスクを
製作するために使用する金型として、十分な平担度と均
一な厚みを有し且−)十分剛性の高い金型を得ることか
できる。従って、複製ディヌクの厚みも均一、一定のも
のを製作することかでき。
製作するために使用する金型として、十分な平担度と均
一な厚みを有し且−)十分剛性の高い金型を得ることか
できる。従って、複製ディヌクの厚みも均一、一定のも
のを製作することかでき。
歩留りを上げることができる。
第1図は紫外線硬化型樹脂を用いtコディスク複製の一
般的な工程図、第2−〜第8図は本発明の実施例を示し
、第2図は電解メッキ後のガラZ原盤及びNi金型の断
面図、第8図は剥離前のNl金型に良fJら補強した状
態を示す断面図、第4図はNi金型をガラス原盤から剥
離した状態を示す断面図。 帛6図はカフス原盤及びNi金型の温度良化による反り
の状態を示す説明図、第6図はガラス原盤及びNl金型
の反りを機械的に端止する状態を示す断面図、第7図は
Ni金型に2層の裏打ち補強材を有する状態を示す断面
図、第8図は裏打ち補強材を接着する際の厚み制限の方
法を示す断面図である。 01・・・Ni金型、(2)・・・ガラス原盤、Q4・
・・フォトレジスト層、 (14+・・・接着層、aF
j&J・・・裏打ち補強材、しV・・・接着層 代理人 森本義弘 第1図 第2図 第3図 第4図 1/ / 第5図 第を図 第7図 第1図
般的な工程図、第2−〜第8図は本発明の実施例を示し
、第2図は電解メッキ後のガラZ原盤及びNi金型の断
面図、第8図は剥離前のNl金型に良fJら補強した状
態を示す断面図、第4図はNi金型をガラス原盤から剥
離した状態を示す断面図。 帛6図はカフス原盤及びNi金型の温度良化による反り
の状態を示す説明図、第6図はガラス原盤及びNl金型
の反りを機械的に端止する状態を示す断面図、第7図は
Ni金型に2層の裏打ち補強材を有する状態を示す断面
図、第8図は裏打ち補強材を接着する際の厚み制限の方
法を示す断面図である。 01・・・Ni金型、(2)・・・ガラス原盤、Q4・
・・フォトレジスト層、 (14+・・・接着層、aF
j&J・・・裏打ち補強材、しV・・・接着層 代理人 森本義弘 第1図 第2図 第3図 第4図 1/ / 第5図 第を図 第7図 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 情報構造もしくは同心円又は渦巻状の溝構造を有
する原盤に電鋳工程を経て複製金型を形成し、この複製
金型を前記原盤より剥離する前に前記複製金型の裏面を
裏口ち補強する平板状情報記録担体複製金型の製造方法
。 2、裏打ち補強用部材として、輻射線透過可能な部材を
用い、この裏打ち補強用部材と複製金型とを輻射線の作
用にぼり硬化可能な樹脂で連結させる特許請求の範囲第
1項記載の平板状情報記録担体複製金型の製造方法。 8、裏打ち補強用部材を透明部材及び金属部拐の2屑構
造にした特許請求の範囲第1項記載の平板状情報記録担
体複製金型の製造方法。 4 裏打ち補強用部材を透明部材及び磁性部材の2層構
造とした特許請求の範囲第1項記載の平板状情報記録担
体複製金型の製造方法。 6、 複製金型と裏fJち補強用部材とを、複数のチメ
ーρ基(−8H)及びエンt>ct−c1片含有し、紫
外線の作用により硬化用能な樹脂で連結させた特許請求
の範囲第1項記載の平板状情報記録担体複製金型の製造
方法。 6、 原盤及び原盤上の金型か有する線膨張率の違いI
こより生じた形状的な重みを予じめ端正L7ておき、前
記金型と裏打ち補強用部材とを連結させる特許請求の範
囲第1項記載の平板状情報記録担体複製金型の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11885382A JPS599012A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11885382A JPS599012A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS599012A true JPS599012A (ja) | 1984-01-18 |
JPH0259044B2 JPH0259044B2 (ja) | 1990-12-11 |
Family
ID=14746754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11885382A Granted JPS599012A (ja) | 1982-07-07 | 1982-07-07 | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS599012A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055533A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Fujitsu Ltd | 微細形状転写型の製造方法 |
JPS62144919A (ja) * | 1985-11-25 | 1987-06-29 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | マトリツクス |
JPS6371325A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | デイスク基板製造装置とその製造方法 |
JPH02154520A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Toshiba Corp | 半導体集積回路のリセット回路 |
JPH0322230A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-30 | Nikka Eng Kk | スタンパおよびその製造方法 |
JPH11300829A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-02 | Toyota Motor Corp | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57103106A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Reproduction die for information recording carrier |
-
1982
- 1982-07-07 JP JP11885382A patent/JPS599012A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57103106A (en) * | 1980-12-16 | 1982-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Reproduction die for information recording carrier |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6055533A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Fujitsu Ltd | 微細形状転写型の製造方法 |
JPS62144919A (ja) * | 1985-11-25 | 1987-06-29 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | マトリツクス |
JPS6371325A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | デイスク基板製造装置とその製造方法 |
JPH02154520A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Toshiba Corp | 半導体集積回路のリセット回路 |
JPH0322230A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-30 | Nikka Eng Kk | スタンパおよびその製造方法 |
JPH11300829A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-02 | Toyota Motor Corp | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0259044B2 (ja) | 1990-12-11 |
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