JPS6055533A - 微細形状転写型の製造方法 - Google Patents
微細形状転写型の製造方法Info
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- JPS6055533A JPS6055533A JP16349083A JP16349083A JPS6055533A JP S6055533 A JPS6055533 A JP S6055533A JP 16349083 A JP16349083 A JP 16349083A JP 16349083 A JP16349083 A JP 16349083A JP S6055533 A JPS6055533 A JP S6055533A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000013518 transcription Methods 0.000 title abstract description 9
- 230000035897 transcription Effects 0.000 title abstract description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 abstract description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 206010011732 Cyst Diseases 0.000 description 2
- 208000031513 cyst Diseases 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は微細形状転写型、詳しくは光ディスク等のよう
にガラス面並みの平面上に１ミクロン以下（サブミクロ
ン）の微細形状を賦与するための転写型の製造方法に関
する。
にガラス面並みの平面上に１ミクロン以下（サブミクロ
ン）の微細形状を賦与するための転写型の製造方法に関
する。
（２）技術の背景
（１）
光ディスクはコンプレッション成形法またはインジェク
ション成形法によっても形成されるが、フォトポリマー
法で形成する方法も開発され、それには転写型を用意し
なければならない。
ション成形法によっても形成されるが、フォトポリマー
法で形成する方法も開発され、それには転写型を用意し
なければならない。
転写型（スタンパとも呼称される）を形成するには、第
１図ｆａ）に示される如く先ずガラス板１にレジスト等
の感光樹脂２を０．２μｍの厚さに塗布し、これにレー
ザビームを照射すること（露光）によって賦与すべき形
状を書き込む。レジストを現像した後に、この上にＮｉ
などを蒸着して電極３を形成しく第１図（ｂｌ）、それ
を用いてＮｉ等を厚さ０．２ｍｍ程度電鋳して電鋳膜４
を形成する（第１図（Ｃ））。得られたものを電極３、
レジスト２界面で剥離すると、微細形状を有する転写型
５が得られる（第１図ｃｄ））。
１図ｆａ）に示される如く先ずガラス板１にレジスト等
の感光樹脂２を０．２μｍの厚さに塗布し、これにレー
ザビームを照射すること（露光）によって賦与すべき形
状を書き込む。レジストを現像した後に、この上にＮｉ
などを蒸着して電極３を形成しく第１図（ｂｌ）、それ
を用いてＮｉ等を厚さ０．２ｍｍ程度電鋳して電鋳膜４
を形成する（第１図（Ｃ））。得られたものを電極３、
レジスト２界面で剥離すると、微細形状を有する転写型
５が得られる（第１図ｃｄ））。
上記の如くにして形成された転写型５を、第２図に示さ
れる如く平面度の出た支持板６に取り付は治具７によっ
て取り付けていた。なお第２図において、転写型は縮小
して示される。
れる如く平面度の出た支持板６に取り付は治具７によっ
て取り付けていた。なお第２図において、転写型は縮小
して示される。
（３）従来技術と問題点
（２）
しかし、この方法で＆ｊ転写型５の１に）１／、を均一
にしなければならず、そのために？［ｉ鋳条（’ｌを１
肢密にコントロールしなければならない。また転写型５
裏面の相さを良くするために研摩しなムノれぼならない
。更に、転写型５のそＶ）を小さくするために内部応力
を小さくするよう電鋳条件を′：１ントロールしなりれ
ばならず、そのようにしても転写型５のそりをなくする
のは困ｕｌｆであった。
にしなければならず、そのために？［ｉ鋳条（’ｌを１
肢密にコントロールしなければならない。また転写型５
裏面の相さを良くするために研摩しなムノれぼならない
。更に、転写型５のそＶ）を小さくするために内部応力
を小さくするよう電鋳条件を′：１ントロールしなりれ
ばならず、そのようにしても転写型５のそりをなくする
のは困ｕｌｆであった。
（４）発明の目的
本発明は上記ｉｔｔ来の問題点に鑑み、光ディスク等の
ようにその表面に微細な形状を賦１ｊする隔に、転写型
に板厚むらや内部応力がある場合または転写型裏面の粗
さが１ｌｌｔ ＜でも転写面にガラス並のの平面度を与
えることが可能な微細形状転写型を製造する方法を提イ
バすることを１′１的とする。
ようにその表面に微細な形状を賦１ｊする隔に、転写型
に板厚むらや内部応力がある場合または転写型裏面の粗
さが１ｌｌｔ ＜でも転写面にガラス並のの平面度を与
えることが可能な微細形状転写型を製造する方法を提イ
バすることを１′１的とする。
（５）発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、ガラス板にｌ／シス
トを塗布し、該レジストに情報を書き込んだ後に現像処
理によってｉ；１られたレジストパターン十に１４１極
および電鋳１嘆を形成し、該電鋳；模をしく３） シストとの界面で剥離して転写型を作る方法において、
電鋳膜形成後転写型を剥離する前に、該転写型裏面側に
接着剤層を形成し、この接着剤層上に支持板をのせ、接
着剤層を硬化させ、しかる後にレジストを除去すること
を特徴とする微細形状転写型の製造方法を提供すること
によって達成される。
トを塗布し、該レジストに情報を書き込んだ後に現像処
理によってｉ；１られたレジストパターン十に１４１極
および電鋳１嘆を形成し、該電鋳；模をしく３） シストとの界面で剥離して転写型を作る方法において、
電鋳膜形成後転写型を剥離する前に、該転写型裏面側に
接着剤層を形成し、この接着剤層上に支持板をのせ、接
着剤層を硬化させ、しかる後にレジストを除去すること
を特徴とする微細形状転写型の製造方法を提供すること
によって達成される。
（６）発明の実施例
以下本発明実施例を図面を例に詳説する。
本願発明者らは、従来の方法と同様に電鋳をした後、ス
タンパを剥離する簡に支持板に接着剤で接着し、その後
に剥離することを考えた。そしてこのことにより、スタ
ンパ表面の平面度は密着しているガラス板と同等のまま
であり、スタンパの板厚むらや裏面粗さは接着剤層に１
及収されて問題とならないことが確認された。
タンパを剥離する簡に支持板に接着剤で接着し、その後
に剥離することを考えた。そしてこのことにより、スタ
ンパ表面の平面度は密着しているガラス板と同等のまま
であり、スタンパの板厚むらや裏面粗さは接着剤層に１
及収されて問題とならないことが確認された。
以下光デイスク用の微細形状転写型についての実施例を
説明する。
説明する。
第３図に本発明実施例が示され、同図以下において既に
図示した部分と同じ部分は同一符号を付（４） し”ζ表示する。第３図（１１）を参照すると、直ｆ：
￥３６０ｍｍのガラス板１に１／ジスｉ・２を厚さ０．
２μｍ塗布し、同心固状の溝等を書き込んだ後現像する
。この面」二にニッケル５００人を蒸着し、これを電極
としてニッケル３００．ｕｍの電鋳１１Ｑ４を形成した
。電鋳して１：Ｉた転写型を剥離する前に、転写型裏面
側に紫外線硬化樹脂（例えば東亜合成社製アロエックス
１１ν３０３３）を厚さ１ｍｍ程度塗布して接着剤層８
を形成し、その」二にガラス円板９ （直径３４０ｍｍ
、厚さ１５ｍｍ）をのＵ、ガラス円板９側から紫外線を
照射して接着剤層８すなわち紫り１線硬化樹脂を硬化さ
せた。
図示した部分と同じ部分は同一符号を付（４） し”ζ表示する。第３図（１１）を参照すると、直ｆ：
￥３６０ｍｍのガラス板１に１／ジスｉ・２を厚さ０．
２μｍ塗布し、同心固状の溝等を書き込んだ後現像する
。この面」二にニッケル５００人を蒸着し、これを電極
としてニッケル３００．ｕｍの電鋳１１Ｑ４を形成した
。電鋳して１：Ｉた転写型を剥離する前に、転写型裏面
側に紫外線硬化樹脂（例えば東亜合成社製アロエックス
１１ν３０３３）を厚さ１ｍｍ程度塗布して接着剤層８
を形成し、その」二にガラス円板９ （直径３４０ｍｍ
、厚さ１５ｍｍ）をのＵ、ガラス円板９側から紫外線を
照射して接着剤層８すなわち紫り１線硬化樹脂を硬化さ
せた。
上記のものを現像液（例えばシソプレー社製３５１）槽
につ番ノてレジストＮ２を溶解すると第３図ｆｔｌ＋に
示される転写型が得られる。
につ番ノてレジストＮ２を溶解すると第３図ｆｔｌ＋に
示される転写型が得られる。
得られた転写型を用いて、第４図に示されるようにして
光ディスクを作成した。先ず、第４図（ａｌに示される
如く転写型５の上に紫外線硬化樹脂１０（例えば東亜合
成社製ア１１ニソクス０ν３２８８）を塗布し、その−
ににガラス基板１１（直ｔ％３００ｍｍ 、厚さく５） １．５ｍｍ ）をのせ、紫外線硬化樹脂１０を均一にの
ばす。ガラス基板１１側から紫外線を照射して樹脂１０
を硬化させた後に、転写型５、樹脂９間で剥離すると、
光ディスク１２が得られる。得られたディスク１２の転
写面の平面度は１０μｍ ｐ−ｐ以下であった。
光ディスクを作成した。先ず、第４図（ａｌに示される
如く転写型５の上に紫外線硬化樹脂１０（例えば東亜合
成社製ア１１ニソクス０ν３２８８）を塗布し、その−
ににガラス基板１１（直ｔ％３００ｍｍ 、厚さく５） １．５ｍｍ ）をのせ、紫外線硬化樹脂１０を均一にの
ばす。ガラス基板１１側から紫外線を照射して樹脂１０
を硬化させた後に、転写型５、樹脂９間で剥離すると、
光ディスク１２が得られる。得られたディスク１２の転
写面の平面度は１０μｍ ｐ−ｐ以下であった。
なお第４図において、符号１３は心出し治具を示す。
（７）発明の効果
以上詳細に説明した如く本発明によれば、従来必要であ
った転写型の裏面研摩と板厚むらや内部応力を小さくす
るための電鋳条件コントロールが不要になるために、工
程数を減らせるだけでなく、今まで得られなかった平面
度の光ディスクを得ることができる。
った転写型の裏面研摩と板厚むらや内部応力を小さくす
るための電鋳条件コントロールが不要になるために、工
程数を減らせるだけでなく、今まで得られなかった平面
度の光ディスクを得ることができる。
第１図は従来の転写型を作る工程を示す断面図、第２図
は従来の転写型の取付けを示す断面図、第３図は本発明
の転写型を作る工程を示す図、第４図は本発明の転写型
を用い光ディスクを作る工程を示す断面図である。 トーガラス板、２−感光樹脂層、３− （６） Ｎｉ電極、４−電鋳膜、５−転写型、 ６−転写型支持板、７−転写型取付は治具、８−接着剤
層、９−ガラス円板、１０−紫外線硬化樹脂、１１−ガ
ラス基板、 １２−光ディスク、１３−心出し治具 （７） 第２図
は従来の転写型の取付けを示す断面図、第３図は本発明
の転写型を作る工程を示す図、第４図は本発明の転写型
を用い光ディスクを作る工程を示す断面図である。 トーガラス板、２−感光樹脂層、３− （６） Ｎｉ電極、４−電鋳膜、５−転写型、 ６−転写型支持板、７−転写型取付は治具、８−接着剤
層、９−ガラス円板、１０−紫外線硬化樹脂、１１−ガ
ラス基板、 １２−光ディスク、１３−心出し治具 （７） 第２図
Claims (1)
- ガラス板にレジストを塗布し、該レジストに情報を書き
込んだ後に現像処理によって得られたレジストパターン
」−りこ電極および電＆Ｎ膜を形成し、該電鋳膜をレジ
ストとの界面で剥Ｒ１１Ｌ、て転写型を作る方法におい
て、電鋳膜形成後転写型を剥離する前に、該転写型裏面
側に接着剤層を形成し、この接着剤層上に支持板をのせ
、接着剤層を硬化させ、しかる後にレジストを除去する
ことを特徴とする微細形状転写型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16349083A JPS6055533A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 微細形状転写型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16349083A JPS6055533A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 微細形状転写型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6055533A true JPS6055533A (ja) | 1985-03-30 |
Family
ID=15774850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16349083A Pending JPS6055533A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 微細形状転写型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6055533A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61292245A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-12-23 | オプテイカル・ストレイジ・インタ−ナシヨナル・ホランド | 光学的に読出し可能な情報ディスクの基板に検出可能なパターンを設ける方法および装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57100637A (en) * | 1980-12-15 | 1982-06-22 | Toshiba Corp | Manufacture of master for sound disk or recording disk |
| JPS599012A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
-
1983
- 1983-09-06 JP JP16349083A patent/JPS6055533A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57100637A (en) * | 1980-12-15 | 1982-06-22 | Toshiba Corp | Manufacture of master for sound disk or recording disk |
| JPS599012A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61292245A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-12-23 | オプテイカル・ストレイジ・インタ−ナシヨナル・ホランド | 光学的に読出し可能な情報ディスクの基板に検出可能なパターンを設ける方法および装置 |
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