JPS62144919A - マトリツクス - Google Patents
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- JPS62144919A JPS62144919A JP61278890A JP27889086A JPS62144919A JP S62144919 A JPS62144919 A JP S62144919A JP 61278890 A JP61278890 A JP 61278890A JP 27889086 A JP27889086 A JP 27889086A JP S62144919 A JPS62144919 A JP S62144919A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
- B29C45/2632—Stampers; Mountings thereof
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/565—Consisting of shell-like structures supported by backing material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光読取り情報トラックを有する光読取り情報
キャリアを製造するための射出成形法又は圧縮成形法に
使用するのに適切なマトリックスに関するものである。
キャリアを製造するための射出成形法又は圧縮成形法に
使用するのに適切なマトリックスに関するものである。
光読取りインフォメーションキャリアは、例えばポリメ
チルメタクリレ−)(P!、IM八)又はポリカーボネ
ートから製造される合成樹脂ディスクである。
チルメタクリレ−)(P!、IM八)又はポリカーボネ
ートから製造される合成樹脂ディスクである。
該ディスクの表面に設けられた情報トラックは高いレベ
ルと低いレベルで交互に位置する情報領域の凹凸形状を
有する。該領域のす法は小さく、例えば縦方向の寸法は
0.3〜3μmで変化する。該領域間の高低差は0,1
〜0.2μmである。情報トラックの片側で、ディスク
は反射層、例えばほとんどが八g又はΔβの層により被
覆される。該トラックはレーザー光ビームによる反射に
おいて読取れる。読取りは、高いレベルで位置する領域
又は低いレベルで位置する領域が照射されるかどうかに
よる反射光の位相中の差異に基づくものである。
ルと低いレベルで交互に位置する情報領域の凹凸形状を
有する。該領域のす法は小さく、例えば縦方向の寸法は
0.3〜3μmで変化する。該領域間の高低差は0,1
〜0.2μmである。情報トラックの片側で、ディスク
は反射層、例えばほとんどが八g又はΔβの層により被
覆される。該トラックはレーザー光ビームによる反射に
おいて読取れる。読取りは、高いレベルで位置する領域
又は低いレベルで位置する領域が照射されるかどうかに
よる反射光の位相中の差異に基づくものである。
該ディスクは、加圧下モールド内に液状合成樹脂組成物
を射出する圧縮成形法又は射出成形法を用いることによ
り製造される。射出成形法にお、いては、液状合成樹脂
を既に密封したモールド内に注入する。圧縮成形法にお
いては、モールドを射出する間又は射出した後すぐに密
封する。1種又は2種のマトリックスがモールド内に提
供される。
を射出する圧縮成形法又は射出成形法を用いることによ
り製造される。射出成形法にお、いては、液状合成樹脂
を既に密封したモールド内に注入する。圧縮成形法にお
いては、モールドを射出する間又は射出した後すぐに密
封する。1種又は2種のマトリックスがモールド内に提
供される。
マトリックスは、最終製品の所望の情報トラックのネガ
である情報トラックを有する。
である情報トラックを有する。
光読取り情報キャリアの製造に使用する即知のマトリッ
クスはニッケルマトリックスである。その製造はマスタ
ーから出発する。マスターは、ホトレジスト層を片側に
備えるガラス板であり、情報トラックを光に照射し、次
いで現象することにより該層中に設ける。ホトレジスト
層の片側に、マスターが無電解製造金属層、例えばAg
層を備える。ここでNi層は電着により成長させる。該
マスターをとりはずし、Ni1l製物、いわゆるマザー
ディスクを得られるファザーディスクから電着により製
造する。Ni複製物はマザーディスク、いわゆるグイか
ら製造され、それを上記射出成形法又は圧縮成形法で使
用する。上記方法の欠点はファザーディスクの製造にお
いてマスターが破壊されることである。従って1個のN
iフアザーデイスクのみをマスターから製造することが
できる。このことはマスターの経費を高くするという点
で重大な欠点である。更に、Niマトリックスの製造に
関する上記方法は時間がかかり、一連の処理工程から成
り、各工程は誤差の発生を生じる。その上、電着により
製造される各Ni層は、暦かなければならない。その結
果として低い品質及び/又は比較的高い不良品割合を得
る。
クスはニッケルマトリックスである。その製造はマスタ
ーから出発する。マスターは、ホトレジスト層を片側に
備えるガラス板であり、情報トラックを光に照射し、次
いで現象することにより該層中に設ける。ホトレジスト
層の片側に、マスターが無電解製造金属層、例えばAg
層を備える。ここでNi層は電着により成長させる。該
マスターをとりはずし、Ni1l製物、いわゆるマザー
ディスクを得られるファザーディスクから電着により製
造する。Ni複製物はマザーディスク、いわゆるグイか
ら製造され、それを上記射出成形法又は圧縮成形法で使
用する。上記方法の欠点はファザーディスクの製造にお
いてマスターが破壊されることである。従って1個のN
iフアザーデイスクのみをマスターから製造することが
できる。このことはマスターの経費を高くするという点
で重大な欠点である。更に、Niマトリックスの製造に
関する上記方法は時間がかかり、一連の処理工程から成
り、各工程は誤差の発生を生じる。その上、電着により
製造される各Ni層は、暦かなければならない。その結
果として低い品質及び/又は比較的高い不良品割合を得
る。
本発明の目的は簡易な方法で製造することができるマト
リックスを提供することにある。更に特に本発明の目的
は、中間工程を用いずマスターから直接誘導されるマト
リックスを提供することにある。かかる場合においては
、マスターディスクは破壊されない。1個のマスターデ
ィスクから数個、例えば50個の本発明のマ) IJフ
ックス製造することができる。
リックスを提供することにある。更に特に本発明の目的
は、中間工程を用いずマスターから直接誘導されるマト
リックスを提供することにある。かかる場合においては
、マスターディスクは破壊されない。1個のマスターデ
ィスクから数個、例えば50個の本発明のマ) IJフ
ックス製造することができる。
本発明においてかかる目的は、最初に記した型のマトリ
ックスにより達せられ、該マトリックスは金属支持板を
備え、該支持板の片側上に情報トラックのネガを有する
放射−硬化合成樹脂組成物の層を有することを特徴とす
る。
ックスにより達せられ、該マトリックスは金属支持板を
備え、該支持板の片側上に情報トラックのネガを有する
放射−硬化合成樹脂組成物の層を有することを特徴とす
る。
該マトリックスはマスターがホトレジスト層の片側に金
属の薄層を備えることにより製造される。
属の薄層を備えることにより製造される。
該金属層はホトレジスト層中に存在する情報トラックに
なる。硬化してない液状合成樹脂組成物の層を有する支
持板をマスターの金属層に対して圧する。該合成樹脂組
成物の層を放射により硬化し、支持板に結合した硬化合
成樹脂層を備えた支持板でマスターの情報トラックが複
製されているものをマスターから取り外す。該マスター
は立体形状をとどめたままである。
なる。硬化してない液状合成樹脂組成物の層を有する支
持板をマスターの金属層に対して圧する。該合成樹脂組
成物の層を放射により硬化し、支持板に結合した硬化合
成樹脂層を備えた支持板でマスターの情報トラックが複
製されているものをマスターから取り外す。該マスター
は立体形状をとどめたままである。
射出成形法又は圧縮成形法において、モールド内の熱制
御は重要な役割を果たす。このことは、極めて細かい構
造、例えば光読取り情報トラックの非常に精巧な構造を
有する製品を製造すべき場合特に当てはまる。マトリッ
クスは熱制御に強い影響を有する。特に重要なことはマ
) IJフックス質の性質と組成物層の厚みである。浸
れた結果物は特に本発明のマトリックスにより達せられ
、その支持板はステンレス鋼、ニッケル又は硬質アルミ
ニウム合金から製造され、少なくともその厚みは200
μmである。硬質アルミニウム合金の例としてはAgと
Nigの合金がある。
御は重要な役割を果たす。このことは、極めて細かい構
造、例えば光読取り情報トラックの非常に精巧な構造を
有する製品を製造すべき場合特に当てはまる。マトリッ
クスは熱制御に強い影響を有する。特に重要なことはマ
) IJフックス質の性質と組成物層の厚みである。浸
れた結果物は特に本発明のマトリックスにより達せられ
、その支持板はステンレス鋼、ニッケル又は硬質アルミ
ニウム合金から製造され、少なくともその厚みは200
μmである。硬質アルミニウム合金の例としてはAgと
Nigの合金がある。
他の好適例においては、ステンレス鋼から製造され、硬
化した合成樹脂組成物の片側にAn又はNiの層を備え
る支持板を使用する。、+1又はNiの層は例えば数ミ
クロンの厚さを有する。かかる層を用いることにより、
特にステンレス鋼支持板が極めて滑らかな表面を有する
場合、支持板と合成樹脂組成物間の結合を改善する。所
望の場合、例えばシランの結合層を支持板及び合成樹脂
組成物中に提供することができる。適切なシランはガン
マ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランである
。かかるシラン化合物は合成樹脂組成物といっしょに硬
化する。
化した合成樹脂組成物の片側にAn又はNiの層を備え
る支持板を使用する。、+1又はNiの層は例えば数ミ
クロンの厚さを有する。かかる層を用いることにより、
特にステンレス鋼支持板が極めて滑らかな表面を有する
場合、支持板と合成樹脂組成物間の結合を改善する。所
望の場合、例えばシランの結合層を支持板及び合成樹脂
組成物中に提供することができる。適切なシランはガン
マ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランである
。かかるシラン化合物は合成樹脂組成物といっしょに硬
化する。
マトリックスを射出成形法又は圧縮成形法に用いる場合
、硬化した合成樹脂組成物の層を加熱射出した合成樹脂
と接触させる。例えばポリメチルメタクリレートの場合
、射出成形温度は275℃である。ポリカーボネートの
場合、350℃である。
、硬化した合成樹脂組成物の層を加熱射出した合成樹脂
と接触させる。例えばポリメチルメタクリレートの場合
、射出成形温度は275℃である。ポリカーボネートの
場合、350℃である。
従って、高圧に関して非変形性を生じる硬度及び耐熱性
について合成樹脂組成物に高い必要条件が課せられる。
について合成樹脂組成物に高い必要条件が課せられる。
更に硬化した合成層はモールド内の冷却速度に影響を及
ぼす。
ぼす。
マトリックスの金属支持板の片側に30〜80重量%の
ウレタンアクリレートを含有するUv光−硬化合成樹脂
組成物の層をfliijえるマトリックスにより好まし
い結果が達成される。硬化した合成樹脂組成物の犀みは
好ましくは10〜30μmである。
ウレタンアクリレートを含有するUv光−硬化合成樹脂
組成物の層をfliijえるマトリックスにより好まし
い結果が達成される。硬化した合成樹脂組成物の犀みは
好ましくは10〜30μmである。
本発明のマ) IJフックス好適な形状において、金属
支持板が片側に25〜65重量%の芳香族ウレタンアク
リレート、5〜15重量%の脂肪族ウレタンアクリレー
ト、2〜8重■%の触媒、15〜65重量%のモノマー
を含むUv光−硬化合成樹脂組成物を備える。
支持板が片側に25〜65重量%の芳香族ウレタンアク
リレート、5〜15重量%の脂肪族ウレタンアクリレー
ト、2〜8重■%の触媒、15〜65重量%のモノマー
を含むUv光−硬化合成樹脂組成物を備える。
適切な芳香族ウレタンアクリレートは商品名工ベンジル
220(EbeCry1220)で知られている。適切
な脂肪族ウレタンアクリレートは商品名工ベンジル23
0(εbecryl 230) で知られている。触媒
は、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル又はベンジ
ルジメチルケタールのようなケタールの如き芳香族カル
ボニル化合物である。[IV光−硬化性モノマー化合物
は1分子当たり1個、2個又は3個のビニル基を各々含
む一官能価、二官能価、三官能価化合物が好ましい。一
官能価化合物の例としてはN−ビニルピロリドン又はヘ
キシルアクリレートのようなモノアクリレートである。
220(EbeCry1220)で知られている。適切
な脂肪族ウレタンアクリレートは商品名工ベンジル23
0(εbecryl 230) で知られている。触媒
は、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル又はベンジ
ルジメチルケタールのようなケタールの如き芳香族カル
ボニル化合物である。[IV光−硬化性モノマー化合物
は1分子当たり1個、2個又は3個のビニル基を各々含
む一官能価、二官能価、三官能価化合物が好ましい。一
官能価化合物の例としてはN−ビニルピロリドン又はヘ
キシルアクリレートのようなモノアクリレートである。
二官能価化合物の例としては例えばヘキサンジオールジ
アクリレートのようなジアクリレートである。適切な三
官能価化合物は例えばトリメチロールプロパントリアク
リレートである。
アクリレートのようなジアクリレートである。適切な三
官能価化合物は例えばトリメチロールプロパントリアク
リレートである。
数千の情報キャリアをマトリックスにより製造すること
ができる。本発明のマトリックスを使用した場合、従来
のNiマ) IJフックス比較して、情報キャリアのよ
り品質の高い情報トラックを得る。
ができる。本発明のマトリックスを使用した場合、従来
のNiマ) IJフックス比較して、情報キャリアのよ
り品質の高い情報トラックを得る。
池の好適例において、硬化した合成樹脂組成物の層はそ
の自由表面に厚みが10〜60μmの金属層を有する。
の自由表面に厚みが10〜60μmの金属層を有する。
適切な金属層はCr又はAl層で、該賭を硬化した合成
樹脂組成物上に蒸着法又はスパッター法により提供する
。
樹脂組成物上に蒸着法又はスパッター法により提供する
。
次に本発明を図面を参照して次の実施例により説明する
。
。
実施例
第1図中の1はマスターディスクを示す。該マスターは
直径が約30cmで厚さが5 mmのガラス板2より成
り、光に露光して現像させ、情報トラック4を有するポ
ジのホトレジストの層3を片側にMiiえる。トラック
4は高いレベルと低いレベルで交互に位置する情報領域
5及び情報領域6の凹凸形状を有する。該領域間の高低
差は0.1〜0.2μmである。縦方向の大きさは準1
1mシた情報に従って約0.3〜3μmで変化する。ホ
トレジストの層3は、摩みが例えば10〜4Qnm、例
えば25nrnの極めて薄い金属層(図示せず)で被覆
されている。
直径が約30cmで厚さが5 mmのガラス板2より成
り、光に露光して現像させ、情報トラック4を有するポ
ジのホトレジストの層3を片側にMiiえる。トラック
4は高いレベルと低いレベルで交互に位置する情報領域
5及び情報領域6の凹凸形状を有する。該領域間の高低
差は0.1〜0.2μmである。縦方向の大きさは準1
1mシた情報に従って約0.3〜3μmで変化する。ホ
トレジストの層3は、摩みが例えば10〜4Qnm、例
えば25nrnの極めて薄い金属層(図示せず)で被覆
されている。
該マスター1に面する側にUv光−硬化性合成樹脂組成
物の液層8を有する金属支持板7をマスターlの金V%
層に対して圧する。金属支持板は例えばΔft’/Mg
合金から・製造され、厚さは300μmである。支持板
を代わりにN+又はステンレス鋼から1することができ
る。ステンレス鋼支持板を使用する場合、合成樹脂組成
物に面する表面をわずかに粗にするか又は数ミクロンの
厚さのAN若しくはNiの薄層を備えることが好ましい
。シランの結合層、特にメタクリロキシプロピルトリメ
トキシシランの単一層を提供することが好ましく、これ
は放射の作用の下支持板及び合成樹脂組成物間で共重合
化される。合成樹脂組成物の層8の厚みは10〜30μ
m、特に20μmである。
物の液層8を有する金属支持板7をマスターlの金V%
層に対して圧する。金属支持板は例えばΔft’/Mg
合金から・製造され、厚さは300μmである。支持板
を代わりにN+又はステンレス鋼から1することができ
る。ステンレス鋼支持板を使用する場合、合成樹脂組成
物に面する表面をわずかに粗にするか又は数ミクロンの
厚さのAN若しくはNiの薄層を備えることが好ましい
。シランの結合層、特にメタクリロキシプロピルトリメ
トキシシランの単一層を提供することが好ましく、これ
は放射の作用の下支持板及び合成樹脂組成物間で共重合
化される。合成樹脂組成物の層8の厚みは10〜30μ
m、特に20μmである。
数(重の合成樹脂組成物及びその特性を下記の表に示す
。
。
半減露光時間は最終収縮の50%に達した際の時間であ
る。
る。
上記の如き合成樹脂組成物はマスターを介してttV光
9に露光される。露光時間は15秒若しくはそれ以上で
ある。露光の結果として合成樹脂組成物が硬化される(
架橋)。メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの
光結合層も合成樹脂組成物と架橋する。硬化した合成樹
脂組成物が結合し、マスターの情報トラックが複製され
た金属支持板をマスターから取りはずした。マスターは
損傷せず、上記と同様のマトリックスの製造に再び用い
ることができる。実際に約50個のマトリックスが1個
のマスターから製造できることを見出した。
9に露光される。露光時間は15秒若しくはそれ以上で
ある。露光の結果として合成樹脂組成物が硬化される(
架橋)。メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの
光結合層も合成樹脂組成物と架橋する。硬化した合成樹
脂組成物が結合し、マスターの情報トラックが複製され
た金属支持板をマスターから取りはずした。マスターは
損傷せず、上記と同様のマトリックスの製造に再び用い
ることができる。実際に約50個のマトリックスが1個
のマスターから製造できることを見出した。
得られるマトリックス(第2図)は、射出成形法又は圧
縮成形法におけるグイとしての使用に適切である。かか
る目的に関し、グイを従来のモールド内に設置し、次い
で射出成形法又は圧縮成形法における従来技術に従いモ
ールド内に液状合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレ
ート若しくはポリカーボネートを高圧で圧する。かかる
方法において少なくとも2500個の合成樹脂レプリカ
を1個のグイから製造することができる。合成樹脂レプ
リカの情報トラックの質は優れ、はとんどがNiで製造
されたマトリックスを使用する場合よりもかなり良好で
ある。本発明のマトリックスの情報トラックは合成樹脂
レプリカに良好に複製される。
縮成形法におけるグイとしての使用に適切である。かか
る目的に関し、グイを従来のモールド内に設置し、次い
で射出成形法又は圧縮成形法における従来技術に従いモ
ールド内に液状合成樹脂、例えばポリメチルメタクリレ
ート若しくはポリカーボネートを高圧で圧する。かかる
方法において少なくとも2500個の合成樹脂レプリカ
を1個のグイから製造することができる。合成樹脂レプ
リカの情報トラックの質は優れ、はとんどがNiで製造
されたマトリックスを使用する場合よりもかなり良好で
ある。本発明のマトリックスの情報トラックは合成樹脂
レプリカに良好に複製される。
合成樹脂レプリカ中の情報トラックのシグナル対ノイズ
比は少しのd8により改善される。マトリックスを射出
成形法又は圧縮成形法において使用する前に、該マトリ
ックスは、硬化した合成樹脂組成物の片側に厚さ10〜
60nmの金属層10、例えばC「又は△eをflii
!えることもできる。かかる層を、蒸着法又はスパッタ
法により硬化した合成樹脂組成物上に備えることも可能
である。
比は少しのd8により改善される。マトリックスを射出
成形法又は圧縮成形法において使用する前に、該マトリ
ックスは、硬化した合成樹脂組成物の片側に厚さ10〜
60nmの金属層10、例えばC「又は△eをflii
!えることもできる。かかる層を、蒸着法又はスパッタ
法により硬化した合成樹脂組成物上に備えることも可能
である。
第1図は、マトリックス製造中のマスター及びマトリッ
クスの断面図、 第2図は本発明のマ) IJフックス断面図を示す。 ■・・・マスターディスク 2・・・ガラス板3・・・
ポジのホトレジスト層 4・・・情報トラック 5.6・・・情報領域7・
・・金属支持板 8・・・硬化性合成樹脂組成物層 9・・・Uv光 10・・・金属薄層特許
出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペ
ンファブリケン FIG、1 Ia2
クスの断面図、 第2図は本発明のマ) IJフックス断面図を示す。 ■・・・マスターディスク 2・・・ガラス板3・・・
ポジのホトレジスト層 4・・・情報トラック 5.6・・・情報領域7・
・・金属支持板 8・・・硬化性合成樹脂組成物層 9・・・Uv光 10・・・金属薄層特許
出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペ
ンファブリケン FIG、1 Ia2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光読取り情報トラックを有する光読取り情報キャリ
アを製造するための射出成形法又は圧縮成形法に用いる
に適するマトリックスにおいて、該マトリックスは金属
支持板を備え、該支持板の片側に情報トラックのネガを
有する放射−硬化合成樹脂組成物層を有することを特徴
とするマトリックス。 2、該金属支持板はステンレス鋼、ニッケル又は硬質ア
ルミニウム合金から製造され、少なくとも200μmの
厚みを有する特許請求の範囲第1項記載のマトリックス
。 3、該金属支持板はステンレス鋼から製造され、該合成
樹脂組成物の片側にAl又はNiの層を有する特許請求
の範囲第2項記載のマトリックス。 4、該金属支持板が片側に、30〜80重量%のウレタ
ンアクリレートを含むUV光−硬化合成樹脂組成物の層
を備える特許請求の範囲第1項記載のマトリックス。 5、該金属支持板が片側に、25〜65重量%の芳香族
ウレタンアクリレート、5〜15重量%の脂肪族ウレタ
ンアクリレート、2〜8重量%の触媒及び15〜65重
量%のモノマーを含むUV光−硬化合成樹脂組成物の層
を含む特許請求の範囲第4項記載のマトリックス。 6、硬化した合成樹脂組成物の層がその自由表面に厚さ
10〜60nmの金属層を有する特許請求の範囲第1項
記載のマトリックス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8503234 | 1985-11-25 | ||
NL8503234A NL8503234A (nl) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | Matrijs. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62144919A true JPS62144919A (ja) | 1987-06-29 |
JP2518828B2 JP2518828B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=19846910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61278890A Expired - Lifetime JP2518828B2 (ja) | 1985-11-25 | 1986-11-25 | マトリツクス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5149607A (ja) |
EP (1) | EP0224312B1 (ja) |
JP (1) | JP2518828B2 (ja) |
DE (1) | DE3677337D1 (ja) |
NL (1) | NL8503234A (ja) |
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FR2716563B1 (fr) * | 1994-02-21 | 1996-06-07 | Digipress Sa | Substrat préformaté, substrat préformaté comportant des informations à dupliquer, leurs procédés de fabrication et procédé de fabrication d'un disque maître et/ou d'un disque optique. |
US6207355B1 (en) * | 1996-06-21 | 2001-03-27 | Sony Corporation | Optical recording medium and method for producing same |
KR100234292B1 (ko) * | 1997-10-08 | 1999-12-15 | 윤종용 | 광디스크 제작용 마스터 디스크 제조방법 |
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DE19983100T1 (de) | 1998-04-06 | 2001-05-31 | Imation Corp | Herstellung eines umgekehrten optischen Masters für Datenspeicherplatten |
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-
1985
- 1985-11-25 NL NL8503234A patent/NL8503234A/nl not_active Application Discontinuation
-
1986
- 1986-11-24 EP EP86202079A patent/EP0224312B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-24 DE DE8686202079T patent/DE3677337D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-11-25 JP JP61278890A patent/JP2518828B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-12 US US07/597,961 patent/US5149607A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3677337D1 (de) | 1991-03-07 |
JP2518828B2 (ja) | 1996-07-31 |
NL8503234A (nl) | 1987-06-16 |
EP0224312A1 (en) | 1987-06-03 |
US5149607A (en) | 1992-09-22 |
EP0224312B1 (en) | 1991-01-30 |
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