JP3632757B2 - 光学フィルタの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信等に用いられる光学フィルタの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
例えばフィルタに入射される光のうち、予め定められた設定波長帯の光のみを通過する波長選択透過フィルタ(バンドパスフィルタ)等の光学フィルタが光通信用として広く用いられている。
【0003】
この種の光学フィルタを作製する方法として、例えば基板上に真空蒸着法やスパッタリング法等によりフィルタ膜を成膜する成膜法が用いられている。
【0004】
図2には成膜装置としての真空蒸着装置の一例が概略図により示されている。同図において、蒸着装置30内には、真空蒸着法の成膜エリア1内の基板ホルダ2上に、成膜を行なう基板3が設置されており、基板ホルダ2の下部側に蒸発源5a,5bが配置されている。なお、同図において、成膜エリア1内は断面図により示されている。
【0005】
また、蒸着装置30には、図示されていない操作部が設けられており、この操作部の操作によって装置を駆動させると、蒸発源5a,5bから蒸発した物質が基板3上に付着し、膜(薄膜)4が成膜される構成と成している。
【0006】
蒸着装置30の外部には、モニタ光を発する光源7と、該光源7から発せられる光を蒸着装置30へと導くための光ファイバ8と、受光器12、コンピュータ14等が設けられている。
【0007】
光源7からのモニタ光は、前記光ファイバ8を介し、蒸着装置30の下部側の窓9から入射される形態となっており、窓9から入射されたモニタ光は、同図のAに示すように、成膜エリア1内を直進して膜4および基板3に到達し、その一部が蒸着装置30の上方の光ファイバ11を通って受光器12に到達する構成と成している。
【0008】
受光器12に到達した光の光量に対応した信号が信号ケーブル13を通って前記コンピュータ14に送信され、コンピュータ14の制御によって成膜される膜厚の制御が行なわれる。
【0009】
すなわち、コンピュータ14は、受光器12に到達した光に基づいて成膜中の膜4にモニタ光を照射したときのエネルギー透過率とエネルギー反射率のいずれか一方の光学特性の変化を測定する。そして、このモニタ光のエネルギー透過率又はエネルギー反射率の変化に基づき、成膜膜厚が目標とする膜厚に達したと判断された以降に、成膜を停止するための信号を、信号ケーブル15を通って蒸着装置30の駆動部(図示せず)に送る。
【0010】
そうすると、蒸発源シャッタ6aまたは蒸発源シャッタ6bが対応する蒸発源5a,5bの真上をそれぞれ覆い、成膜が停止される。
【0011】
また、蒸発源5aから第N層(Nは正の整数)成膜用の物質を蒸発させて第N層の成膜を行ない、その後、続いて蒸発源5bから第N層成膜用の物質とは異なる第(N−1)層成膜用の物質を蒸発させて第(N−1)層の成膜を行ない、その後、蒸発源5aから第(N−1)層成膜用の物質とは異なる第(N−2)層成膜用の物質を蒸発させて第(N−2)層の成膜を行なうといったように、上記作業を繰り返すことにより、互いに異なる膜物質の薄膜を多層積層した光学フィルタを製造することができる。
【0012】
図3は、上記のようにして積層された多層膜の一例を示す模式図である。同図において、屈折率nsの基板3上に、合計L層の多層膜を積層している。基板3と反対側から順に、第1層、第2層、・・・第L層としており、第1層の屈折率はn1、第2層の屈折率はn2、第j層の屈折率はnj、第L層の屈折率はnLとしている。また、第1層の物理膜厚はd1、第2層の物理膜厚はd2、第j層の物理膜厚はdj、第L層の物理膜厚はdLとしており、光学膜厚は屈折率と物理膜厚の積であるから、例えばj層においてnjdjとなる。
【0013】
ここで、光学膜厚とモニタ光のエネルギー透過率との関係について述べ、上記コンピュータ14による成膜停止判断方法について述べる。図3に示したような全L層の多層膜について考えた場合、光学膜厚とモニタ光のエネルギー透過率との関係は、(数1)に示す多層膜のエネルギー透過率により与えられる。
【0014】
【数1】
【0015】
ここで、(数1)におけるパラメータm11、m12、m21、m22は、(数2)で与えられる全層での特性行列Mの各要素であり、各層(第1層から第L層)の特性行列Mj(j=1,2,3,・・・,L)の総積によって与えられる。第j層の特性行列Mjは(数3)で与えられ、(数3)に示すδjは、(数4)により表わされるものである。なお、上記の如く、njは第j層の屈折率、djは第j層の物理膜厚であり、λはモニタ光の波長である。また、(数2)、(数3)において、iは虚数である。
【0016】
【数2】
【0017】
【数3】
【0018】
【数4】
【0019】
そこで、(数4)に、第j層における光学膜厚の設計値をnjdjに代入し、(数1)〜(数4)を用いれば、第j層の成膜におけるモニタ光に対する最終的なエネルギー透過率の理論値が求まるので、j=1〜Lとしてそれぞれの層についてモニタ光に対する最終的なエネルギー透過率の理論値を求めることができる。
【0020】
周知の如く、バンドパスフィルタ等の光通信用に用いられる光学フィルタを製造するために成膜される多層膜のそれぞれの膜4の光学膜厚は、中心波長と呼ばれる膜厚設計用に定めた基準波長に予め定めた設定倍数を乗じた値に設計されるものであり、多くの光学フィルタにおいては、1つの膜4の光学膜厚を中心波長の約0.25(1/4)の整数倍とすることが多い。
【0021】
したがって、前記モニタ光として前記中心波長と等しい波長の光を用いれば、(数4)のδjはπ/2の整数倍となるため、各層の成膜はエネルギー透過率変化曲線(光学膜厚とエネルギー透過率の関係式)の極値で停止すればよいことになる。
【0022】
図4は、基板3上に全3層の多層膜を成膜した場合の光学膜厚とエネルギー透過率の関係を表わしたグラフであり、n1d1=n2d2=n3d3=λ/4とすると、各層は曲線の極値で成膜を停止すればよいことが分かる。
【0023】
そこで、従来は、エネルギー透過率の変化の方向(増加又は減少)が逆になった時点でエネルギー透過率の極値と判断したり、該極値の近傍で得られた光学膜厚(あるいはそれとほぼ比例する成膜時間)とエネルギー透過率との関係をフィッティング等により二次曲線や正弦波曲線等の単純な式に当てはめて、例えば図4の特性曲線の極値に達したことを判断し、各層の膜4の成膜停止判断を行なっていた。
【0024】
また、エネルギー反射率の変化に基づいて各層の成膜停止判断を行なうときにも、上記エネルギー透過率の変化に基づいて各層の成膜停止判断を行なうときと同様の判断により、各層の成膜停止判断を行なっていた。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のように、エネルギー透過率やエネルギー反射率の変化のみから直接光量変化の極値を求めて成膜停止判断を行なう方法では、この極値を判断できるのが必ず極値を越えた後であり、さらに、その判断にはある程度の時間を必要とするため、光学膜厚の誤差が大きくなってしまうといった問題があった。
【0026】
すなわち、コンピュータ等を用いて極値を判断する場合、ノイズ等による微小な揺らぎを極値と誤判断することを防止するために、エネルギー透過率あるいはエネルギー反射率が極値からある程度反対側に変化して初めて極値と判定するようにするのが一般的であり、極値の判断は、極値を越えて少し時間が経った後となる。また、この判断の後に、成膜を停止させる信号を成膜装置に伝えて実際に成膜を停止するまでにもある程度の時間を必要とするので、光学膜厚の誤差が大きくなるのを防ぐことができなかった。
【0027】
一方、エネルギー透過率あるいはエネルギー反射率の極値に達したことをフィッティングなどにより判断する方法を適用する場合、実際のエネルギー透過率あるいはエネルギー反射率の変化が二次曲線や正弦波曲線等の単純な式とほぼ一致することが重要となるが、そのように式と変化の状態がほぼ一致するのは、極値付近で微小範囲のデータを用いた場合のみである。
【0028】
そして、実際のエネルギー透過率あるいはエネルギー反射率は滑らかな曲線を描くことが稀であり、極めて狭い範囲においてあたかも極値のように見える変化が起こることも少なくない。そのため、間違った点を極値と判断してしまうおそれがあり、その場合、大きな膜厚誤差を生じてしまう。
【0029】
本発明は、上記課題を解決するために成されたものであり、その目的は、作製する膜の光学膜厚をより正確に制御することができる光学フィルタの成膜方法を提供することにある。
【0030】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は次のような構成をもって課題を解決するための手段としている。すなわち、第1の発明の光学フィルタの製造方法は、基板上に膜を成膜しながら予め定めた基準時刻を基準とした成膜時間を時刻tとし、前記基板上に成膜される膜にモニタ光を照射したときのエネルギー透過率とエネルギー反射率の少なくとも一方の光学特性を、該光学特性の理論式に基づいて理論定数ak(kは0以上の整数)を有する時刻tの関数f(t)により表現し、膜の成膜中に随時、時刻tにおいて前記膜にモニタ光を照射して測定される前記光学特性の実測値と前記関数f(t)から求められる光学特性理論値との差が最小になるように理論定数akを補正して適正定数ak’を求め、成膜される膜の光学膜厚が設定膜厚となる設定膜厚到達時刻を前記適正定数ak’に基づいて予測し、前記設定膜厚到達時刻に成膜を停止する構成をもって課題を解決する手段としている。
【0031】
また、第2の発明は、上記第1の発明の構成に加え、膜の成膜中に随時求められる適正定数ak’の変動量が予め定められた許容範囲内になってから設定膜厚到達時刻を予測し、その予測した設定膜厚到達時刻に成膜を停止する構成をもって課題を解決する手段としている。
【0032】
さらに、第3の発明は、上記第1又は第2の発明の構成に加え、前記関数f(t)は光学特性測定装置に起因する補正定数項を有する関数とした構成をもって課題を解決する手段としている。
【0034】
上記構成の本発明においては、予め定めた基準時刻を基準とした成膜時間を測定して時刻tとする。また、モニタ光を照射したときのエネルギー透過率とエネルギー反射率の少なくとも一方の光学特性を時刻tの関数f(t)により表現し、この関数f(t)が有する理論定数akを、関数f(t)と光学特性実測値に基づいて補正して適正定数ak’を求め、該適正定数ak’に基づいて膜の光学膜厚が設定膜厚となる設定膜厚到達時刻を予測する。
【0035】
上記設定膜厚到達時刻の予測は、上記のように光学特性の理論式に基づいて得られる関数f(t)の適正定数ak’に基づいて行われるので、非常に正確に行なうことができ、本発明では、この設定膜厚到達時刻に成膜を停止するので、従来例のように、成膜停止が遅れたり、成膜停止のタイミングを誤ったりすることはなく、設定膜厚の膜を正確に成膜することができ、正確な光学膜厚の光学フィルタを製造することができる。
【0037】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本実施形態例の説明において、従来例と同一名称部分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。
【0038】
本発明の光学フィルタの実施形態例は、図1に示すように、製品用基板3上に96層の膜(薄膜)4を成膜してなるバンドパスフィルタ(BPF)であり、例えば図2に示したような真空蒸着装置を用いて製造されている。
【0039】
上記96層の膜4の構成(設計)は、Ta2O5を中心波長(ここでは1550nm)の4分の1の光学膜厚で成膜したH層と、SiO2を中心波長の4分の1の光学膜厚で成膜したL層と、SiO2を中心波長の4分の6の光学膜厚で成膜した6L層を、基板3上に以下のように積層して形成するものとした。
【0040】
すなわち、媒質|L・(HL)7・H・6L・H・(LH)7・L・(HL)7・H・6L・H・(LH)7・L・(HL)7・H・6L・H・(LH)7|基板とした。
【0041】
ただし、(HL)7はH層とL層を交互に7層ずつ(計14層)積層することを意味するものとし、(LH)7はL層とH層を交互に7層ずつ(計14層)積層することを意味するものとする。
【0042】
また、本実施形態例において、前記基板3は膜4を蒸着する面の裏面に反射防止加工が施されている。
【0043】
本実施形態例の光学フィルタは、以下に示す特徴的な光学フィルタの製造方法を用いて製造されたものであり、以下、本実施形態例の光学フィルタの製造方法について説明する。なお、本実施形態例の光学フィルタの製造に関し、成膜時に基板3に照射する光(モニタ光)は前記中心波長と等しい波長の光を用いて行なった。
【0044】
まず、本実施形態例の光学フィルタの製造に際し、基板3上に膜を成膜しながら予め定めた基準時刻を基準とした成膜時間を時刻tとする。なお、本実施形態例においては、成膜する各層の膜4の成膜開始時を前記基準時刻(t=0)とした。
【0045】
そして、基板3上に成膜される膜4にモニタ光を照射したときの光学特性として、エネルギー透過率Tを、該エネルギー透過率Tの理論式に基づいて理論定数ak(kは0以上の整数)を有する時刻tの関数f(t)により表現することにした。
【0046】
以下、上記関数f(t)を求める手順について説明する。まず、図1に示すように、基板3の反対側から各層の膜4に番号を付す。ここで、第j層の膜4を成膜している場合に、既に成膜されている第96層の膜4から第(j+1)層の膜4の特性行列をMbとすると、Mbは、(数5)のように1つにまとめて表わすことができる。
【0047】
【数5】
【0048】
なお、(数5)におけるb11、ib12、ib21、b22は、第96層から第(j+1)層の各膜4の特性行列の積により求まる数であり、(数2)〜(数4)を用いて求められる。
【0049】
また、成膜中の層(ここではj層)の膜4の特性行列は(数3)で表わされるので、これらを合わせた特性行列は(数6)のように表わすことができる。
【0050】
【数6】
【0051】
また、前記の如く、多層膜のエネルギー透過率は、特性行列の各要素を用いて(数1)に示した理論式により表わされるので、第j層の膜4を成膜している場合のエネルギー透過率Tは、(数7)で表わすことができる。
【0052】
【数7】
【0053】
ただし、(数7)において、A,B,Cはそれぞれ、(数8)〜(数10)で表わされるように、定数を置き換えたものである。
【0054】
【数8】
【0055】
【数9】
【0056】
【数10】
【0057】
さらに、(数7)は(数12)および(数13)を満たす定数βを用いて、(数11)のように表わすことができる。
【0058】
【数11】
【0059】
【数12】
【0060】
【数13】
【0061】
また、ある一つの層の膜4を成膜している間は、(数4)のnjおよびλは常に一定と考えることができるため、(数4)の位相膜厚δjは物理膜厚djに比例すると考えることができる。さらに、薄膜の成膜では、一つの層における成膜中の成膜レート(単位時間当たりの物理膜厚の増加量)がほぼ一定になるようにコントロールするのが一般的であるため、物理膜厚djは成膜時間に比例することになる。
【0062】
以上のことから、(数11)は、(数14)のように、1つ以上の理論定数akを有する時刻tとエネルギー透過率Tとの関係式として表わすことができる。なお、(数14)において、理論定数akは4つであり、kは0以上の整数(0,1,2,3)である。
【0063】
【数14】
【0064】
また、本実施形態例では、例えば受光器12の暗電流等に記因する検出信号のオフセットを考慮して、(数14)の右辺に、光学特性測定装置としての受光器12に起因する補正定数a4の項を加えた式(数15)を、前記理論定数ak(k=0,1,2,3)を有する時刻tの関数f(t)とした。
【0065】
【数15】
【0066】
なお、補正定数a4は、例えば実際の成膜を行なう以前に受光器12を用いて前記光学特性の測定を行ないながら様々な膜の成膜を行ない、予め求められるものである。
【0067】
本実施形態例では、以上のようにして関数f(t)を決定し、前記基準時刻から現在時刻までの間の有限時間範囲内の各時刻tにおける膜4にモニタ光を照射して測定されるエネルギー透過率の実測値と、前記関数f(t)から求められる光学特性理論値(エネルギー透過率理論値)との差が最小になるように、非線形フィッティングにより理論定数akを補正して適正定数ak’を求めた。
【0068】
そして、成膜されるj層の膜4の光学膜厚が設定膜厚となる設定膜厚到達時刻を前記適正定数ak’(k=0,1,2,3)に基づいて予測し、前記設定膜厚到達時刻に成膜を停止することにした。
【0069】
なお、設定膜厚到達時刻の予測は以下のようにして行なう。すなわち、目的とする光学膜厚njdjから目的とする位相膜厚(2δj+β)の値を予め求めておく。そして、ある時刻において、それまでの各時刻tにおけるエネルギー透過率Tの実測値と透過率関数f(t)の誤差が最小になるような適正定数ak’(k=0,1,2,3)を求め、この適正定数を用いて、最適な(a2t+a3)と(2δj+β)の値が等しくなる時刻を設定膜厚到達時刻teとしている。
【0070】
すなわち、te={(2δj+β)−a3’}/a2’となるため、この式から膜厚到達時刻teの予測を行なう。
【0071】
なお、本実施形態例の光学フィルタの製造に関し、前記の如く、成膜時に基板3に照射する光(モニタ光)は前記中心波長と等しい波長の光を用いて行なっているので、各層の膜4の成膜は、エネルギー透過率変化曲線(光学膜厚とエネルギー透過率の関係式)の極値で停止すればよいことになる。そして、エネルギー透過率変化曲線が極値に近づくと、前記適正定数ak’が殆ど変動しなくなることが分かった。
【0072】
そこで、本実施形態例では、j層の膜4の成膜中に随時求められる上記適正定数ak’の変動量が予め定められた許容範囲内になってから(例えば適正定数ak’が殆ど変動しない一定の値となってから)予め定めた設定時間(例えば2〜3秒)が経過してから設定膜厚到達時刻teを予測し、その予測した設定膜厚到達時刻teに成膜を停止する構成とした。
【0073】
そして、図2のコンピュータ14が、停止信号を成膜装置の駆動部に送ってから駆動部による成膜停止が行われるまでの遅れ時間分だけ早いタイミングで、停止信号を送信するようにし、前記設定膜厚到達時刻に正確に成膜停止が行われるようにした。
【0074】
本実施形態例の光学フィルタは、上記光学フィルタの製造方法を用いて製造されたものであり、本実施形態例の光学フィルタは、挿入損失が0.26dBのバンドパスフィルタとなった。
【0075】
本実施形態例の光学フィルタは、上記のように、各膜4の成膜を前記設定膜厚到達時刻に停止して製造したものであり、設定膜厚到達時刻の予測は、上記のように光学特性の理論式に基づいて得られる関数f(t)の適正定数ak’に基づいて行われるので、正確に予測した設定膜厚到達時刻に成膜を停止することにより、設計通りの光学膜厚を有する光学フィルタとすることができる。
【0076】
特に、本実施形態例においては、コンピュータ14が、停止信号を成膜装置の駆動部に送ってから駆動部による成膜停止が行われるまでの遅れ時間分だけ早いタイミングで、停止信号を送信するようにすることで、停止信号を送信してから成膜停止までの間の信号処理に伴う遅れもなく、前記のように設計通りの光学膜厚を有する光学フィルタとすることができる。
【0077】
さらに、本実施形態例では、例えば受光器12の暗電流等に記因する検出信号のオフセットを考慮して、(数14)の右辺に定数a4を加えた式(数15)を関数f(t)として各層において最終的に成膜を停止する時刻を求めたために、上記オフセットの影響を受けることもなく、より一層正確に各膜4の光学膜厚が制御された光学フィルタとすることができる。
【0078】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されることはなく、様々な実施の態様を採り得る。例えば上記実施形態例では、前記基準時刻から予測停止時刻までの間の有限の時間範囲におけるエネルギー透過率の時系列データを求め、前記設定膜厚到達時刻を前記適正定数ak’(k=0,1,2,3)に基づいて予測し、前記設定膜厚到達時刻に成膜を停止することにしたが、前記時系列データの時間範囲は特に限定されるものではなく適宜設定されるものである。
【0079】
例えば、前記時系列データは、成膜レートが不安定な成膜開始時刻(基準時刻)直後のデータを除いた有限時間範囲について求めてもよい。
【0080】
また、上記実施形態例では、光学特性としてのエネルギー透過率を関数f(t)により表現し、この関数f(t)の理論定数akを補正し、適正定数ak’を求めたが、光学特性としてのエネルギー反射率を関数f(t)により表現し、同様に、その適正定数ak’を求めるようにしてもよい。なお、エネルギー反射率Rは、エネルギー透過率をTとしたときに、R=1−Tで表わされるため、エネルギー透過率Tの理論式からエネルギー透過率の関数f(t)を求めた手法を応用して、エネルギー反射率の関数f(t)を求めることができる。
【0081】
さらに、上記実施形態例は、エネルギー透過率の極値で各膜4の成膜を停止する構成としたが、各膜4の成膜停止基準は特に限定されるものではなく、設計光学膜厚とエネルギー透過率やエネルギー反射率との関係に基づいて適宜設定されるものである。そして、この関係に基づき、関数f(t)の適正定数ak’に基づいて予測する設定膜厚到達時刻の予測手法も適宜設定されるものである。
【0082】
【発明の効果】
本発明の光学フィルタの製造方法によれば、基板上の膜の光学特性の理論式に基づいて得られる関数f(t)の適正定数ak’に基づいて、成膜される膜の光学膜厚が設定膜厚となる設定膜厚到達時刻を予測し、この時刻に成膜を停止するので、成膜停止が遅れたり、成膜停止のタイミングを誤ったりすることはなく、設定膜厚の膜を正確に成膜することができ、正確な光学膜厚の光学フィルタを製造することができる。
【0083】
また、あらゆる光学膜厚の膜の成膜において、適正係数ak’の変動量が許容範囲内になってから設定膜厚到達時刻を予測し、その予測した設定膜厚到達時刻で成膜を停止するとよく、このようにすることで、光学膜厚を有する膜を正確に成膜することができる。
【0084】
さらに、本発明の光学フィルタの製造方法において、関数f(t)は光学特性測定装置に起因する補正定数項を有する関数とした構成によれば、光学特性測定装置のオフセット等による誤差の影響を受けることなく、より一層正確に設定膜厚の膜を成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光学フィルタの一実施形態例を屈折率n0の媒質中に配置した状態を模式的に示す断面説明図である。
【図2】光学フィルタの製造装置の一例を模式的に示す構成図である。
【図3】屈折率n0の媒質中で、屈折率nsの基板上に光学膜厚njdjの膜をL層成膜した状態を示す断面説明図である。
【図4】基板上に3層の膜を成膜していく際の光学膜厚とエネルギー透過率との関係例を示すグラフである。
【符号の説明】
1 成膜エリア
2 基板ホルダ
3 基板
4 薄膜
5a,5b 蒸発源
6a,6b 蒸発源シャッタ
7 光源
12 受光器
14 コンピュータ
Claims (3)
- 基板上に膜を成膜しながら予め定めた基準時刻を基準とした成膜時間を時刻tとし、前記基板上に成膜される膜にモニタ光を照射したときのエネルギー透過率とエネルギー反射率の少なくとも一方の光学特性を、該光学特性の理論式に基づいて理論定数ak(kは0以上の整数)を有する時刻tの関数f(t)により表現し、膜の成膜中に随時、時刻tにおいて前記膜にモニタ光を照射して測定される前記光学特性の実測値と前記関数f(t)から求められる光学特性理論値との差が最小になるように理論定数akを補正して適正定数ak’を求め、成膜される膜の光学膜厚が設定膜厚となる設定膜厚到達時刻を前記適正定数ak’に基づいて予測し、前記設定膜厚到達時刻に成膜を停止することを特徴とする光学フィルタの製造方法。
- 膜の成膜中に随時求められる適正定数ak’の変動量が予め定められた許容範囲内になってから設定膜厚到達時刻を予測し、その予測した設定膜厚到達時刻に成膜を停止することを特徴とする請求項1記載の光学フィルタの製造方法。
- 関数f(t)は光学特性測定装置に起因する補正定数項を有する関数としたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光学フィルタの製造方法。
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