JP2010138463A - 光学薄膜製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学膜厚制御装置は、容器内に成膜材料を飛散させ、基板に成膜材料を堆積させて光学薄膜を製造する光学薄膜製造装置の光学膜厚制御装置において、所定の非線形モデル式により推測される透過率と、成膜する膜に照射した測定光に対して受光器が計測した透過光又は反射光の検出光量値とに基づいて、目標光学膜厚情報を推定する目標光学膜厚推定手段と、目標光学膜厚情報までの到達時間を予測し、この到達時間に達したときに成膜終了を指示する予測制御手段とを備える。
【選択図】図1
Description
以下では、本発明の光学膜厚制御装置、方法及びプログラム、並びに光学薄膜製造装置の第1の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図1は、第1の実施形態の光学薄膜製造装置の構成を示す構成図である。図1において、第1の実施形態の光学薄膜製造装置100は、コンピューター101、投光器(透過測定用)102又は投光器(反射測定用)103、受光器104、水晶膜厚計105、蒸発源用電源106、真空容器107、ウインドウ108及び109、ドーム110、モニターガラス111、蒸発源112、シャッター113を少なくとも有して構成される。
以下では、第1の実施形態の光学薄膜製造装置100の光学膜厚制御処理の動作について図面を参照しながら説明する。
このように非線形最小二乗処理を行うことで、検出光量Iとエネルギー透過率T(n1,h1)との二乗和Sが最小となる屈折率n1及び膜厚h1を求める。
以上のように、第1の実施形態によれば、非線形最小二乗法による極値制御により、目標光学膜厚を推定し、この目標光学膜厚に達するまでの時間を予測して成膜処理を行うことができる。
次に、本発明の光学膜厚制御装置、方法及びプログラム、並びに光学薄膜製造装置の第2の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図5は、第2の実施形態の光学薄膜製造装置の構成を示す構成図である。図5に示す第2の実施形態の光学薄膜製造装置200は、コンピューター201の処理及び蒸発源用電源202の処理、及び、水晶膜厚計を備えない点で第1の実施形態と異なる。
次に、第2の実施形態の光学薄膜製造装置200の光学膜厚制御処理の動作について図面を参照しながら説明する。
以上のように、第2の実施形態によれば、第1の実施形態の効果に加えて、蒸発源への投入電力のフィードバック制御ができるので、水晶膜厚計を用意しなくても精度の高い膜厚制御を行うことができる。
次に、本発明の光学膜厚制御装置、方法及びプログラム、並びに光学薄膜製造装置の第3の実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図8は、第3の実施形態の光学薄膜製造装置の構成を示す構成図である。図8に示す第3の実施形態の光学薄膜製造装置300は、コンピューター301の処理、複数波長の光量計測が可能な受光器302を備える点が、第1及び第2の実施形態と異なる。
以上のように、第3の実施形態によれば、第1及び第2の実施形態の効果に加えて、制約条件(例えば、堆積物質の正確な屈折率や成膜速度の一定など)なく、屈折率分散n(λ)及び物理膜厚h1を精度良く求めることができる。また屈折率分散は成膜中のコンディションで変化し易いので逆を言えばこの値を管理することで生産安定性におおきく貢献できる
101、201及び301…コンピューター、
102…投光器(透過測定用)、103…投光器(反射測定用)、
104…受光器(モノクロメータ)、302…受光器(広帯域分光器)、
105…水晶膜厚計、106、202…蒸発源用電源、
107…真空容器、108…ウインドウ、109…ウインドウ、
110…ドーム、111…モニターガラス、112…蒸発源、113…シャッター。
Claims (8)
- 容器内に成膜材料を飛散させ、基板に上記成膜材料を堆積させて光学薄膜を製造する光学薄膜製造装置の光学膜厚制御装置において、
所定の非線形モデル式により推測される透過率と、成膜する膜に照射した測定光に対して受光器が計測した透過光又は反射光の検出光量値とに基づいて、目標光学膜厚情報を推定する目標光学膜厚推定手段と、
上記目標光学膜厚情報までの到達時間を予測し、この到達時間に達したときに成膜終了させる予測制御手段と
を備えることを特徴とする光学膜厚制御装置。 - 上記目標光学膜厚推定手段は、上記透過率及び上記検出光量値の差の二乗和が最小となるように非線形最小二乗和処理を行い、当該二乗和が最小となる膜厚及び光学パラメータを上記目標光学膜厚情報として推定するものであることを特徴とする請求項1に記載の光学膜厚制御装置。
- 上記受光器が単一波長の光量値を計測するものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学膜厚制御装置。
- 上記受光器が複数波長の各光量値を計測するものであり、
上記目標光学膜厚推定手段が、所定の非線形モデル式を用いて、屈折率分散により与えられる各波長の屈折率から各波長の透過率を推測し、この各波長の透過率と上記受光器からの各波長の検出光量値とに基づいて、目標光学膜厚情報を推定するものである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光学膜厚制御装置。 - 上記非線形最小二乗和処理で求められたパラメータを用いて推測される検出光量変化と、上記受光器が計測した実測検出光量変化との比較結果に基づいて成膜速度を調整する成膜速度調整手段を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光学膜厚制御装置。
- 容器内に成膜材料を飛散させ、基板に上記成膜材料を堆積させて光学薄膜を製造する光学薄膜製造装置の光学膜厚制御方法において、
目標光学膜推定手段が、所定の非線形モデル式により推測される透過率と、成膜する膜に照射した測定光に対して受光器が計測した透過光又は反射光の検出光量値とに基づいて、目標光学膜厚情報を推定する目標光学膜厚推定工程と、
予測制御手段が、上記目標光学膜厚情報までの到達時間を予測し、この到達時間に達したときに成膜終了をさせる予測制御工程と
を有することを特徴とする光学膜厚制御方法。 - 容器内に成膜材料を飛散させ、基板に上記成膜材料を堆積させて光学薄膜を製造する光学薄膜製造装置の光学膜厚制御プログラムにおいて、
コンピューターを、
所定の非線形モデル式により推測される透過率と、成膜する膜に照射した測定光に対して受光器が計測した透過光又は反射光の検出光量値とに基づいて、目標光学膜厚情報を推定する目標光学膜厚推定手段、
上記目標光学膜厚情報までの到達時間を予測し、この到達時間に達したときに成膜終了をさせる予測制御手段
として機能させることを特徴とする光学膜厚制御プログラム。 - 容器内に成膜材料を飛散させ、基板に上記成膜材料を堆積させて光学薄膜を製造する光学薄膜製造装置において、上記基板の成膜を制御する光学膜厚制御装置が請求項1〜5のいずれかに記載の光学膜厚制御装置であることを特徴とする光学薄膜製造装置。
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- 2008-12-12 JP JP2008317385A patent/JP2010138463A/ja active Pending
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